专利汇可以提供一种大功率全气密半导体模块封装结构专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 涉及电 力 (功率) 电子 学领域,并且更具体地涉到一种大功率全气密半导 体模 块 封装结构,包括导热 底板 、金属密封框、内部陶瓷 基板 、连接柱、 半导体 芯片、 电路 连接金属线、陶瓷封盖、小封盖、管脚,其中金属密封框、导热底板、内部陶瓷基板、 半导体芯片 依次 焊接 在一起,电路连接金属线的两端通过常规 超 声波 或加热结合 超声波 的键合设备分别键合在半导体芯片和内部陶瓷基板上形成电路通路,构成气密半导体模块的内部腔体。本发明的有益效果是可用于大功率半导体模块(含大尺寸芯片、多芯片)的 气密封装 ,有效解决了大功率半导体模块气密封装的难题,同时降低了成本,能够达到欧美对航空航天及军用半导体元件寿命的最高要求。,下面是一种大功率全气密半导体模块封装结构专利的具体信息内容。
1.一种大功率全气密半导体模块封装结构,其特征在于:包括导热底板、金属密封框、 内部陶瓷基板、连接柱、半导体芯片、电路连接金属线、陶瓷封盖、小封盖、管脚,其中金属密 封框、导热底板、内部陶瓷基板、半导体芯片依次焊接在一起,电路连接金属线的两端通过 常规超声波或加热结合超声波的键合设备分别键合在半导体芯片和内部陶瓷基板上形成 电路通路,构成气密半导体模块的内部腔体;连接柱底端焊接在内部陶瓷基板上,陶瓷封盖 焊接在金属密封框上,连接柱上端与陶瓷封盖焊接在一起,构成半导体芯片与陶瓷封盖之 间的导电通路;管脚焊接在陶瓷封盖上,管脚直接与外部连接,通过连接柱、陶瓷封盖、内部 陶瓷基板、电路连接金属线与半导体芯片形成导电通路;小封盖与陶瓷封盖在保护性气氛 中焊接在一起,成为气密封装的最终封盖。
2.根据权利要求1所述的一种大功率全气密半导体模块封装结构,其特征在于:所述半 导体模块封装结构还包括外壳,用于保护大功率全气密半导体模块内部结构,外壳用外壳 压套与导热底板压在一起,外壳上设有螺母放置槽,管脚穿过外壳向螺母放置槽方向弯曲 与外壳接触。
3.根据权利要求2所述的一种大功率全气密半导体模块封装结构,其特征是:所述外壳 由电绝缘材料制成。
4.根据权利要求1或2所述的一种大功率全气密半导体模块封装结构,其特征在于:连 接柱和管脚的底部均浸有焊锡。
5.根据权利要求1所述的一种大功率全气密半导体模块封装结构,其特征是:导热底板 上有凹槽。
6.根据权利要求1所述的一种大功率全气密半导体模块封装结构,其特征是:金属密封 框呈台阶结构,与导热底板采用焊锡焊接。
7.根据权利要求1所述的一种大功率全气密半导体模块封装结构,其特征是:陶瓷封盖 上设计有密封孔。
标题 | 发布/更新时间 | 阅读量 |
---|---|---|
摩擦电子学晶体管及与非门、触发器、寄存器和计数器 | 2020-05-14 | 53 |
一种大功率半导体模块混合封装结构及其方法 | 2020-05-23 | 368 |
一种支持双屏媒体播放的台卡 | 2020-05-12 | 340 |
一种在移动设备充电结束后自动切断充电电源的装置 | 2020-05-19 | 702 |
Method of shoot-through generation for modified sine wave Z-source, quasi-Z-source and trans-Z-source inverters | 2020-05-18 | 1006 |
METHOD OF SHOOT-THROUGH GENERATION FOR MODIFIED SINE WAVE Z-SOURCE, QUASI-Z-SOURCE AND TRANS-Z-SOURCE INVERTERS | 2020-05-25 | 1000 |
Integrated circuit implementation and fault control system, device, and method | 2020-05-26 | 736 |
METHOD FOR INDUSTRIAL MANUFACTURING OF A SEMICONDUCTOR STRUCTURE WITH REDUCED BOWING | 2020-05-12 | 201 |
WIRELESS IMPLANTABLE POWER RECEIVER SYSTEM AND METHODS | 2020-05-15 | 1022 |
主動式功因修正器 | 2020-05-24 | 312 |
高效检索全球专利专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台,是提供专利分析,专利查询,专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。
我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据,免费查、免费专利分析。
专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析,涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度,系统通过AI智能系统对图表进行解读,只需1分钟,一键生成行业专利分析报告。