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W‑S‑C‑N自润滑梯度涂层刀具及其制备工艺

阅读:893发布:2023-06-14

专利汇可以提供W‑S‑C‑N自润滑梯度涂层刀具及其制备工艺专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种W‑S‑C‑N自润滑梯度涂层刀具及其制备工艺,刀具表面为W‑S‑C‑N梯度涂层,W‑S‑C‑N梯度涂层与刀具基体之间为Ti过渡层。制备工艺包括制备W‑S‑C复合靶、安装W‑S‑C复合靶、前处理、离子清洗、沉积Ti过渡层、沉积W‑S‑C‑N梯度层。本发明的W‑S‑C‑N自润滑梯度涂层刀具通过添加C元素、N元素,提高WS2涂层硬度,且W‑S‑C‑N涂层的梯度设计使涂层强度、涂层与刀具基体结合 力 增加,涂层内 应力 降 低,涂层使用寿命延长。W‑S‑C‑N自润滑梯度涂层刀具制备工艺方便,生产过程稳定可靠,该涂层刀具可广泛应用于干切削和难加工材料的切削加工。,下面是W‑S‑C‑N自润滑梯度涂层刀具及其制备工艺专利的具体信息内容。

1.一种W-S-C-N自润滑梯度涂层刀具,刀具基体材料为高速或硬质合金,其特征在于:刀具表面为W-S-C-N梯度涂层,W-S-C-N梯度涂层与刀具基体之间为Ti过渡层。
2.一种W-S-C-N自润滑梯度涂层刀具的制备工艺,其特征在于:沉积方式为电弧离子沉积Ti过渡层+中频磁控溅射沉积W-S-C-N梯度涂层,沉积时使用1个Ti靶、2个W-S-C复合靶,其制备工艺为:
(1)制备W-S-C复合靶:用数控加工方法在直径为101.6mm、厚度为4.7mm的C靶溅射区域中心位置均布加工10~15个沿圆周分布的盲孔,盲孔的直径小于溅射区域的宽度,盲孔的深度为3mm,在盲孔内分别放入与盲孔直径相同、厚度为5mm的WS2圆片和C圆片;
(2)安装W-S-C复合靶:在镀膜机中频磁控溅射靶安装位置安装2个W-S-C复合靶;
(3)前处理:将刀具基体表面抛光至镜面,去除表面污物,然后依次分别放入酒精和丙中,超声清洗各15~20min,去除刀具表面的油污和其他污物,电吹干燥充分后迅速放-3
入镀膜机真空室,抽真空至7.0×10 Pa,加热至100~250℃,保温30~40min;
(4)离子清洗:通Ar气,气压为1.5Pa,开启偏压电源,电压为800V,占空比为0.2,辉光清洗15min;偏压降至400V,开启离子源,开启电弧源Ti靶,电流调至65A,离子清洗2~3min;
(5)沉积Ti过渡层:调整Ar气压为0.5~0.6Pa,偏压降至200~300V,电弧镀Ti 3~
5min;
(6)沉积W-S-C-N梯度层:调整工作气压为0.6~1.0Pa,开启N2,调整N2初始流量为2~
9sccm,N2流量时间变化间隔为5min、10min、15min、20min、25min、30min、35min,每个时间间隔N2流量增加2~9sccm,N2流量最终增加至14~63sccm;开启Ar气,Ar气流量为60~70sccm;
开启2个中频磁控溅射W-S-C复合靶,W-S-C复合靶电流为1~2A,偏压调至100V,每隔28min调整偏压依次为100V、75V、50V、75V、100V,沉积W-S-C-N梯度层140min;
(7)后处理:关闭2个W-S-C复合靶,关闭离子源及气体源,关闭脉冲偏压,沉积涂层结束。
3.根据权利要求2所述的一种W-S-C-N自润滑梯度涂层刀具的制备工艺,其特征在于:
W-S-C-N梯度层中的N元素含量沿涂层厚度方向线性变化,在W-S-C-N梯度层最外子层N元素含量达到最大值。
4.根据权利要求2所述的一种W-S-C-N自润滑梯度涂层刀具的制备工艺,其特征在于:
通过调整W-S-C复合靶中C圆片的数量和调整通入N2流量来调整W-S-C-N梯度涂层中C元素含量原子百分比、N元素含量原子百分比,使W-S-C-N梯度涂层中C元素含量最佳原子百分比在10~45%之间,N元素含量最佳原子百分比在5~45%之间。

说明书全文

W-S-C-N自润滑梯度涂层刀具及其制备工艺

一、技术领域

[0001] 本发明属于机械切削刀具制造技术领域,特别是涉及一种W-S-C-N自润滑梯度涂层刀具及其制备工艺。二、背景技术
[0002] WS2涂层具有非常低的摩擦系数,本身具备自润滑性能。由于WS2本身具有的层状结构,在切削过程中,可在刀-屑、刀-工接触区形成一层WS2转移膜,从而降低刀-屑、刀工接触区的摩擦。但WS2涂层硬度很低,切削过程中,在高温、高压作用下极易磨损,限制了WS2涂层在刀具方面的应用。通过在WS2涂层中添加C元素、N元素等合金元素,可提高WS2涂层的硬度,提高WS2涂层刀具的性能,满足切削加工的要求。
[0003] 由于涂层与基体的材料不同,材料热膨胀系数的不同会在涂层内部形成较大的内应,从而降低涂层与基体结合力。采用梯度涂层可使涂层成分及性能沿厚度方向连续变化,改善涂层与基体的匹配性,提高涂层与基体的结合强度和涂层的摩擦磨损性能,提高涂层的断裂韧性
[0004] 中国专利(申请号:201410263737.2)报道了TiSiN-WS2/Zr-WS2涂层刀具及其制备工艺,该专利综合了TiSiN高硬度、高耐磨性和WS2涂层低摩擦系数,改善了刀具干切削性能,但由于WS2/Zr涂层Zr元素含量高,降低了涂层的自润滑性能。文献[Surface and Coatings Technology.2015,261:7-14]报道了W-S-N涂层的制备及摩擦性能,但是这种涂层硬度最高为9GPa,涂层硬度仍较低,限制了其广泛应用。文献[Plasma Process and Polymers.2009,6:417-424]报道了W-S-C涂层的制备及摩擦性能,但是这种涂层在温度高于400℃会很快磨损,较难满足干切削加工的要求。三、发明内容
[0005] 本发明的目的是提供一种W-S-C-N自润滑梯度涂层刀具及其制备工艺,该涂层刀具综合了在WS2涂层中添加合金元素C元素和N元素提高刀具涂层硬度的方法,涂层刀具的硬度得到较大提高,涂层刀具的切削性能得到改善。且W-S-C-N梯度层中N元素含量沿涂层厚度方向逐渐变化,降低了涂层的内应力,提高了涂层与基体的结合强度。
[0006] 本发明是通过以下方式实现的。
[0007] 一种W-S-C-N自润滑梯度涂层刀具,刀具基体材料为高速或硬质合金,刀具表面为W-S-C-N梯度涂层,W-S-C-N梯度涂层与刀具基体之间为Ti过渡层。
[0008] 一种W-S-C-N自润滑梯度涂层刀具制备工艺,沉积方式为电弧离子沉积Ti过渡层+中频磁控溅射沉积W-S-C-N梯度涂层,其具体工艺步骤为:
[0009] (1)制备W-S-C复合靶:用数控加工方法在直径为101.6mm、厚度为4.7mm的C靶溅射区域中心位置均布加工10~15个沿圆周分布的盲孔,盲孔的直径小于溅射区域的宽度,盲孔的深度为3mm,在盲孔内分别放入与盲孔直径相同、厚度为5mm的WS2圆片和C圆片;
[0010] (2)安装W-S-C复合靶:在镀膜机中频磁控溅射靶安装位置安装2个W-S-C复合靶;
[0011] (3)前处理:将刀具基体表面抛光至镜面,去除表面污物,然后依次分别放入酒精和丙中,超声清洗各15~20min,去除刀具表面的油污和其他污物,电吹干燥充分后迅速放入镀膜机真空室,抽真空至7.0×10-3Pa,加热至100~250℃,保温30~40min;
[0012] (4)离子清洗:通Ar气,气压为1.5Pa,开启偏压电源,电压为800V,占空比为0.2,辉光清洗15min;偏压降至400V,开启离子源,开启电弧源Ti靶,电流调至65A,离子清洗2~3min;
[0013] (5)沉积Ti过渡层:调整Ar气压为0.5~0.6Pa,偏压降至200~300V,电弧镀Ti 3~5min;
[0014] (6)沉积W-S-C-N梯度层:调整工作气压为0.6~1.0Pa,开启N2,调整N2初始流量为2~9sccm,N2流量时间变化间隔为5min、10min、15min、20min、25min、30min、35min,每个时间间隔N2流量增加2~9sccm,N2流量最终增加至14~63sccm;开启Ar气,Ar气流量为60~70sccm;开启2个中频磁控溅射W-S-C复合靶,W-S-C复合靶电流为1~2A,偏压调至100V,每隔28min调整偏压依次为100V、75V、50V、75V、100V,沉积W-S-C-N梯度层140min;
[0015] (7)后处理:关闭2个W-S-C复合靶,关闭离子源及气体源,关闭脉冲偏压,沉积涂层结束。
[0016] 通过调整W-S-C复合靶中C圆片的数量和调整通入N2流量来调整W-S-C-N梯度涂层中C元素含量原子百分比、N元素含量原子百分比,使W-S-C-N梯度涂层中C元素含量最佳原子百分比在10~45%之间,N元素含量最佳原子百分比在5~45%之间。
[0017] 通过上述工艺制备的W-S-C-N自润滑梯度涂层刀具,刀具表面为W-S-C-N梯度层,W-S-C-N梯度层与刀具基体之间具有Ti过渡层,可减小残余应力,提高涂层与基体间的结合强度。W-S-C-N自润滑梯度涂层刀具硬度的提高是通过以下方式实现的:(1)C元素的加入使WS2晶格发生畸变,产生固溶强化;(2)N元素的加入使WS2晶格发生畸变,产生固溶强化;(3)C元素的加入能与WS2中的W元素形成WC硬质和金相;(4)C元素、N元素之间能在涂层沉积过程中形成共价键。W-S-C-N自润滑梯度涂层刀具增韧机理为:将W-S-C-N层设计为梯度结构,N元素含量沿涂层厚度方向线性变化,在W-S-C-N梯度涂层最外子层N元素含量达到最大值,涂层硬度达到最大值;W-S-C-N梯度涂层内部硬度虽略有下降,但具有较强的断裂韧性,同时W-S-C-N涂层的梯度设计减少了W-S-C-N梯度层与过渡层之间的组分差异,提高了涂层与基体的结合力。
[0018] W-S-C-N自润滑梯度涂层刀具在切削过程中可在刀-屑、刀-工接触区形成WS2转移膜,可降低切削力和切削温度,减少粘结,减小刀具磨损,提高刀具使用寿命。W-S-C-N自润滑梯度涂层刀具具有较高的硬度、较低的摩擦系数,涂层的断裂韧性较高,涂层与基体的结合力较大,可广泛应用于干切削和难加工材料的切削加工。四、附图说明
[0019] 图1为本发明的W-S-C-N自润滑梯度涂层刀具的涂层结构示意图。
[0020] 图中:1为W-S-C-N梯度层1子层,2为W-S-C-N梯度层2子层,3为W-S-C-N梯度层3子层,4为W-S-C-N梯度层4子层,5为W-S-C-N梯度层5子层,6为W-S-C-N梯度层6子层,7为W-S-C-N梯度层7子层,1~7总称为W-S-C-N梯度层,8为Ti层,9为刀具基体。
[0021] 图2为本发明的W-S-C复合靶的结构示意图。
[0022] 图中:10为WS2圆片,11为C靶,12为C圆片。五、具体实施方式:
[0023] 下面给出本发明的两个最佳实施例
[0024] 实施例一:
[0025] W-S-C-N自润滑梯度涂层刀具及其制备工艺,该刀具基体9材料为YT15硬质合金车刀,刀具表面为W-S-C-N梯度涂层,W-S-C-N梯度涂层与刀具基体之间为Ti层8。沉积方式为:电弧离子镀沉积Ti过渡层+中频磁控溅射沉积W-S-C-N梯度涂层。其制备工艺步骤如下:
[0026] (1)制备W-S-C复合靶:用数控加工方法在直径为101.6mm、厚度为4.7mm的C靶11溅射区域中心位置均布加工10~15个沿圆周分布的盲孔,盲孔的直径为17mm,盲孔的深度为3mm,在盲孔内分别放入一定数量、直径为17mm、厚度为5mm的WS2圆片10和C圆片12;
[0027] (2)安装W-S-C复合靶:在镀膜机中频磁控溅射靶安装位置安装2个W-S-C复合靶;
[0028] (3)前处理:将YT15硬质合金车刀基体表面抛光至镜面,去除表面污物,然后依次放入酒精和丙酮中,超声清洗各15min,去除刀具表面的油污和其他污物,电吹风干燥充分后迅速放入镀膜机真空室,抽真空至7.0×10-3Pa,加热至200℃,保温30min;
[0029] (4)离子清洗:通Ar气,气压为1.5Pa,开启偏压电源,电压为800V,占空比为0.2,辉光清洗15min;偏压降至400V,开启离子源,开启电弧源Ti靶,电流调至65A,离子清洗2min;
[0030] (5)沉积Ti过渡层:调整Ar气压为0.5Pa,偏压降至200V,电弧镀Ti 3min;
[0031] (6)沉积W-S-C-N梯度层:调整工作气压为0.7Pa,开启N2,调整N2初始流量为4sccm,N2流量时间变化间隔为5min、10min、15min、20min、25min、30min、35min,每个时间间隔N2流量增加4sccm,N2流量最终增加至28sccm;开启Ar气,Ar气流量为70sccm;开启2个中频磁控溅射W-S-C复合靶,W-S-C复合靶电流为1.5A,偏压调至100V,每隔28min调整偏压依次为100V、75V、50V、75V、100V,沉积W-S-C-N梯度层140min;
[0032] (7)后处理:关闭2个W-S-C复合靶,关闭离子源及气体源,关闭脉冲偏压,沉积涂层结束。
[0033] 沉积后的W-S-C-N梯度层,包括W-S-C-N梯度层1子层1,W-S-C-N梯度层2子层2,W-S-C-N梯度层3子层3,W-S-C-N梯度层4子层4,W-S-C-N梯度层5子层5,W-S-C-N梯度层6子层6,W-S-C-N梯度层7子层7。
[0034] 通过调整W-S-C复合靶中C圆片的数量和调整通入N2流量来调整W-S-C-N梯度涂层中C元素含量原子百分比、N元素含量原子百分比,使W-S-C-N梯度涂层中C元素含量最佳原子百分比在10~45%之间,N元素含量最佳原子百分比在5~45%之间。
[0035] 实施例二:
[0036] W-S-C-N自润滑梯度涂层刀具及其制备工艺,该刀具基体9材料为W18Cr4V高速钢麻花钻,刀具表面为W-S-C-N梯度涂层,W-S-C-N梯度涂层与刀具基体之间为Ti层8。沉积方式为:电弧离子镀沉积Ti过渡层+中频磁控溅射沉积W-S-C-N梯度涂层。其制备工艺步骤如下:
[0037] (1)制备W-S-C复合靶:用数控加工方法在直径为101.6mm、厚度为4.7mm的C靶11溅射区域中心位置均布加工10~15个沿圆周分布的盲孔,盲孔的直径为17mm,盲孔的深度为3mm,在盲孔内分别放入一定数量、直径为17mm、厚度为5mm的WS2圆片10和C圆片12;
[0038] (2)安装W-S-C复合靶:在镀膜机中频磁控溅射靶安装位置安装2个W-S-C复合靶;
[0039] (3)前处理:将W18Cr4V高速钢麻花钻刀具基体表面用1000号砂纸打磨,去除表面污物,然后依次放入酒精和丙酮中,超声清洗各20min,去除刀具表面的油污和其他污物,电吹风干燥充分后迅速放入镀膜机真空室,抽真空至7.0×10-3Pa,加热至250℃,保温40min;
[0040] (4)离子清洗:通Ar气,气压为1.5Pa,开启偏压电源,电压为800V,占空比为0.2,辉光清洗15min;偏压降至400V,开启离子源,开启电弧源Ti靶,电流调至65A,离子清洗3min;
[0041] (5)沉积Ti过渡层:调整Ar气压为0.6Pa,偏压降至300V,电弧镀Ti 5min;
[0042] (6)沉积W-S-C-N梯度层:调整工作气压为0.8Pa,开启N2,调整N2初始流量为6sccm,N2流量时间变化间隔为5min、10min、15min、20min、25min、30min、35min,每个时间间隔N2流量增加6sccm,N2流量最终增加至42sccm;开启Ar气,Ar气流量为65sccm;开启2个中频磁控溅射W-S-C复合靶,W-S-C复合靶电流为2A,偏压调至100V,每隔28min调整偏压依次为100V、75V、50V、75V、100V,沉积W-S-C-N梯度层140min;
[0043] (7)后处理:关闭2个W-S-C复合靶,关闭离子源及气体源,关闭脉冲偏压,沉积涂层结束。
[0044] 沉积后的W-S-C-N梯度层,包括W-S-C-N梯度层1子层1,W-S-C-N梯度层2子层2,W-S-C-N梯度层3子层3,W-S-C-N梯度层4子层4,W-S-C-N梯度层5子层5,W-S-C-N梯度层6子层6,W-S-C-N梯度层7子层7。
[0045] 通过调整W-S-C复合靶中C圆片的数量和调整通入N2流量来调整W-S-C-N梯度涂层中C元素含量原子百分比、N元素含量原子百分比,使W-S-C-N梯度涂层中C元素含量最佳原子百分比在10~45%之间,N元素含量最佳原子百分比在5~45%之间。
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