专利汇可以提供Exposure device专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且PURPOSE:To perform fine alignment at high speed and high accuracy, by a method wherein material having piezo-electric effect is used at driving part of a fine adjustment stage to perform accurate positioning between a mask and a base plate. CONSTITUTION:A fine adjustment stage 1 is held on an XY base 2 through an air spring by a piezo-electric element 4 of BaTiO3 applied to spring copper surface and a spring 3. If electric field is applied to the element 4 from outside, balance with the spring 3 varies and the position of the fine adjustment stage 1 can be easily determined at accuracy within 0.1mum.,下面是Exposure device专利的具体信息内容。
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