一種電容耦合式的等離子體處理裝置及其基片加工方法
阅读：533发布：2020-06-12
专利汇可以提供一種電容耦合式的等離子體處理裝置及其基片加工方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本發明涉及一種電容耦合式的等離子體處理裝置，其通過在反應腔內設置電場調節元件--“電場透鏡”，從而在反應腔內產生與原射頻電場方向相反的再生電場，來消減原有射頻電場產生的等離子體在基片表面刻蝕速率分佈的不均勻性；電場調節元件--“電場透鏡”還降低了反應腔體的等效品質因數Q值，從而展寬了射頻頻帶，並防止高壓電弧的產生。本發明還提供了一種利用該處理裝置進行基片加工的方法。，下面是一種電容耦合式的等離子體處理裝置及其基片加工方法专利的具体信息内容。
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