1.一种口腔治疗系统，所述系统包括：
吹嘴，其包括壁和从所述壁延伸的咬合平台，两者共同界定用于接纳使用者的牙齿的第一沟槽；
电磁辐射源，其联接到所述吹嘴且被配置成将电磁辐射发射到定位于所述第一沟槽中的所述使用者的牙齿的表面上；以及
在所述壁或所述咬合平台的至少一者中的一个或多个孔口，所述一个或多个孔口被配置成将口腔治疗材料分配到所述第一沟槽以与定位于所述第一沟槽中的所述使用者的牙齿的表面接触。
2.根据权利要求1所述的口腔治疗系统，其还包括所述口腔治疗材料的贮存器，所述一个或多个孔口流体联接到所述贮存器。
3.根据权利要求2所述的口腔治疗系统，其还包括联接到所述吹嘴的壳体，所述壳体沿着第一方向从所述吹嘴的所述壁延伸，并且所述咬合平台沿着与所述第一方向相反的第二方向从所述吹嘴的所述壁延伸。
4.根据权利要求3所述的口腔治疗系统，其中所述贮存器位于所述壳体内。
5.根据权利要求3至4中任一项所述的口腔治疗系统，其还包括位于所述壳体内的电源，所述电磁辐射源可操作地联接到所述电源。
6.根据权利要求2至5中任一项所述的口腔治疗系统，其还包括入口端口，所述入口端口与所述一个或多个孔口流体连通并且被配置成可拆卸地联接到所述贮存器的出口。
7.根据权利要求2至6中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述贮存器容纳不超过单个剂量的所述口腔治疗材料。
8.根据权利要求2至6中任一项所述的口腔治疗系统，其还包括可操作地联接到所述贮存器的处理器和可操作地联接到所述处理器的致动器，所述处理器被配置成响应于所述致动器的致动从所述贮存器将所述口腔治疗材料分配到所述第一沟槽中。
9.根据权利要求8所述的口腔治疗系统，其中所述贮存器容纳多个剂量的所述口腔治疗材料，并且其中所述处理器被配置成响应于所述致动器的单次致动而分配单个剂量的所述口腔治疗材料。
10.根据权利要求8至9中任一项所述的口腔治疗系统，其中响应于所述致动器的致动，所述处理器被配置成分配单个剂量的所述口腔治疗材料并且传输电力给所述电磁辐射源，使得所述电磁辐射源发射电磁辐射持续一段预定时间。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的口腔治疗系统，其还包括：多个孔口，所述多个孔口以间隔开的方式沿着所述壁或所述咬合平台中的至少一者布置。
12.根据权利要求11所述的口腔治疗系统，其还包括流体联接到所述多个孔口中的每一个的分配歧管。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述电磁辐射源包括第一柔性电路，所述第一柔性电路包括位于其上的多个第一照明元件，其中所述第一柔性电路联接到所述吹嘴的所述壁。
14.根据权利要求13所述的口腔治疗系统，其中所述第一柔性电路为印刷发光二极管电路。
15.根据权利要求13至14中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述第一柔性电路设置在形成于所述壁的内表面中的凹部内。
16.根据权利要求1至12中任一项所述的口腔治疗系统，其还包括：
所述吹嘴的所述壁包括从所述咬合平台向上延伸的壁上部，以及从所述咬合平台向下延伸的壁下部；
所述壁上部和所述咬合平台的上表面形成所述第一沟槽，所述第一沟槽被配置成接纳所述使用者的上齿；
所述壁下部和所述咬合平台的下表面形成第二沟槽，所述第二沟槽被配置成接纳所述使用者的下齿；
所述电磁辐射源包括第一电磁辐射源和第二电磁辐射源；
所述第一电磁辐射源联接到所述吹嘴且被配置成将电磁辐射发射到定位于所述第一沟槽中的所述使用者的上齿的表面上；
所述第二电磁辐射源联接到所述吹嘴且被配置成将电磁辐射发射到定位于所述第二沟槽中的所述使用者的下齿的表面上；
所述一个或多个孔口包括至少第一孔口，所述至少第一孔口在所述壁上部或所述咬合平台上表面的至少一者中，所述至少第一孔口被配置成将所述口腔治疗材料分配到所述第一沟槽以与定位于所述第一沟槽中的所述使用者的上齿的表面接触；以及所述一个或多个孔口包括至少一个第二孔口，所述至少一个第二孔口在所述壁下部或所述咬合平台下表面的至少一者中，所述至少一个第二孔口被配置成将所述口腔治疗材料分配到所述第二沟槽以与定位于所述第二沟槽中的所述使用者的下齿的表面接触。
17.根据权利要求16所述的口腔治疗系统，其中所述壁上部包括内表面，并且所述壁下部包括内表面，所述第一电磁源位于所述壁上部的所述内表面上，并且所述第二电磁源位于所述壁下部的所述内表面上；并且其中所述壁上部和壁下部的所述内表面彼此偏移。
18.根据权利要求17所述的口腔治疗系统，其中所述壁上部和壁下部的所述内表面基本上彼此平行。
19.根据权利要求1所述的口腔治疗系统，其中所述壁从联接到所述咬合平台的近端向远端延伸，所述壁包括面向所述使用者牙齿的内表面和相反的外表面，并且其中所述壁的所述内表面包括从所述咬合平台向肩部延伸的第一部分，和从所述肩部向所述远端延伸的第二部分，所述壁的所述内表面的所述第一部分相对于所述壁的所述内表面的所述第二部分凹陷。
20.根据权利要求19所述的口腔治疗系统，其中所述壁具有在所述壁的所述外表面与所述壁的所述内表面的所述第一部分之间测得的第一厚度和在所述壁的所述外表面与所述壁的所述内表面的所述第二部分之间测得的第二厚度，所述第二厚度大于所述第一厚度。
21.根据权利要求19至20中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述肩部沿着与所述咬合平台相同的方向从所述壁的所述内表面延伸。
22.根据权利要求1至21中任一项所述的口腔治疗系统，其还包括第一隆脊和第二隆脊，所述第一隆脊从所述咬合平台向上延伸并与所述壁的壁上部间隔开第一间隙，所述第二隆脊从所述咬合平台向下延伸并与所述壁的壁下部间隔开第二间隙，所述第一隆脊和第二隆脊彼此偏移。
23.根据权利要求1所述的口腔治疗系统，其还包括开口，所述开口形成于所述壁的外表面中且形成通往位于所述壁和所述咬合平台中的一者内的分配歧管的通路，所述分配歧管流体联接到所述壁的所述外表面中的所述开口和所述一个或多个孔口。
24.根据权利要求1所述的口腔治疗系统，其中所述口腔治疗材料储存在形成于所述咬合平台中的空腔内，所述空腔流体联接到所述一个或多个孔口，并且其中所述口腔治疗材料响应于所述咬合平台被所述使用者牙齿压缩而分配到所述第一沟槽中。
25.根据权利要求24所述的口腔治疗系统，其中所述一个或多个孔口形成于所述咬合平台的表面中。
26.根据权利要求24至25中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述空腔的大小被设计成保持单个剂量的所述口腔治疗材料且为可再填充的。
27.根据权利要求1至26中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述电磁辐射源被围封在所述吹嘴的所述壁内。
28.一种口腔治疗系统，所述系统包括：
吹嘴，其包括具有内表面和相反的外表面的壁以及从所述壁的所述内表面延伸的咬合平台，所述壁和所述咬合平台共同界定用于接纳使用者的牙齿的第一沟槽；
电磁辐射源，其联接到所述吹嘴且被配置成将电磁辐射发射到定位于所述第一沟槽中的所述使用者的牙齿的表面上；以及
开口，其形成于所述壁的所述外表面中且形成通往位于所述壁和所述咬合平台中的至少一者内的分配歧管的通路，所述分配歧管从在所述壁的所述外表面中的所述开口延伸至一个或多个孔口，所述一个或多个孔口被配置成将口腔治疗材料分配至所述第一沟槽以与定位于所述第一沟槽中的所述使用者的牙齿的表面接触。
29.根据权利要求28所述的口腔治疗系统，其还包括形成于所述壁的内表面和所述咬合平台的至少一者中的多个孔口，并且其中所述分配歧管流体联接到所述壁的所述外表面中的所述开口和所述多个孔口中的每一个。
30.根据权利要求29所述的口腔治疗系统，其中所述多个孔口形成于所述咬合平台中并且所述电磁辐射源联接到所述壁的所述内表面。
31.根据权利要求28至30中任一项所述的口腔治疗系统，其包括联接到所述吹嘴的壳体，所述壳体从所述壁的所述外表面向所述吹嘴延伸。
32.根据权利要求31所述的口腔治疗系统，其还包括形成于所述壳体中的开口，所述开口提供通往延伸穿过所述壳体的流体通路的入路，所述流体通路经由在所述壁的所述外表面中的所述开口流体联接到所述分配歧管。
33.根据权利要求31至32中任一项所述的口腔治疗系统，其还包括位于所述壳体内且可操作地联接到所述电磁辐射源的电源。
34.根据权利要求28至32中任一项所述的口腔治疗系统，其还包括所述口腔治疗材料的容器，所述容器联接到形成于所述壁的所述外表面中的所述开口，并且其中所述口腔治疗材料可通过所述分配歧管并通过所述一个或多个孔口从所述容器分配以与所述使用者的牙齿的表面接触。
35.根据权利要求34所述的口腔治疗材料，其中所述容器是注射器并且所述口腔治疗材料从所述注射器由所述使用者手动分配。
36.根据权利要求34至35中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述容器容纳单个剂量的所述口腔治疗材料。
37.根据权利要求28至36中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述电磁辐射源被围封在所述吹嘴的所述壁内。
38.一种口腔治疗系统，所述系统包括：
吹嘴，其包括壁和从所述壁延伸的咬合平台，两者共同界定用于接纳使用者的牙齿的第一沟槽，所述咬合平台具有用于储存口腔治疗材料的空腔；
电磁辐射源，其联接到所述吹嘴且被配置成将电磁辐射发射到定位于所述第一沟槽中的所述使用者的牙齿的表面上；以及
在所述壁或所述咬合平台的至少一者中的一个或多个孔口，所述一个或多个孔口流体联接到在所述空腔中的所述口腔治疗材料，所述口腔治疗材料响应于所述咬合平台的压缩而通过所述一个或多个孔口分配至所述第一沟槽以与定位于所述第一沟槽中的所述使用者牙齿的表面接触。
39.根据权利要求38所述的口腔治疗系统，其中所述空腔的大小被设计成保持单个剂量的所述口腔治疗材料且为可再填充的。
40.根据权利要求38至39中任一项所述的口腔治疗系统，其还包括囊体，所述囊体包含可破裂或可溶解的材料，所述口腔治疗材料容纳在所述囊体内，并且其中所述囊体可移除地定位在所述空腔内。
41.根据权利要求38至40中任一项所述的口腔治疗系统，其还包括可操作地联接到所述电磁辐射源的电源。
42.根据权利要求41所述的口腔治疗系统，其还包括可操作地联接到所述电源的处理器和可操作地联接到所述处理器的致动器，并且其中响应于所述致动器的致动，所述处理器被配置成将电力传输到所述电磁辐射源以使得所述电磁辐射源将电磁辐射发射到所述使用者牙齿的表面上持续一段预定时间。
43.根据权利要求38至42中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述电磁辐射源被围封在所述吹嘴的所述壁内。
44.一种口腔治疗系统，所述系统包括：
吹嘴，其包括被配置成邻近使用者的牙齿定位的壁；以及
联接到所述吹嘴的所述壁的电磁辐射源，所述电磁辐射源包括第一柔性电路和位于所述第一柔性电路上的多个第一照明元件，所述电磁辐射源被配置成将电磁辐射发射到邻近所述壁定位的所述使用者牙齿的表面上。
45.根据权利要求44所述的口腔治疗系统，其中所述电磁辐射源为柔性印刷发光二极管或柔性有机发光二极管。
46.根据权利要求44至45中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述第一柔性电路包括平坦、柔性片材，并且所述多个第一照明元件定位在所述平坦、柔性片材上或嵌入所述平坦、柔性片材内。
47.根据权利要求44至46中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述多个照明元件中的至少一个与定位在所述沟槽内的所述使用者牙齿的每一颗对齐。
48.根据权利要求47所述的口腔治疗系统，其中多个照明元件与定位在所述沟槽内的所述使用者牙齿的每一颗对齐。
49.根据权利要求44至48中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述多个照明元件发射的电磁辐射正交地接触定位在所述沟槽内的所述使用者牙齿的每一颗的表面。
50.根据权利要求44至49中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述第一柔性电路设置在形成于所述壁的内表面中的凹部内。
51.根据权利要求44所述的口腔治疗系统，其中所述壁从联接到所述咬合平台的近端向远端延伸，所述壁包括面向所述使用者牙齿的内表面和相反的外表面，并且其中所述壁的所述内表面包括从所述咬合平台向肩部延伸的第一部分，和从所述肩部向所述远端延伸的第二部分，所述壁的所述内表面的所述第一部分相对于所述壁的所述内表面的所述第二部分凹陷。
52.根据权利要求51所述的口腔治疗系统，其中所述壁具有在所述壁的所述外表面与所述壁的所述内表面的所述第一部分之间测得的第一厚度和在所述壁的所述外表面与所述壁的所述内表面的所述第二部分之间测得的第二厚度，所述第二厚度大于所述第一厚度。
53.根据权利要求51至52中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述肩部沿着与所述咬合平台相同的方向从所述壁的所述内表面延伸。
54.根据权利要求44至53中任一项所述的口腔治疗系统，其还包括第一隆脊和第二隆脊，所述第一隆脊从所述咬合平台向上延伸并与所述壁的壁上部间隔开第一间隙，所述第二隆脊从所述咬合平台向下延伸并与所述壁的壁下部间隔开第二间隙，所述第一隆脊和第二隆脊彼此偏移。
55.根据权利要求44至54中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述电磁辐射源被围封在所述吹嘴的所述壁内。
56.一种口腔治疗系统，所述系统包括：
包括壁和从所述壁延伸的咬合平台的吹嘴，所述吹嘴的所述壁包括从所述咬合平台向上延伸的壁上部和从所述咬合平台向下延伸的壁下部，所述壁上部和所述咬合平台的上表面形成被配置成接纳使用者的上齿的第一沟槽，所述壁下部和所述咬合平台的下表面形成被配置成接纳所述使用者的下齿的第二沟槽，所述咬合平台定位在所述使用者的上、下齿之间；
第一电磁辐射源，其联接到所述壁上部且被配置成将电磁辐射发射到定位于所述第一沟槽中的所述使用者上齿的表面上，所述第一电磁辐射源包括第一柔性电路并且多个第一照明元件位于所述第一柔性电路上；以及
第二电磁辐射源，其联接到所述壁下部且被配置成将电磁辐射发射到定位于所述第二沟槽中的所述使用者下齿的表面上，所述第二电磁辐射源包括第二柔性电路并且多个第二照明元件位于所述第二柔性电路上。
57.根据权利要求56所述的口腔治疗系统，其中所述第一电磁辐射源和第二电磁辐射源为柔性印刷发光二极管或柔性有机发光二极管。
58.根据权利要求56至57中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述第一柔性电路是平坦、柔性片材，所述片材具有定位在其上或嵌入其中的所述第一照明元件，并且其中所述第二柔性电路是平坦、柔性片材，所述片材具有定位在其上或嵌入其中的所述第二照明元件。
59.根据权利要求56所述的口腔治疗系统，其中所述壁上部包括内表面，并且所述壁下部包括内表面，所述第一电磁源位于所述壁上部的所述内表面上，并且所述第二电磁源位于所述壁下部的所述内表面上；并且其中所述壁上部和壁下部的所述内表面彼此偏移。
60.根据权利要求59所述的口腔治疗系统，其中所述第一电磁辐射源与所述第二电磁辐射源偏移。
61.根据权利要求60所述的口腔治疗系统，其中所述咬合平台从所述壁向远端延伸，并且其中所述第一电磁辐射源位于相隔所述咬合平台的所述远端第一距离处，并且所述第二电磁辐射源位于相隔所述咬合平台的所述远端第二距离处，所述第一距离大于所述第二距离。
62.根据权利要求61所述的口腔治疗系统，其中所述壁下部包括与所述壁上部的所述内表面偏移的外表面，所述壁上部的所述内表面比所述壁下部的所述外表面定位在相隔所述咬合平台的所述远端更大的距离处。
63.根据权利要求59至62中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述壁上部和壁下部的所述内表面基本上彼此平行。
64.根据权利要求56至63中任一项所述的口腔治疗系统，其还包括第一隆脊和第二隆脊，所述第一隆脊从所述咬合平台向上延伸并与所述壁的所述壁上部间隔开第一间隙，所述第二隆脊从所述咬合平台向下延伸并与所述壁的所述壁下部间隔开第二间隙，所述第一隆脊和第二隆脊彼此偏移。
65.根据权利要求56所述的口腔治疗系统，其中所述第一柔性电路设置在形成于所述壁上部的内表面中的凹部内，并且所述第二柔性电路设置在形成于所述壁下部的内表面中的凹部内。
66.根据权利要求56至65中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述第一电磁辐射源和第二电磁辐射源被分别围封在所述吹嘴的所述壁的所述壁上部和壁下部内。
67.一种口腔治疗系统，所述系统包括：
吹嘴，其包括被配置成邻近使用者的口腔牙齿定位的壁；
电磁辐射源，其联接到所述吹嘴且被配置成将电磁辐射发射到所述使用者的牙齿的表面上；以及
在所述吹嘴中的一个或多个孔口，所述一个或多个孔口被配置成分配口腔治疗材料以与邻近所述壁定位的所述使用者牙齿的表面接触。