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Method for oxidizing compound in electrochemical cell

阅读:0发布:2023-06-28

专利汇可以提供Method for oxidizing compound in electrochemical cell专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrochemical method for partially oxidizing an organic compound. SOLUTION: In an electrochemical cell composed of an anode, a cathode and an oxygen ion conductive solid electrolyte, an organic compound is passed through the anode containing an electrically conductive material while coming in contact with it and mixed oxide expressed by the formula I: A1 BmX7nX8oX9pX10qX11rX12sOt, and also, a gas containing oxygen or N2O is passed through the cathode while being in contact with it, so that the organic compound is oxidized.,下面是Method for oxidizing compound in electrochemical cell专利的具体信息内容。

【特許請求の範囲】
  • 【請求項1】 アノード、カソードおよび酸素イオン伝導性固体電解質からなる電気化学的セル中で、有機化合物を酸化させる方法において、導電性材料と、式I: A 10 11 12 (I) [式中、A、Bは元素の周期律表の第1主族、第2主族および/または第5主族の元素、および/または第4副族、第5副族、第6副族、第7副族、第8副族の元素を表わし、X はV、Nb、Cr、W、Ta、Ga、および/またはCeを表わし、X はLi、Na、K、R
    b、Cs、Be、Mg、Ca、Srおよび/またはBa
    を表わし、X はLa、Ce、Pr、Nd、Pm、S
    m、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Y
    b、Lu、Cu、Ag、Au、Pdおよび/またはPt
    を表わし、X 10はFe、Co、Niおよび/またはZ
    nを表わし、X 11はSn、Pb、Sbおよび/またはTeを表わし、X 12はTi、Zr、Siおよび/またはAlを表わし、この場合、lは0.001〜30であり、mは0.001〜20であり、nは0〜15であり、oは0.001〜10であり、pは0〜10であり、qは0〜40であり、rは0〜10であり、およびsは0〜80であり、但し、l+mは0.01以上であり、かつl+oは0.005以上である]で示される混合酸化物とからなる混合物を含有するアノードに、有機化合物を接触通過させ、かつカソードに酸素またはN
    Oを含有するガスを接触通過させることを特徴とする、
    電気化学的セル中の有機化合物の酸化法。
  • 【請求項2】 導電性材料として、金属、金属酸化物または混合金属酸化物を使用する、請求項1記載の方法。
  • 【請求項3】 導電性材料として、一般式II: Ln (II) [式中、LnはLa、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、
    Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Ybおよび/またはLuを表わし、X はCa、Sr、Ba、および/またはMgを表わし、X はGa、Al、Mn、
    Ti、Nb、Y、Wおよび/またはZrを表わし、X
    はFe、Co、Niおよび/またはCuを表わし、aは0.1〜0.9であり、bは0.1〜0.9であり、cは0
    〜0.9であり、dは0〜0.9であり、但し、a+bは0.3〜1.5である]で示される灰チタン石を使用する、請求項1または2記載の方法。
  • 【請求項4】 導電性材料として、一般式III: (Ln (X (III) [式中、LnはLa、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、
    Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Ybおよび/またはLuを表わし、X はNa、Mg、Caおよび/またはSrを表わし、X はTi、Nb、Taおよび/またはZrを表わし、X はFe、Al、Sc、G
    aおよび/またはYを表わし、fは0.2〜1.2であり、gは0〜0.8であり、hは0.2〜1.2であり、
    iは0〜0.8である]で示されるパイロクロル化合物を使用する、請求項1または2記載の方法。
  • 【請求項5】 導電性材料として、CeO 、またはL
    、Y 、Yb 、Gd によって安定化されたCeO を使用する、請求項1または2記載の方法。
  • 【請求項6】 導電性材料として、銅、銀、金、白金、
    パラジウムおよび/またはイリジウム、および/またはこれらの合金を使用する、請求項1または2記載の方法。
  • 【請求項7】 少なくとも25質量%までのアノード材料の混合物が、式Iの混合酸化物からなる、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。
  • 【請求項8】 酸素イオン伝導性固体電解質が、酸化セリウム(CeO )からなるか、または酸化ランタン(La )、酸化イットリウム(Y )、酸化イッテルビウム(Yb )および/または酸化ガドリニウム(Gd )を用いて安定化した酸化セリウム(CeO )からなる、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。
  • 【請求項9】 酸素イオン伝導性固体電解質が、酸化ジルコニウム(ZrO )からなるか、または酸化カルシウム(CaO)、酸化スカンジウム(Sc )、酸化イットリウム(Y )および/または酸化イッテルビウム(Yb )を用いて安定化した酸化ジルコニウム(ZrO )からなる、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。
  • 【請求項10】 酸素イオン伝導性固体電解質が、金属、混合金属酸化物または金属酸化物である、請求項1
    から9までのいずれか1項記載の方法。
  • 【請求項11】 酸素イオン伝導性固体電解質が、一般式II: Ln (II) [式中、LnはLa、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、
    Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Ybおよび/またはLuを表わし、X はCa、Sr、Ba、および/またはMgを表わし、X はGa、Al、Mn、
    Ti、Nb、Y、Wおよび/またはZrを表わし、X
    はFe、Co、Niおよび/またはCuを表わし、aは0.1〜0.9であり、bは0.1〜0.9であり、cは0
    〜0.9であり、dは0〜0.9であり、但し、a+bは0.3〜1.5である]で示される灰チタン石である、請求項1から10までのいずれか1項記載の方法。
  • 【請求項12】 酸素イオン伝導性固体が、一般式II
    I: (Ln (X (III) [式中、LnはLa、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、
    Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Ybおよび/またはLuを表わし、X はNa、Mg、Caおよび/またはSrを表わし、X はTi、Nb、Taおよび/またはZrを表わし、X はFe、Al、Sc、G
    aおよび/またはYを表わし、fは0.2〜1.2であり、gは0〜0.8であり、hは0.2〜1.2であり、
    iは0〜0.8である]で示されるパイロクロル化合物である、請求項1から10までのいずれか1項記載の方法。
  • 【請求項13】 酸素イオン伝導性固体電解質とアノードとの間に、最大で250μmの厚さを有する金属フィルムが存在する、請求項1から12までのいずれか1項記載の方法。
  • 【請求項14】 金属フィルムが、Cu、Au、Ag、
    Pt、Pdおよび/またはIr、これらの金属の混合物または合金からなる、請求項13記載の方法。
  • 【請求項15】 カソ−ドが金属からなる、請求項1から14までのいずれか1項記載の方法。
  • 【請求項16】 カソードがCu、Au、Ag、Pt、
    Pd、Ir、これらの金属の混合物または合金からなる、請求項15記載の方法。
  • 【請求項17】 カソードが、1つまたは複数の金属酸化物または金属混合酸化物からなる、請求項1から14
    までのいずれか1項記載の方法。
  • 【請求項18】 カソードが、一般式IV: La 13 14 15 16 3±z (IV) [式中、X 13はCe、Pr、Nd、Pm、Sm、E
    u、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Ybおよび/またはLuを表わし、X 14はCa、Sr、Baおよび/またはMgを表わし、X 15はMn、Fe、Ti、
    Ga、Mnおよび/またはZrを表わし、X 16はC
    o、Ni、Cu、Alおよび/またはCrを表わし、u
    は0〜1.2であり、vは0〜1.0であり、wは0.0
    1〜0.8であり、但し、u+v+wは1.5以下であり、xは0.2〜1.3であり、yは0〜0.9であり、
    但し、x+yは0.3以上である]で示される灰チタン石からなる、請求項17記載の方法。
  • 【請求項19】 有機化合物として、エタン、プロパン、エテン、エチン、プロペン、ベンゾール、トルオール、ブタン、ブタジエン、ブテン、シクロヘキサン、オクタン、オクテン、シクロドデカンまたはシクロドデセンを使用する、請求項1から18までのいずれか1項記載の方法。
  • 说明书全文

    【発明の詳細な説明】

    【0001】

    【発明の属する技術分野】本発明は、部分酸化された有機化合物を選択的に製造するための電気化学的方法に関する。

    【0002】

    【従来の技術】有機化合物の直接選択的酸化は、従来いくつかの場合にのみ可能であった。 それというのも、部分的に酸化された生成物は、大抵使用されるエダクトよりも反応性であり、それによって二酸化炭素形成下での完全な酸化をもたらすからである。 殊にアルカンおよび芳香族化合物の直接酸化の問題は、今日に至るまで申し分のない解決を見ていない。

    【0003】例外はn−ブタンからマレイン酸無物への直接酸化であるが、この場合、環形成による酸化生成物の安定化が、決定的な役割を果たす。

    【0004】非反応性有機化合物の部分的直接酸化の場合、多くの実験は、新規の不均一触媒の開発に集中している。 しかしこの場合、部分酸化された生成物の収量はしばしば、工業的に重要ではない。

    【0005】これに反して電気化学的部分酸化は、それほど注目されなかった。 この分野では逆に、燃料電池中での電気エネルギー生産に適当な化合物の全酸化を使用することが、開発作業で優先されていた。

    【0006】有機化合物の電気化学的酸化の例は、米国特許第4329208号明細書中に、エテンから酸化エチレンへの酸化に基づき記載されている。 この酸化は、
    銀もしくは銀合金からなるアノードで、酸化ジルコニウムからなる固体電解質系を用いて行われる。

    【0007】もう1つの有機化合物の電気化学的酸化の方法は、米国特許第4661422号明細書中に開示されている。 この場合、炭化水素は電解質としての塩溶融液中の金属/金属酸化物−アノードで酸化される。 塩溶融液は炭酸塩、硝酸塩または硫酸塩を含有し、カソードは元素周期律表の第IB族、第IIB族、第IIIA
    族、第VB族、第VIB族、第VIIB族および第VI
    IIB族の金属の混合酸化物から構成されている。

    【0008】タケヒラ(Takehira)他は、Catalysis Toda
    y 1995, 25, 371の中で、燃料電池に類似した構造体中でのプロペンの部分酸化を試験した。 電解質としては、
    Yによって安定化されたZrO が使用された。 アノード材料としては、触媒としてMo−Bi−混合酸化物を担持したAuが使用され、かつカソード材料としては、
    Agが使用された。 反応温度は475℃であった。

    【0009】それぞれ望まれる酸化生成物の収量は一般に、これらの方法のどれもが工業的に重要性を有しないほど低い。 この場合も、有機サブストレートの二酸化炭素への全酸化の問題は未だ解決されていない。 その上、
    電解質は“酸素ポンプ”として作用し、すなわち、酸化に必要とされる酸素はカソードで還元され、その結果、
    次にイオンの形で電解質を通してアノードへと移動する。 アノード室中には、酸化されるべきサブストレートおよび場合によっては不活性ガスだけが存在する。 アノード室中への酸素の供給は、望まれる酸化生成物の収量増大を生じない。

    【0010】反応温度が、電解質の酸素伝導率から測定されることもまた、欠点である。 使用される電解質はまず、そのような酸化反応に最適な温度を明らかに上回る温度で十分な導電性を有し、このことが確かに部分的に、試験される方法の選択性が少ないことを説明している。

    【0011】殊に塩溶融液を電解質として使用する方法は、必然的に、生成物の分解がほとんど回避され得ないほどの高い反応温度(750℃に至るまで)を有する。
    この種の方法は、熱的に不安定な化合物(例えばマイケル系(Michael-Systeme))の製造には不適当である。

    【0012】NEMCA−効果(触媒活性の非ファラデー的電気化学変性 Non Faradaic Elektrochemical Modi
    fication of Catalytic Activity)の発見は、経済的な電気化学的方法を開発する可能性を開いた。 バイェナス
    (Vayenas)他は、“Studies in Surface Science and Ca
    talysis”, RK Grasselli, ST Oyama, AM Gaff
    ney, JE Lyons (Editors), 110, 77 (1997) および
    Science (1994), 264,1563 中に、固体電解質、例えばY−安定化ZrO 上での導電性の多孔性金属(金属酸化物)薄膜に基づく電気化学的方法を記載している。 アノード室およびカソード室のガス封止性分離は、ここではもはや不必要であり、かつ酸化剤はアノード室中に一緒に供給することができる。 しかし、酸化の主要生成物、二酸化炭素は、依然としてサブストレートの全酸化から生じており、かつ望まれる部分的に酸化された生成物に対する選択性自体、変換率の少ない場合著しく低いことが判明した。

    【0013】

    【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の課題は、有機化合物を部分的に酸化するための電気化学的方法の開発であった。

    【0014】

    【課題を解決するための手段】驚くべきことに、アノード材料が元素の周期律表の第1、第2または第5主族および/または第4〜8副族の金属の混合酸化物を含有する場合、およびこのアノード材料に導電性固体が混入される場合、有機化合物は電気化学的に、良好な収量を有して酸化されうることが見い出された。

    【0015】したがって、本発明の対象はアノード、カソードおよび酸素イオン伝導性固体電解質からなる電気化学的セル中で、有機化合物を酸化させる方法であり、
    この場合、導電性材料と、式I: A 10 11 12 (I) [式中、A、Bは元素の周期律表の第1主族、第2主族および/または第5主族の元素、および/または第4副族、第5副族、第6副族、第7副族、第8副族の元素を表わし、X はV、Nb、Cr、W、Ta、Ga、および/またはCeを表わし、X はLi、Na、K、R
    b、Cs、Be、Mg、Ca、Srおよび/またはBa
    を表わし、X はLa、Ce、Pr、Nd、Pm、S
    m、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Y
    b、Lu、Cu、Ag、Au、Pdおよび/またはPt
    を表わし、X 10はFe、Co、Niおよび/またはZ
    nを表わし、X 11はSn、Pb、Sbおよび/またはTeを表わし、X 12はTi、Zr、Siおよび/またはAlを表わし、この場合、lは0.001〜30であり、mは0.001〜20であり、nは0〜15であり、oは0.001〜10であり、pは0〜10であり、qは0〜40であり、rは0〜10であり、およびsは0〜80であり、但し、l+mは0.01以上であり、かつl+oは0.005以上である]で示される混合酸化物とからなる混合物を含有するアノードに、有機化合物を接触通過させ、かつカソードに酸素またはN
    Oを含有するガスを接触通過させることを特徴とする。

    【0016】酸素原子の数値tは、式Iの酸素以外の元素の頻度および原子価によって決定される。

    【0017】好ましくは、25質量%までのアノード材料の混合物は、式Iの混合酸化物からなる。

    【0018】本発明による方法を用いて、多数の有機化合物、例えば芳香族化合物、脂肪族化合物、オレフィン、脂環式化合物または複素環式化合物は、選択的に酸化されることができる。 殊に本発明は、エタン、エテン、エチン、プロパン、プロペン、プロピン、ブタン、
    イソブタン、ブテン、イソブテン、ブチン、ブタジエン、イソプレン、ペンタン、ペンテン、ペンタジエン、
    ヘキサン、ヘキセン、ヘキサジエン、シクロヘキサン、
    シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、オクタン、オクテン、オクタジエン、シクロオクテン、シクロオクタジエン、ビニルシクロヘキサン、ビニルシクロヘキセン、
    シクロドデカン、シクロドデセン、シクロドデカトリエン、シクロドデカノール、シクロドデカノン、トリメチルシクロヘキサノール、ベンゾール、トルオール、t−
    ブチルトルオール、オルト−キシロール、メタ−キシロール、パラ−キシロール、クモール、クミルベンゾール、シクロドデシルベンゾール、n−ブチルベンゾール、エチルベンゾール、t−ブチルベンゾール、メトキシトルオールおよびフェノキシトルオールの酸化に適当である。 また、炭化水素を供給することによって、合成ガス、すなわち水素+一酸化炭素、を製造することも可能である。

    【0019】アノード材料に導電性材料を添加することによって、酸化反応の収量は明らかに増大される。 しばしば、導電性の記載には電気体積抵抗率(electr
    ical volume resistivity)が使用される。 これはDINIEC93により測定され、
    かつオーム・cmの単位で記載される。 10 オーム・
    cm未満の電気体積抵抗率を有する物質、例えば本発明により使用される金属、金属酸化物、混合金属酸化物、
    灰チタン石およびパイロクロル化合物は、好ましく使用可能である。 有利に電気体積抵抗率は、10 オーム・
    cm未満であり、特に好ましくは10 オーム・cm未満である。

    【0020】この効果が実際のところ、アノードの導電性の変化の問題であるか、またはカソードから固体電解質を通ってアノードに至る酸素イオンの運搬促進の問題であるか、または酸素イオンの再結合の一時回避の問題であるか、またはアノード表面上での周囲酸素から解離酸素への移動の問題であるかは、そのままにしておかれてよく、この場合に重要であるのは、電気体積抵抗率が10 オーム・cmを下回ることである。

    【0021】導電性材料は、例えば式IIによる灰チタン石および、例えば式IIIによるパイロクロル化合物、金属酸化物または金属、有利に銅、銀、金、白金、
    パラジウムおよびイリジウムである。

    【0022】例えば式IIによる灰チタン石またはパイロクロル化合物が使用される場合、全酸化を最小化するため、もしくは排除するため、アノードの最上層を純粋な触媒層で、すなわち導電材料の添加なしに、被覆することが有利であり得る。

    【0023】式Iによる混合酸化物と導電性材料とからなる混合物は、強な機械的混合によって製造されることができる。 原理的に、小規模の場合このためには従来の研磨皿を使用することができる。 しかし、商業的に得られる球形混合機、円錐形混合機、パールミルおよび他の混合装置の使用は、さらに良好である。

    【0024】本発明の範囲内での“混合酸化物”の名称は、混在する金属酸化物としての多金属酸化物材料を含む。 いずれにせよ、混合酸化物の化学量論および温度処理に依存して、相分離が可能である。

    【0025】前記の型の混合酸化物は、しかし他の工業分野から公知であり、および例えば気相反応のための不均一触媒として使用される。 これらの化合物の製造および使用は、例えば欧州特許第0417723号明細書中で参照されることができる。

    【0026】不均一触媒としてのこの型の混合酸化物の使用は、電流なしで進行する化学反応の場合に公知であり、電気化学的プロセス中でのアノード材料としての本発明による使用は、文献中に記載されていない。

    【0027】電気化学プロセスには、アノード材料として特に例えば次の混合酸化物が適当である: a)Mo 9.57 Bi 0.86 Fe 6.4 Co 3.2
    0.05酸化物 b)Mo 12 Bi 0.5 Fe Co Ca 0.1
    0.1酸化物 c)Mo 12 Bi Fe Co Ca 0.10.1酸化物 d)Mo 12 Bi 0.98 Ni 6.34 Fe 1.35
    1.35 Si 10 .05 Na 0.15酸化物 e)Mo 11 Cu Sr 0.5 Al 酸化物。

    【0028】実験式中でより少ない係数を有する、いわゆる混合酸化物の実験式の記載も見られる。 例えば、混合酸化物c)=Mo 12 Bi Fe Co Ca 0.1
    .1酸化物を、数値12によって割ることができる。 それにより、前記の実験式c)と一致する生成物が生じる: MoBi 0.416 Fe 0.33 Co 0.66 Ca
    0.0830.083酸化物 このことは、多くの場合、式中に含有される成分の割合にもとづいてのみ、明確な説明を行えることを意味している。

    【0029】アノード自体は、全部または部分的に、式Iの混合酸化物と添加される導電性材料とから形成することができる。 また、例えば白金からなる1つの電極は、この混合酸化物からなる表面を有することができる。 しかしいずれにせよ、アノード材料に、塗布または焼結プロセス前に、導電性材料、例えば金属、金属酸化物または混合金属酸化物を混入することが重要であり、
    その結果、少なくともアノード表面は、金属酸化物と導電性材料とからなる混合物から形成される。

    【0030】アノード材料に、伝導性の改善のため、導電性金属、例えば銅、銀、金、白金、パラジウムおよび/またはイリジウムおよび/またはこれらの合金を添加することができる。 しかし純粋な金属は、焼結プロセスの際に化学変化することがあるので、導電性材料としては好ましくは式IIまたはIIIによる固体電解質、または安定化されたかまたは安定化されていない酸化セリウムまたは酸化ジルコニウムが使用される。

    【0031】実際には、まず混合酸化物と導電性材料とからなる薄膜を、スクリーン印刷技術を用いて電解質上に塗布し、および熱処理工程によって結合させることが有効であった。 この技術の例は、特開平09−2399
    56号中に見い出される。 プラズマ溶射[Murphy, G.
    J.;King, HW Atlantic Ind. Res. Inst., Halifax, N
    S, Can. J. Can. Ceram. Soc. (1985), 54, 14〜20] 、
    または有機懸濁液または水性懸濁液の噴霧[Miralaie,
    SF; Avni, R.; Francke, E.; Morvan, D.; Amouroux,
    J.; Nickel, H. ENSCP, Laboratoire de Genie des Pr
    ocedes Plasmas,11 rue Pierre et Marie Curie, F-752
    31, Paris, France. Thin Solid Films (1997), 303
    (1,2), 17〜26]も可能である。

    【0032】本発明による方法の場合、カソードを通して酸素が吸収され、かつ固体電解質を通してアノードに導かれる。 カソードは、またN Oまたは空気流またはその他の酸素含有排気ガス流にさらされてもよい。 重要なことは、このガス流中には酸素アニオン中で解離性に分解可能なガス、例えば酸素または笑気が含有されており、これらが固体電解質を通してアノードへと移動できることである。

    【0033】酸化すべき有機化合物は、場合によっては空気および/または酸素および/または不活性ガス、例えば窒素を添加され、既に記載されたようなアノードに、接触通過される。 エダクトはガス状または液状で供給することができるが、本発明による反応温度の場合、
    ガス状の供給が有効であった。 アノード室中で酸素を使用する場合の効果は、特に意外であり、それというのも、電気化学的セルを直接は通過しなかった空気および/または酸素が、セルを通過する酸素との接触によって、選択的酸化に使用可能にされるからである。

    【0034】酸素イオン伝導性固体電解質としては、本発明による方法の場合、金属、混合金属酸化物または金属酸化物を使用することができる。

    【0035】本発明の特別な実施態様の場合、酸素イオン伝導性固体電解質として、またはアノード中の導電性材料として、一般式II: Ln (II) [式中、LnはLa、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、
    Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Ybおよび/またはLuを表わし、X はCa、Sr、Ba、および/またはMgを表わし、X はGa、Al、Mn、
    Ti、Nb、Y、Wおよび/またはZrを表わし、X
    はFe、Co、Niおよび/またはCuを表わし、aは0.1〜0.9であり、bは0.1〜0.9であり、cは0
    〜0.9であり、dは0〜0.9であり、但し、a+bは0.3〜1.5である]で示される灰チタン石が使用される。

    【0036】酸素原子の数値eは、この式の酸素以外の元素の原子価および頻度によって決定される。

    【0037】酸素イオン伝導性固体もしくは導電性材料としてさらに適当な金属酸化物は、例えば、ZrO
    またはCaO、Sc 、Y および/またはY
    によって安定化されたZrO 、またはCeO
    、またはLa 、Y 、Yb および/
    またはGd によって安定化されたCeO である。

    【0038】固体電解質はまた、金属、有利に導電性金属、例えば銅、銀、金、白金、パラジウムおよびイリジウムおよび/またはそれらの合金を、例えば粉末の形またはフレーク状で含有することができるか、もしくはこれらの金属または合金から形成されることができる。

    【0039】さらに本発明の実施態様の場合、酸素イオン伝導性固体電解質またはアノード中の導電性材料として、一般式III: (Ln (X (III) [式中、LnはLa、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、
    Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Ybおよび/またはLuを表わし、X はNa、Mg、Caおよび/またはSrを表わし、X はTi、Nb、Taおよび/またはZrを表わし、X はFe、Al、Sc、G
    aおよび/またはYを表わし、fは0.2〜1.2であり、gは0〜0.8であり、hは0.2〜1.2であり、
    iは0〜0.8である]で示されるパイロクロル化合物が使用される。 酸素原子の数値kは、この式の酸素以外の元素の原子価および頻度によって決定される。

    【0040】これらの化合物は、例えばゾル−ゲル−法[Shao Zonping; Sheng, Shishan;Chen, Hengrong; Li,
    Lin; Pan, Xiulian; Xiong Guoxing; State Key Labor
    atory of Catalysis, Dalian Institute of Chemical P
    hysics, Chinese Academy of Science, Dalian, Peop.
    Rep. China. Gongneng Cailiao (1998), 29 (Suppl),
    1091〜1093, 1096]、噴霧乾燥[Sizgek, E.; Bartlet
    t, JR; Brungs, MP Materials Division, Australia
    n Nuclear Science and Technology Organisation, Men
    ai, Australia. J. Sol-Gel Sci. Technol. (1998), 13
    (1/2/3), 1011〜1016) または“drip pyrolysis”[P.
    Gordes 他、Den. J. Mater. Sci. (1995), 30 (4), 10
    53〜8]または分解法[例えば:N. Dhas 他、India J.
    Mater.Chem. (1993), 3(12), 1289〜1294, またはD. Fu
    mo他、Port. Mater Res. Bull.(1997), 32 (10), 1459
    〜1470]によって製造されることができる。

    【0041】さらに、導電性には酸素イオン伝導性固体電解質の性質が重要である。 組成によって、ならびに幾何学または層厚だけによって、導電性は上昇されることができる。 有利には層厚は300μm未満、好ましくは150μm未満、全く特に好ましくは60μm未満である。

    【0042】導電性を高めるため、金属フィルムを酸素イオン伝導性固体電解質とアノードとの間に配置することも可能である。 この種の金属フィルムは、導電性の高い金属、例えば銅、銀、金、白金、パラジウム、イリジウムまたはこれらの金属の合金または混合物から形成されてよい。 これらの金属フィルムの層厚は、250μm
    未満、好ましくは100μm未満、全く特に好ましくは50μm未満である。

    【0043】固体電解質の層厚は、種々の方法によって減少されることができるか、もしくは導電性は次の方法によって有利に調整されることができる:例えばCVD
    (=化学蒸着)、PVD(物理蒸着)、回転塗布またはMOD−回転注型[Swider,Karen Elizabeth. Univ. Pe
    nnsylvannia, Philadelphia, PA, USA. Avail. Univ. M
    icrofilms Int., Order No. DA9308667. (1992); 242 P
    P: From: Diss. Abstr. Int. B 1993, 53(11), 5927
    ]、テープ注型(=Folien-Giessen)[Plucknett, Kevi
    n P.; Caceres, Carlos H.; Wilkinson, David S.; Dep
    artment Materials Science Engineering, McMaster Un
    iversity, Hamilton, ON, Can.; J. Am. Ceram. Soc.
    (1994), 77(8), 2137〜44]、スリップ注型(Slip-Casti
    ng) [Fortmann, R.; Blass, G.; G.; Buchkremer, H.-
    P. Forschungszentrum Julich GmbH,Julich, Germany.
    Editor(s): Sarton, LAJL; Zeedijk, HB; Mate
    r., Funct. Des., Proc. Eur. Conf. Adv. Mater. Proc
    esses Appl., 5th (1997), 3 3/271〜3/274. Publishe
    r: Netherlands Society for Materials Science; Zwij
    ndrecht, Neth.]または特別に、MOCVD−法(金属有機化学蒸着(Metal-Organic Chemical Vapor Depositi
    on))。 MOCVD−法は、多孔性下地上での分解によって、膜厚、もしくは本発明の場合には電解質−層厚が1
    μm〜50μmになるのを可能にする。 この方法は次に記載されている:[O. Gorbenko, A. Kaul, A. Molody
    k, V. Fuflygin, M. Novozhilov, A. Bosak, U. Kraus
    e, G. Wahl in “MOCVD of perovskites with metallic
    conductivit”, Journal of Alloysand Compounds, 25
    1 (1997), 337〜341]。

    【0044】カソードとしては、本発明による方法の場合、金属、例えば銅、金、銀、白金、パラジウム、イリジウム、またはこれらの金属の混合物もしくは合金を使用することができる。

    【0045】さらにカソードとしては、1つまたは複数の金属酸化物または1つの混合金属酸化物を使用することができる。

    【0046】本発明の範囲内での“混合酸化物”の名称は、混在する金属酸化物としての多金属酸化物材料を含む。 いずれにせよ、混合酸化物の化学量論および温度処理に依存して、相分離が可能である。

    【0047】さらに、カソードとしては一般式IV: La 13 14 15 16 3±z (IV) [式中、X 13はCe、Pr、Nd、Pm、Sm、E
    u、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Ybおよび/またはLuを表わし、X 14はCa、Sr、Baおよび/またはMgを表わし、X 15はMn、Fe、Ti、
    Ga、Mnおよび/またはZrを表わし、X 16はC
    o、Ni、Cu、Alおよび/またはCrを表わし、u
    は0〜1.2であり、vは0〜1.0であり、wは0.0
    1〜0.8であり、但し、u+v+wは1.5以下であり、xは0.2〜1.3であり、yは0〜0.9であり、
    但し、x+yは0.3以上である]で示される灰チタン石を使用することができる。

    【0048】酸素原子の数値(3±z)は、酸素以外の元素の原子価および頻度によって決定される。

    【0049】ドイツ連邦共和国特許第19702619
    C1号明細書中には、高温−燃料電池用のカソード材料としての、式:L αβ Mn χ Co の非化学量論的灰チタン石の製造が記載されている。 しかし、燃料電池は他の工業プロセスのため、すなわちサブストレートの全酸化下での電気エネルギー製造のために開発された。

    【0050】本発明の方法による有機化合物の電気化学的酸化は、高められた温度、好ましくは100〜650
    ℃、特に好ましくは200〜550℃で実施される。

    【0051】高められた圧力の使用も同様に可能であり、最大で100バール、好ましくは1〜20バール、
    特に好ましくは10バールの圧力をかけることができる。

    【0052】本発明による方法の場合、一方で酸素はカソードで、イオンの形に移行され、かつ電解質を通してアノードに導かれ、およびもう一方ではアノードで、ここに接触通過する有機化合物との反応が行われるように活性化される。 酸素の供給は、また多孔性で、ガス封止性の固体電解質を通して行うこともできる。 アノード室内のガス流は、酸化すべき有機化合物および酸素以外に、不活性ガスを含有することもできる。

    【0053】本発明による方法を実施するための装置の例示的構成は、図1に表示されている。

    【0054】カソードKおよびアノードAは、酸素イオン伝導性電解質E上に塗布されている。 この場合、例えば熱処理によって材料の電流導電性結合を保証することが重要である。 2つの電極は、電源Sによって電流を供給される。

    【0055】エダクトおよび酸素は、ガス流a)としてアノードA上に導かれ、生じる生成ガスb)はガス流a)の圧力によってか、あるいは相応する低圧によって排出される。 カソード側上のガス流c)は、空気、酸素またはその他の酸素含有ガス混合物から形成されていてよく、かつ酸素を減損され、排出される。

    【0056】アノード室は、金箔Dによって電解質に対して封止されている。 酸素供給(約10kPa)は、多孔体Oを介して行われる。

    【0057】アノード、カソードおよび電解質の空間配置は、平板または連続層に限定されるべきではない。 また本発明による方法のため管状反応器を使用することも可能である。 この場合、アノード材料もしくはカソード材料は、電解質からの管上に塗布される。 必要とされる電流供給は、相応して調節されるべきである。

    【0058】さらにアノード層またはカソード層は、織物または、規則的な凹所または凸所を有するパターン化された表面層として、形成されていてよい。

    【0059】温度、電流の流量もしくは、一般に0〜1
    00mA、有利に10〜20mAである電流の強さ、および滞留時間の影響を測定するため、もしくは最適化するためには、図2中に図式的に表わされた試験配置が適当である。

    【0060】電流の強さは、使用されるセルの大きさもしくは生成物容量に依存する。 ここに記載された電流の強さは、図2に関する。 他のセルに関しては、最適な電流の強さは、予備試験によって測定されるべきである。

    【0061】試験装置としては、例えば異なる電流の流量のためにプログラム可能な、−100〜+100mA
    の電流の強さで作業すべき電源Sを使用することができる。

    【0062】アノードAの過電圧(V )、カソードK
    の過電圧(V )、測定セルの電圧V Zelleおよび、例えば白金から製造することができる参照電極R
    A、RKに対する電圧V 、V を監視した。

    【0063】図2中では、Eは酸素イオン伝導性固体電解質、a)はエダクトガス流(プロペン→アクロレイン)、c)酸素または酸素含有ガスを意味する。

    【0064】次の例につき、本発明をその範囲に限定することなく詳説する。

    【0065】

    【実施例】例: 工程a):酸素イオン伝導性固体電解質の製造 aa)商業的に得られる酸化セリウム(インデックb.
    v. 社(Fa. Indec bv)が使用されるか; ab)あるいは、結合剤(例えばエチルセルロース16
    g、メルク社(Fa. Merck))および溶剤(例えば、テルピネオール422g、すなわちp−メント−1−エン−
    8−オール)とを含有する望ましい化合物を用いて、懸濁液を製造する。 これを例えば、ボールミルもしくはパールミル(ネッチュ社(Fa. Netsch))を用いて、24時間の混合時間で行うことができる。 この懸濁液を用いて、フィルム注型によって厚いフィルムを製造し、フィルムは溶剤の除去もしくは蒸発後、電解質の粗製フィルムを生じる。 切断によって、これを所望の大きさにする。

    【0066】一般的には、使用される電解質(本試験の場合、La 0.8 Sr 0.2 Ga .85 Mg 0.15
    およびCeO を使用した)に応じて、異なった層厚が有利であることが判明した。 La 0.8 Sr 0.2
    Ga 0.85 Mg 0.15 の場合、80μmの層厚を使用し、CeO の場合、200μmの層厚を使用した。 このフィルムを1500℃の温度で6時間(La
    0.8 Sr 0.2 Ga .85 Mg 0.15の場合)、もしくは1300℃および8時間(CeO の場合)焼結した(2つの多孔性酸化アルミニウム板の間に差し込んだ)。

    【0067】工程b):カソードの製造 ba)カソードとして、白金層を電解質上で堆積させるか、 bb)またはカソード層を、例えば下記c)に詳説されるように製造する。

    【0068】この場合カソード粉末の組成は、La
    0.6 Sr 0.4 Fe 0.8 Co 0.2 (ローヌ・
    プラン(Rhone Poulenc)である。 焼結条件は、この場合1100℃で1時間である。

    【0069】工程c):アノード/触媒層の製造 モリブデン以外の元素を、硝酸塩の形(メルク社(Fa. M
    erck))で望ましいモル比に相応し、VA−プロペラ式攪拌器内で攪拌下に約50℃の温水中に溶解させる。 モリブデンを、まずヘプタモリブデン酸アンモニウム−四水和物(NH Mo 24 x4H O(例えばH.C.スタルック(HCStarck)から)として別々に溶解する。

    【0070】元素同士のモル比は、例えば例1〜3の表から、もしくは式Iから判明する。

    【0071】ヘプタモリブデン酸アンモニウム溶液を、
    望ましいモル比に相応し、攪拌下に予め装入した硝酸塩溶液中に注入する。 沈殿生成物が生じ、連続して攪拌する場合、再び溶解し、かつ短時間後ゲル化する。

    【0072】引続き、ゲルを110℃の空気流中で乾燥させ、次に450℃でか焼する。

    【0073】引続き、こうして得られた材料を磨砕する。 生じた粉末を、直接触媒ペーストの製造のために使用することができる。

    【0074】触媒作用性ペーストを、触媒粉末、すなわち例えば混合金属酸化物粉末および導電性を上昇させる添加剤と、セルロース基礎の担体とを機械的に混合(攪拌)することによって製造する。

    【0075】テルピネオール(p−メント−1−エン−
    8−オール)422g中に、エチルセルロース(メルク社)16gを混合する(プロペラ式攪拌機を用いて20
    分)ことによって、担体を製造する。 触媒32g、および導電性を高める添加剤を、まず担体22g中にへらを用いて混入させる。 さらに混合を、3本ロール装置(ネッチュ社)を用いて行う。 このペーストを50ml用ビン中に収集する。

    【0076】このペーストを、電解質層上でスクリーン印刷装置(DEK社)および穿孔53個のスクリーンを用いて印刷する。 最後に、触媒作用層を400℃で1時間焼結する。

    【0077】付加的に電解質とアノードとの間で金属フィルムを使用する場合、電解質にまず、例えば100μ
    m層厚の金箔を被覆する。 次に、その上にスクリーン印刷によって触媒作用層を塗布する。

    【0078】1. 酸素イオン伝導性固体電解質のアノードへの混入を用いない、プロペンの電気接触酸化(比較例) 17m /gのBET−表面積を有する多孔性触媒フィルムを、スクリーン印刷技術および引続く熱処理によって、CeO からなる電解質フィルム上に塗布する。 対抗電極として、Ptを蒸着する。 反応温度は400℃である。 プロペン5%と窒素95%とからなる混合物を、
    2リットル/hでアノード上に導く。 同じ速度の空気をカソード上に導く。 酸素イオン流を制御するために印加した電圧は、1ボルトである。

    【0079】

    【表1】

    【0080】2. 酸素イオン伝導性固体電解質のアノードへの混入を用いた、プロペンの電気接触酸化(本発明による) 17m /gのBET−表面積を有する多孔性触媒フィルムを、スクリーン印刷技術および引続く熱処理によって、CeO からなる電解質フィルム上に塗布する。 対抗電極として、Ptを蒸着する。 反応温度は400℃である。 プロペン5%と窒素95%とからなる混合物を、
    2リットル/hでアノード上に導く。 同じ速度の空気をカソード上に導く。 酸素イオン流を制御するために印加した電圧は、1ボルトである。

    【0081】

    【表2】

    【0082】3. エダクト流中の酸素、および酸素イオン伝導性固体電解質の電解質への混入を用いた、プロペンの電気接触酸化(本発明による) 17m /gのBET−表面積を有する多孔性触媒フィルムを、スクリーン印刷技術および引続く熱処理によって、CeO からなる電解質フィルム上に塗布する。 対抗電極として、Ptを蒸着する。 反応温度は400℃である。 プロペン5%、酸素5%と窒素90%とからなる混合物を、2リットル/hでアノード上に導く。 同じ速度の空気をカソード上に導く。 酸素イオン流を制御するために印加した電圧は、2ボルトである。

    【0083】

    【表3】

    【図面の簡単な説明】

    【図1】本発明による方法を実施するための装置の構成図である。

    【図2】温度、電流の流量もしくは電流の強さ、および滞留時間の影響を測定するための試験的装置の構成図である。

    フロントページの続き (51)Int.Cl. 7識別記号 FI テーマコート゛(参考) C25B 9/08 C25B 11/08 A 11/08 Z 13/04 301 13/04 301 9/00 L (72)発明者 アドルフ キューンレ ドイツ連邦共和国 マール グライフェン ベルガー シュトラーセ 30 (72)発明者 グイド シュトホニオール ドイツ連邦共和国 ゲルンハウゼン ヴァ インベルクシュトラーセ 23 ベー (72)発明者 マーク ドゥーダ ドイツ連邦共和国 ルートヴィヒスハーフ ェン プファーラー−バルト ヴェーク 11 Fターム(参考) 4G069 AA03 AA08 BA29B BB04B BB06B BC03B BC09B BC10B BC12B BC16B BC17B BC25B BC31B BC33B BC42B BC43B BC54B BC59B BC66B BC67B CB07 DA06 EA08 FB09 FB23 4K011 AA31 AA52 AA54 AA68 AA69 BA02 BA07 BA08 BA12 CA04 DA10 4K021 AC07 AC09 BA08 BA11 BC05 DB05 DB12 DB18 DB40 DB43 DB53 DC15

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