处理装置、控制器、处理系统、处理装置的控制方法以及基板
处理装置的显示方法
技术领域
[0001] 本
发明涉及在对被处理体进行处理的处理装置中使用的特定的编辑文件的管理。
背景技术
[0002] 以往,对基板进行处理的基板处理装置等处理装置,作为DRAM、IC等器件的制造工序的一道工序而实施了基板处理工序,该基板处理工序基于定义有处理条件以及处理顺序的配方(工艺配方)而对基板进行处理,其中,处理条件以及处理顺序也为编辑文件之一。实施这样的工序的基板处理装置的各部分的动作由控制部来控制。
[0003] 工艺配方由多个步骤构成,各步骤是在操作画面(配方编辑画面)上通过数据的
修改等编辑作业来创建的。然后,在编辑之后,通过在操作画面上对表示处理气体的供排状况的气体流型图进行显示,能够确认编辑内容。例如,根据
专利文献1,在工艺配方的编辑过程中在操作画面上在规定的时间内未进行任何操作的情况下,进行退出处理和画面切换处理。由此来防止第三人的数据编辑作业。另外,根据专利文献2,构成为从配方编辑画面切换显示到柔性气
体模型画面(soft gas pattern picture),并在操作画面(柔性气体模型画面)上显示基于各步骤的气体流型图。由此,对处理气体的供排状况是否符合编辑内容进行确认。
[0004] 像这样,由于工艺配方是用于对基板进行处理的配方,所以若由第三人自由地编辑,则不仅牵涉到处理基板的品质不良,而且还牵涉到装置的可靠性的损失,因此对确保安全性的对策进行了研究。另一方面,气体流型图之类的编辑文件的创建以及修改等的编辑主要是在国内使用,从而并未特别设置限制或权限。
[0005] 因此,该气体流型图的编辑文件的创建及编辑虽使用了专用的数据编辑工具,但有可能因某种理由使得该数据编辑工具落入第三人手中,编辑文件有被恶意使用的危险。
[0006] 专利文献1:日本特开2008-112968号
公报[0007] 专利文献2:日本特开2006-093494号公报
发明内容
[0008] 本发明的目的在于禁止无权限的第三人对编辑文件的编辑作业。
[0009] 根据本发明的一个方式,提供一种处理装置,该处理装置包括:操作部,其具备对规定的编辑文件进行编辑的操作画面;存储部,其存储所述编辑文件,所述编辑文件至少包括与规定的图形图像文件相当的数据和与规定的数据文件相当的数据、以及将所述规定的数据文件加密后的加密数据;以及控制部,其执行对将所述加密数据解除而生成的所述规定的数据文件和所述规定的数据文件进行比较的处理、以及在所述操作画面显示根据所述比较的结果将所述规定的图形图像文件和所述规定的数据文件合并为一个文件从而生成的所述编辑文件的处理。
[0010] 发明效果
[0011] 根据本发明的处理装置,能够禁止由无权限的第三人对编辑文件的数据的篡改。
附图说明
[0012] 图1是本发明的一个实施方式的基板处理系统的概要结构图。
[0013] 图2是本发明的一个实施方式的基板处理装置的立体透视图。
[0014] 图3是本发明的一个实施方式的基板处理装置的侧视透视图。
[0015] 图4是本发明的一个实施方式的基板处理装置的处理炉的纵剖视图。
[0016] 图5是本发明的一个实施方式的基板处理装置所具备的基板处理用控制器及其周围的结构
框图。
[0017] 图6是表示在本发明的一个实施方式的基板处理装置的操作画面显示的编辑文件的安装流程的例子。
[0018] 图7是防止在本发明的一个实施方式的基板处理装置中显示于操作画面的编辑文件被第三人编辑的例子。
[0019] 图8是基于由本发明的一个实施方式的基板处理装置执行的显示程序对编辑文件进行显示的图示例。
[0020] 图9是防止第三者关于创建在本发明的一个实施方式的基板处理装置的操作画面上显示的编辑文件的专用的编辑工具进行编辑的图示例。
[0021] 图10是用于说明在由本发明的一个实施方式的基板处理装置执行的显示程序起动之前执行的数据校验处理的图。
具体实施方式
[0022] <本发明的一个实施方式>
[0023] 以下,对本发明的一个实施方式进行说明。
[0024] (1)基板处理系统的结构
[0025] 首先,利用图1对本发明的一个实施方式的基板处理系统的结构进行说明。图1是本发明的一个实施方式的基板处理系统的概要结构图。
[0026] 如图1所示,本实施方式的基板处理系统具备:至少一台基板处理装置100;以及群组管理装置500,其以能够与基板处理装置100交换数据的方式与该基板处理装置100连接。基板处理装置100构成为执行基于定义有处理顺序以及处理条件的配方的处理工艺。基板处理装置100与群组管理装置500之间例如由局域网(LAN)、广域网(WAN)等网络400连接。
[0027] (2)基板处理装置的结构
[0028] 接下来,参照图2、图3对本实施方式的基板处理装置100的结构进行说明。图2是本发明的一个实施方式的基板处理装置的立体透视图。图3是本发明的一个实施方式的基板处理装置的侧视透视图。此外,本实施方式的基板处理装置100构成为例如对晶片等基板进行
氧化、扩散处理、CVD处理等的纵置型的装置。
[0029] 如图2、图3所示,本实施方式的基板处理装置100具备作为耐压容器而构成的框体111。在框体111的
正面壁111a的正面前方部,开设有作为能够维护而设的开口部的正面维护口103。在正面维护口103,作为对正面维护口103进行开闭的进入机构而设有一对正面维护
门104。容纳
硅等晶片(基板)200的盒(pod;基板收容器)110用作向框体111的内外搬运晶片200的载体。
[0030] 在框体111的正面壁111a,以使框体111的内外连通的方式开设有盒搬入搬出口(基板收容器搬入搬出口)112。盒搬入搬出口112由前
挡板(基板收容器搬入搬出口开闭机构)113进行开闭。在盒搬入搬出口112的正面前侧,作为载置部而设置有装载端口(基板收容器交接台)114。使舟皿载置在装载端口114上,同时使盒110对位。盒110构成为由OHT(Overhead Hoist Transport:空中行驶式无人搬运车)等工序内搬运装置(未图示)向装载端口114上搬运。
[0031] 在框体111内的前后方向上的大致中央部的上部设置有旋转式盒架(基板收容器载置架)105。在旋转式盒架105上保管有多个盒110。旋转式盒架105具备:支柱116,其垂直地立起设置、且在
水平面内间歇地旋转;以及多个架板(基板收容器载置台)117,其在支柱116的上中下层的各
位置以放射状支承于该支柱116。多个架板117构成为以分别载置有多个盒110的状态保持这些盒。
[0032] 在框体111内的装载端口114与旋转式盒架105之间设置有盒搬运装置(基板收容器搬运装置)118。盒搬运装置118构成为包括:盒升降机(基板收容器升降机构)118a,其能够在保持有盒110的状态下升降;以及盒搬运机构(基板收容器搬运机构)118b,其为搬运机构。盒搬运装置118构成为通过盒升降机118a和盒搬运机构118b的连续动作而在装载端口114、旋转式盒架105、盒开启器(基板收容器盖体开闭机构)121的彼此之间对盒110进行搬运。
[0033] 在框体111内的下部,子框体119从框体111内的前后方向上的大致中央部设置至后端为止。在子框体119的正面壁119a,以在垂直方向上排列成上下二层的方式设置有向子框体119的内外搬运晶片200的一对晶片搬入搬出口(基板搬入搬出口)120。在上下层的晶片搬入搬出口120分别设置有盒开启器121。
[0034] 各盒开启器121具备:一对载置台122,其供盒110载置;以及盖装卸机构(盖体装卸机构)123,其对盒110的盖(盖体)进行装卸。盒开启器121构成为,利用盖装卸机构123对载置于载置台122上的盒110的盖进行装卸,由此对盒110的晶片取出放入口进行开闭。
[0035] 在子框体119内构成有相对于供盒搬运装置118、旋转式盒架105等设置的空间而使得
流体隔绝的移载室124。在移载室124的前侧区域设置有晶片移载机构(基板移载机构)125。晶片移载机构125构成为包括:晶片移载装置(基板移载装置)125a,其能够使晶片200在水平方向上旋转或者垂直地移动;以及晶片移载装置升降机(基板移载装置升降机构)
125b,其使晶片移载装置125a升降。如图2所示,晶片移载装置升降机125b设置于子框体119的移载室124的前方区域右端部与框体111右侧的端部之间。晶片移载装置125a具备作为晶片200的载置部的镊钳(基板保持体)125c。通过上述晶片移载装置升降机125b以及晶片移载装置125a的连续动作而能够相对于舟皿(boat,基板保持件)217装填(装载)以及拆卸(卸载)晶片200。
[0036] 在移载室124的后侧区域构成有对舟皿217进行收容并使其等待的等待部126。在等待部126的上方设置有处理炉202。利用炉口挡板(炉口开闭机构)147对处理炉202的下端部进行开闭。
[0037] 如图2所示,在子框体119的等待部126右端部与框体111右侧端部之间设置有使舟皿217升降的舟皿升降机(基板保持件升降机构)115。在舟皿升降机115的升降台连结有作为连结件的臂128。在臂128水平地安设有作为盖体的密封盖219。密封盖219构成为垂直地对舟皿217进行支承、且能够将处理炉202的下端部封闭。
[0038] 主要通过旋转式盒架105、舟皿升降机115、盒搬运装置(基板收容器搬运装置)118、晶片移载机构(基板移载机构)125、舟皿217以及后述的
旋转机构254来构成本实施方式的基板搬运系统。这些旋转式盒架105、舟皿升降机115、盒搬运装置(基板收容器搬运装置)118、晶片移载机构(基板移载机构)125、舟皿217以及旋转机构254与后述的作为子控制器的搬运控制器11电连接。
[0039] 舟皿217具备多个保持部件。舟皿217构成为以使多个(例如50个~125个左右)晶片200的中心对齐地在垂直方向上排列的状态分别水平保持这些晶片。
[0040] 如图2所示,在移载室124的晶片移载装置升降机125b侧以及与舟皿升降机115侧相反的一侧即左侧端部设置有清洁单元134。清洁单元134由供给
风扇以及防尘
过滤器构成,以便于供给
净化后的环境气体或者作为非活性气体的清洁空气133。在晶片移载装置125a与清洁单元134之间设置有作为对晶片在圆周方向上的位置进行调整的基板调整装置的
槽口对准装置(未图示)。
[0041] 从清洁单元134吹出的清洁空气133在未图示的槽口对准装置、晶片移载装置125a、处于等待部126的舟皿217的周围流通,然后,该清洁空气133由未图示的管道吸入并被向框体111的外部排出、或者循环至作为清洁单元134的吸入侧的
输入侧(供给侧)并由清洁单元134再次向移载室124内吹出。
[0042] 此外,在框体111、子框体119的外周,作为相对于基板处理装置100内的进入机构而安装有未图示的多个装置壳体。在维护作业时将这些装置壳体拆下,从而维护人员能够进入基板处理装置100内。在与上述装置壳体相对的框体111、子框体119的端部,设置有作为进入
传感器的门
开关130。另外,在与正面维护门104相对的框体111的端部作为进入传感器也设置有门开关130。另外,在装载端口114上设置有对盒110的载置进行检测的基板检测传感器140。上述门开关130以及基板检测传感器140等的开关、传感器类设备15与后述的基板处理装置用控制器240电连接。
[0043] (3)基板处理装置的动作
[0044] 接下来,参照图2、图3对本实施方式的基板处理装置100的动作进行说明。
[0045] 如图2、图3所示,若盒110由工序内搬运装置(未图示)供给至装载端口114,则利用基板检测传感器140对盒110进行检测,并利用前挡板113使盒搬入搬出口112开放。而且,利用盒搬运装置118将装载端口114上方的盒110从盒搬入搬出口112向框体111内部输入。
[0046] 利用盒搬运装置118将向框体111内部输入的盒110自动地搬运至旋转式盒架105的架板117上并临时保管。然后,盒110被从架板117上向一方的盒开启器121的载置台122上移载。此外,向框体111内部输入的盒110可以通过盒搬运装置118直接移载至盒开启器121的载置台122上。此时,盒开启器121的晶片搬入搬出口120通过盖装卸机构123关闭,清洁空气133在移载室124内流通并充满该移载室124。例如,作为清洁空气133使氮气充满移载室124内,由此,使得移载室124内的氧浓度例如达到20ppm以下,从而将移载室124内的氧浓度设定为远低于处于大气环境的框体111内的氧浓度。
[0047] 载置于载置台122上的盒110的开口侧端面被按压于子框体119的正面壁119a的晶片搬入搬出口120的开口边缘部,并且利用盖装卸机构123将该盒110的盖拆下而使得晶片取出放入口开放。然后,利用晶片移载装置125a的镊钳125c从晶片取出放入口通过从盒110内拾取晶片200,并利用槽口对准装置对方位进行调整,此后,将该晶片向处于移载室124的后方的等待部126内输入而装填(装载)在舟皿217内。在舟皿217内装填有晶片200的晶片移载装置125a返回至盒110并将接下来的晶片200装填于舟皿217内。
[0048] 在该通过一个(上层或下层)盒开启器121的晶片移载机构125对晶片200向舟皿217的装填作业中,利用盒搬运装置118将其他盒110从旋转式盒架105上搬运移载至另一个(下层或上层)盒开启器121的载置台122上,并同时利用盒开启器121进行盒110的开放作业。
[0049] 若将预先
指定的张数的晶片200装填于舟皿217内,则通过炉口挡板147使由炉口挡板147关闭的处理炉202的下端部开放。接下来,密封盖219通过舟皿升降机115而上升,由此向处理炉202内输入(装载)保持有成组的晶片200的舟皿217。
[0050] 在装载之后,在处理炉202内对晶片200实施任意处理。在处理之后,除了利用槽口对准装置135对晶片的调整工序以外,按照大致与上述顺序相反的顺序将保存有处理后的晶片200的舟皿217从
处理室201内输出,并将保存有处理后的晶片200的盒110向框体111外输出。
[0051] (4)处理炉的结构
[0052] 接下来,利用图4对本实施方式的处理炉202的结构进行说明。图4是本发明的一个实施方式的基板处理装置100的处理炉202的纵剖视图。
[0053] 如图4所示,处理炉202具备作为反应管的工艺管203。工艺管203具备作为内部反应管的内管204、以及作为外部反应管的外管205,该外管205设置于上述内管的外侧。内管204例如由
石英(SiO2)或者
碳化硅(SiC)等耐热性材料构成。内管204形成为上端及下端开口的圆筒形状。在内管204内的筒中空部形成有对作为基板的晶片200进行处理的处理室
201。处理室201内构成为能够收容后述的舟皿217。外管205设置为与内管204呈同心圆状。
外管205的内径比内管204的外径大,并形成为上端封闭且下端开口的圆筒形状。外管205例如由石英或者碳化硅等耐热性材料构成。
[0054] 在工艺管203的外侧以将工艺管203的
侧壁面包围的方式设置有作为加
热机构的加热器206。加热器206构成为圆筒形状。加热器206通过支承于作为保持板的加热器
基座251而被垂直地安装。
[0055] 在外管205的下方以与外管205呈同心圆状的方式配设有
歧管209。歧管209例如由不锈
钢等构成。歧管209形成为上端及下端开口的圆筒形状。歧管209与内管204的下端部以及外管205的下端部分别卡合。歧管209设置为对内管204的下端部和外管205的下端部进行支承。此外,在歧管209与外管205之间设置有作为密封部件的O形环220a。歧管209被支承于加热器基座251,由此,工艺管203处于被垂直地安装的状态。由工艺管203和歧管209形成反应容器。
[0056] 在后述的密封盖219上,以与处理室201内连通的方式连接有作为气体导入部的处理气体
喷嘴230a以及吹扫气体喷嘴230b。在处理气体喷嘴230a连接有处理气体供给管232a。在处理气体供给管232的上游侧(与处理气体喷嘴230a的连接侧的相反侧)经由作为气体流量控制器的MFC(mass flow controller:
质量流量控制器)241a而连接有未图示的处理气体供给源等。另外,在吹扫气体喷嘴230b连接有吹扫气体供给管232b。在吹扫气体供给管232b的上游侧(与吹扫气体喷嘴230b的连接侧的相反侧)经由作为气体流量控制器的MFC(质量流量控制器)241b而连接有未图示的吹扫气体供给源等。
[0057] 主要通过处理气体供给源(未图示)、MFC241a、处理气体供给管232a以及处理气体喷嘴230a构成了本实施方式的处理气体供给系统。主要通过吹扫气体供给源(未图示)、MFC241b、吹扫气体供给管232b以及吹扫气体喷嘴230b构成了本实施方式的吹扫气体供给系统。主要通过处理气体供给系统以及吹扫气体供给系统构成了本实施方式的气体供给系统。在MFC241a、241b电连接有后述的作为子控制器的气体供给控制器14。
[0058] 在歧管209上设有将处理室201内的环境气体排出的排气管231。排气管231配置于由内管204和外管205之间的间隙形成的筒状空间250的下端部。排气管231与筒状空间250连通。在排气管231的下游侧(与歧管209的连接侧相反的一侧),自上游侧起按顺序连接有作为压
力检测器的
压力传感器245、例如作为APC(Auto Pressure Contoroller:自动压力控制器)而构成的压力调整装置242、
真空泵等真空排气装置246。主要通过排气管231、压力传感器245、压力调整装置242以及真空排气装置246构成了本实施方式的气体排出机构。在压力调整装置242以及压力传感器245电连接有后述的作为子控制器的压力控制器13。
[0059] 在歧管209的下方设置有作为能够将歧管209的下端开口气密地封闭的炉口盖体的密封盖219。密封盖219从垂直方向下侧与歧管209的下端抵接。密封盖219例如由
不锈钢等金属构成。密封盖219形成为圆盘状。在密封盖219的上表面设有与歧管209的下端抵接的作为密封部件的O形环220b。
[0060] 在密封盖219的中心部附近且在处理室201的相反侧设置有使舟皿旋转的旋转机构254。旋转机构254的旋
转轴255将密封盖219贯穿且从下方对舟皿217进行支承。旋转机构254构成为通过使舟皿217旋转而能够使晶片200旋转。
[0061] 密封盖219构成为通过在工艺管203的外部垂直地设置的作为基板保持件升降机构的舟皿升降机115而在垂直方向上升降。通过使密封盖219升降而能够将舟皿217向处理室201的内外搬运。在旋转机构254以及舟皿升降机115电连接有后述的作为子控制器的搬运控制器11。
[0062] 如上所述,作为基板保持件的舟皿217构成为使多个晶片200以水平姿势且使彼此中心对齐的状态排列,并在多层保持这些晶片。在舟皿217的下部,以水平姿势在多层配置有多张作为绝热部件的绝热板216。绝热板216形成为与晶片200相同的圆板形状。此处,绝热板216构成为难以将来自加热器206的热量向歧管209侧传导。
[0063] 在工艺管203内设置有作为
温度检测器的温度传感器263。主要通过加热器206以及温度传感器263构成了本实施方式的加热机构。在上述加热器206和温度传感器263电连接有后述的作为子控制器的
温度控制器12。
[0064] 主要通过气体排出机构、气体供给系统、加热机构构成了本实施方式的基板处理系统构。
[0065] (5)处理炉的动作
[0066] 接下来,参照图4,对作为
半导体器件的制造工序的一道工序而利用上述结构的处理炉202并通过CVD法在晶片200上形成
薄膜的方法进行说明。此外,在以下说明中,构成基板处理装置100的各部分的动作由基板处理装置用控制器240来控制。
[0067] 若将多个晶片200装填(晶片装载)于舟皿217,则如图4所示,通过舟皿升降机115抬起保持有多个晶片200的舟皿217并将其向处理室201内输入(装载于舟皿)。在该状态下,密封盖219形成为借助O形环220b而将歧管209的下端密封的状态。
[0068] 利用真空排气装置246进行真空排气以使处理室201内达到所需的压力(真空度)。此时,基于压力传感器245测定所得的压力值而对压力调整装置242(的
阀的开度)进行反馈控制。另外,利用加热器206进行加热以使处理室201内达到所需的温度。此时,基于温度传感器263检测到的温度值而对向加热器206的通电量进行反馈控制。接下来,利用旋转机构
254使舟皿217以及晶片200旋转。
[0069] 接下来,从处理气体供给源供给且利用MFC241a控制为达到所需的流量的处理气体,在气体供给管232a内流通且被从喷嘴230a向处理室201内导入。导入的处理气体在处理室201内上升、且从内管204的上端开口向筒状空间250内流出从而从排气管231排出。气体在从处理室201内通过时与晶片200的表面
接触,此时通
过热CVD反应而使得薄膜沉积(deposition)于晶片200的表面上。
[0070] 若经过了预先设定的处理时间,则将从吹扫气体供给源供给且利用MFC241b控制为达到所需的流量的吹扫气体向处理室201内供给,将处理室201内置换为非活性气体,并且使处理室201内的压力恢复为常压。
[0071] 然后,利用舟皿升降机115使密封盖219下降而使得歧管209的下端开口,并且将保持处理完毕的晶片200的舟皿217从歧管209的下端向工艺管203的外部输出(装载于舟皿)。然后,将处理完毕的晶片200从舟皿217取出并向盒110内存储(装载晶片)。
[0072] (6)基板处理装置用控制器的结构
[0073] 接下来,参照图5,针对对构成处理炉202的各部分的动作进行控制的基板处理装置用控制器240及其周围的框式结构进行说明。
[0074] 图5是本发明的一个实施方式的基板处理装置所具备的基板处理用控制器及其周围的结构框图。
[0075] (基板处理装置用控制器)
[0076] 基板处理装置用控制器240构成为具备作为控制部的CPU(中央处理装置)1a、作为临时存储部的
存储器(RAM)1b、作为存储部的固定存储装置的
硬盘(HDD)1c、作为通信控制部的发送接收模
块1d、时钟功能(未图示)的计算机。在硬盘1c中,除了作为工艺配方的基板处理配方、作为维护配方的清洁配方等的配方文件等编辑文件以外,还保存有显示程序文件等各种程序文件、各种画面文件、各种图标文件等(均未图示)。在本实施方式中,在存储部中保存有用于对气体流型图进行编辑的编辑文件、用于对气体流型图进行显示的作为数据文件的项目文件以及作为图形图像文件的位图文件。在本实施方式中,此后,将工艺配方、清洁配方称为配方文件,并将利用创建气体流型图的专用的数据编辑工具创建的编辑文件简称为编辑文件,由此加以区分。
[0077] 基板处理配方是定义有对晶片200进行处理的处理条件、处理顺序等的配方。另外,在配方文件中,针对基板处理的每个步骤设定有向搬运控制器11、温度控制器12、压力控制器13、气体供给控制器14等子控制器发送的设定值(控制值)、发送定时等。
[0078] 在基板处理装置用控制器240连接有作为操作部的触摸面板7。触摸面板7构成为对接收向上述的基板搬运系统、基板处理系统的操作命令的输入的操作画面(显示部)进行显示。作为这样的显示部的操作画面具备用于确认基板搬运系统、基板处理系统的状态、或者输入针对基板搬运系统、基板处理系统的动作指示的各种显示栏以及操作按钮。此外,操作部并不限于构成为触摸面板7的情况,也可以如个人计算机等操作终端(终端装置)那样构成为包括显示器(显示部)和
键盘(输入部)。
[0079] CPU(Central Processing Unit:
中央处理器)1a构成基板处理装置用控制器240的中枢,执行存储于未图示的ROM的控制程序,并根据来自操作面板7的指示而执行存储于作为配方存储部的HDD1c的配方(例如、工艺用配方)。ROM是由EEPROM、闪存存储器、硬盘等构成的、存储CPU1a的动作程序等的记录介质。存储器(RAM)1b作为CPU1a的工作区域(临时存储部)等而发挥功能。本发明的实施方式的基板处理装置用控制器240并不依赖于专用的系统,能够利用通常的
计算机系统而实现。例如,通过从保存有用于执行上述处理的程序的记录介质(
软盘、CD-ROM、USB等)将该程序安装于通用计算机,能够构成执行上述处理的基板处理装置用控制器240。
[0080] 而且,用于供给上述程序的单元是任意的。除了如上所述那样能够经由规定的记录介质进行供给之外,例如还可以经由通信回线、通信网络、通信系统等进行供给。在该情况下,例如可以在通信网络的公告板对该程序进行公告,并经由网络使其与载波重叠地进行提供。而且,通过起动以这种方式提供的程序,并在OS的控制下与其他应用程序同样地执行该程序,能够执行上述处理。
[0081] (基板处理装置用控制器与群组管理装置的连接)
[0082] 基板处理装置用控制器240的发送接收模块1d以能够经由网络400进行通信的方式与主机计算机、监视器
服务器等的群组管理装置500连接。
[0083] 发送接收模块1d构成为对与群组管理装置500之间的通信进行控制。
[0084] (基板处理装置用控制器与子控制器的连接)
[0085] 在基板处理装置用控制器240的发送接收模块1d分别连接有作为子控制器的搬运控制器11、温度控制器12、压力控制器13、气体供给控制器14、以及开关、传感器类设备15。
[0086] 搬运控制器11构成为对构成基板搬运系统的旋转式盒架105、舟皿升降机115、盒搬运装置(基板收容器搬运装置)118、晶片移载机构(基板移载机构)125、舟皿217以及旋转机构254的搬运动作分别进行控制。另外,虽未进行图示,但在构成基板搬运系统的旋转式盒架105、舟皿升降机115、盒搬运装置(基板收容器搬运装置)118、晶片移载机构(基板移载机构)125、舟皿217以及旋转机构254分别内置有传感器。搬运控制器11构成为当上述传感器分别显示出规定的值、异常的值等时,向基板处理装置用控制器240通知该主旨。
[0087] 温度控制器12构成为通过对处理炉202的加热器206的温度进行控制而调节处理炉202内的温度,并且当温度传感器263显示出规定的值、异常的值等时,向基板处理装置用控制器240通知该情况。
[0088] 压力控制器13构成为,基于由压力传感器245检测到的压力值对压力调整装置242进行控制以使处理室201内的压力在所需的定时达到所需的压力,并且当压力传感器245显示出规定的值、异常的值等时,向基板处理装置用控制器240通知该情况。
[0089] 气体供给控制器14构成为通过使气体阀(未图示)开闭而对来自处理气体供给管232a、吹扫气体供给管232b的气体的供给、停止进行控制。另外,气体供给控制器14构成为对MFC241a、241b进行控制以使得向处理室201内供给的气体的流量在所需的定时达到所需的流量。气体供给控制器14构成为,当气体阀(未图示)、MFC241a、241b所具备的传感器(未图示)显示出规定的值、异常的值等时,向基板处理装置用控制器240通知该情况。
[0090] 门开关130以及基板检测传感器140等的开关、传感器类设备15构成为,检测框体111、子框体119、正面维护门104等的开闭、盒110向装载端口114上的载置状况,并向基板处理装置用控制器240通知该情况。
[0091] (本发明的优选实施方式)
[0092] 接下来,作为具体的编辑文件的一个
实施例,利用图6~图10对气体流型图进行说明。
[0093] (第1实施方式)
[0094] 首先,图6中示出了直至利用用于编辑气体流型图的编辑工具创建编辑文件、且使装置操作部进行显示为止的流程。利用作为
软件的气体流型专用的编辑工具创建上述编辑文件(新格式)。而且将该编辑文件安装于基板处理装置的基板处理装置用控制器240,并且将编辑文件分离为位图文件和项目文件,将该分离后的位图文件和项目文件安装于所述基板处理装置的基板处理装置用控制器240。
[0095] 在基板处理装置用控制器240再起动的初始化时,检测气体流型图发生了改变(数据变更检测处理)并进行认证处理。然后,若通过该密码认证处理而判定为OK(通过认证),则使操作显示部起动并通过显示程序的执行而对气体流型图进行显示。此外,若通过密码认证处理而判定为NG(没通过认证),则不使操作显示部起动。此处,数据变更检测处理是如下处理:预先复制以往最后保存的项目文件,对该项目文件和编辑文件的数据部(与项目文件相当的数据部分)进行比较,并对气体流型图的数据变更进行检测。像这样,能够检测到用于编辑气体流型图的编辑文件被修改。此外,后文中对密码认证处理进行叙述。
[0096] 由于这些编辑文件和项目文件被加密,所以无法直接进行修改。设置成,即使对数据结构进行解析且不使用编辑工具就直接进行了修改,在使密码复原时也无法对篡改进行检测及显示。后文中对检查该数据篡改的处理的详情进行叙述,此处省略说明。
[0097] 图8是表示基板处理装置用控制器240通过上述显示程序对气体流型图进行显示的机制(装置操作部的显示方式)的一个实施例。像这样,构成为将分离成位图文件和项目文件这2者的文件合并(合成)而创建气体流型图,并在操作显示部进行显示。
[0098] 此外,也可以构成为通过作业人员的登录处理而使显示程序起动。此处,即使在通过基于基板处理装置用控制器240的显示程序的执行而对气体流型图进行显示的情况下,也能够设为无权限的作业人员无法进行气体流型图中的阀开闭条件等的设定变更。另外,也可以构成为在无权限的作业人员登录后的情况下,不执行显示程序。
[0099] 根据本实施方式(第1实施方式),能够实现以下的(a)~(b)所记载的效果中的至少一个以上的效果。
[0100] (a)根据本实施方式(第1实施方式),即使丢失了数据编辑工具,只要编辑文件被修改,就进行基于密码的认证处理,由此仍能够防止第三人对编辑文件的编辑作业,因此能够防止数据的流失。
[0101] (b)根据本实施方式(第1实施方式),即使丢失了数据编辑工具也进行数据变更检测处理,只要改变了编辑文件的数据,就进行密码认证处理,因此仍能够防止第三人对编辑文件的编辑作业,从而能够防止数据的流失。
[0102] (c)根据本实施方式(第1实施方式),即使丢失了数据编辑工具,只要编辑文件被修改,就对编辑文件、项目文件加密,由此防止第三人对编辑文件的编辑作业,因此能够防止数据的流失。
[0103] (第2实施方式)
[0104] 利用图7对旧版本的编辑工具丢失时的对策进行说明。在对基板处理装置用控制器240进行操作的画面中显示的气体流型图是根据每个基板处理装置100而不同的固有的气体流型图,因此利用专用的编辑工具创建数据。
[0105] 利用新版本的编辑工具对编辑文件的格式进行变更。此时,新格式将加密后的数据作为文件。例如,在本实施方式中,对数据进行了压缩。利用新版本的编辑工具创建的编辑文件具有如下数据结构(格式),该数据结构包括:标头(header);数据部,其至少包括与规定的数据文件(项目文件)、规定的图形图像文件(位图文件)相当的部分;以及加密数据部,其包括对所述规定的数据文件进行加密后的数据。因而,当将该编辑文件保存(安装)于基板处理装置用控制器240时,以从编辑文件分离为项目文件和位图文件的状态进行保存(安装)。此处,项目文件由字符、数值的数据构成,包括MFC、阀、处理炉等的条目(项目)。另外,位图文件包括配管、炉口部、
气化器等的图标。
[0106] 像这样,即使编辑工具泄露出去,通过对编辑文件的格式进行变更而进行版本管理,也使得第三人无法进行气体流型图的编辑。例如,即使欲起动旧版本的编辑工具而对新版本的编辑文件进行操作,由于在安装有旧版本的编辑工具的个人计算机等终端装置中无法读入新版本的编辑文件,从而也无法进行气体流型图的改造。此外,当然构成为,当起动新版本的编辑工具时,不仅无法读入新版本的编辑文件,而且还无法读入旧版本的编辑文件。
[0107] 根据本实施方式(第2实施方式),能够实现第1实施方式的效果、以及以下的(c)~(d)所记载的效果中的至少一个以上的效果。
[0108] (c)根据本实施方式(第2实施方式),由于通过对编辑文件内的数据进行加密而变更了编辑文件的格式,因此即使丢失了数据编辑工具也能够防止第三人的编辑作业,从而能够防止数据的流失。
[0109] (d)根据本实施方式(第2实施方式),通过进行版本管理,即使起动旧版本的气体流型数据编辑工具也无法读入新版本的编辑文件,因此能够将恶意使用旧版本的编辑工具的危险性抑制得低。
[0110] (第3实施方式)
[0111] 利用图9对在第3实施方式的新版本的编辑工具泄露的情况下的对策进行说明。
[0112] 图9是表示从新编辑工具向装置的安装至其在操作部中的起动为止的操作的图。
[0113] 首先,将新编辑工具复制至个人计算机。此处,新编辑工具构成为仅通过复制无法起动。另外,为了起动编辑工具要输入密码(S01)。若在个人计算机上起动新编辑工具,则在画面上显示询问关键字(S02)。例如,为了获取密码而将询问关键字输入至敝公司Web(公司内网)上的规定部分。该密码是以秒为单位更换的密码。另外,由于以秒为单位变化,所以无法沿用获取到的以秒为单位更换的密码(S03)。接着,能够利用该密码从个人计算机安装至装置(S04)。然后,每当在装置的操作部起动新编辑工具时,就需要以天为单位更换的密码。因而,在无法
访问敝公司Web的情况下,无法获取以天为单位更换的密码,因此,即使安装有新编辑工具的个人计算机流失,也不会出现由第三人对新编辑工具进行操作的情况(S05),然后,若将从敝公司Web获取的以天为单位更换的密码输入,则新编辑工具的起动成功(S06)。此外,当最初起动新编辑工具时,当然也可以不设置以秒为单位变更的密码,而设置以天为单位变更的密码。但是,有时在个人计算机(PC)上起动编辑工具来创建编辑文件(用于显示气体流型图的文件)并将其安装于装置的作业是在1天内进行的,因此,优选使在个人计算机中输入的密码和在装置上起动时所输入的密码不同。因此,在本实施方式中,组合使用以秒为单位的密码和以天为单位更换的密码。
[0114] 像这样,在本实施方式(第3实施方式)中,构成为,直至新编辑工具的操作部起动为止而输入多个密码。组合使用以秒为单位的密码和以天为单位更换的密码。由于需要从敝公司Web
站点获得这些密码,因此需要经由员工。像这样,构成为必须经由本公司员工来提供密码。另外,由于这些密码是以秒为单位的密码或者以天为单位更换的密码,因此,在获取到这些密码之后无法继续沿用。因而,即使新编辑工具落入第三人手中,第三人也难以随意地进行操作。
[0115] 并且,针对首次起动新编辑工具时在操作画面中显示的关键字(询问关键字)具有如下处理:在登录规定的Web(例如敝公司Web站点)之后,将所述关键字输入至预先决定的规定的部位(例如关键字输入画面)。由于向敝公司Web的登录需要密码认证,因此,为了获得这些密码(例如以秒为单位的密码、以天为单位更换的密码等),若是员工则能够顺利地获取,但在离职之后则难以获得登录用的密码,访问敝公司Web站点本身也变得困难。因而,无法由第三人对编辑工具进行操作。因而,即使原员工不正当地获取到新编辑工具,原员工也难以随意地对新编辑工具进行操作。
[0116] 即使在将新编辑工具安装于个人计算机并能够起动新编辑工具的状态下,在起动新编辑工具创建编辑文件(例如用于显示气体流型图的文件)并将其安装于操作部而进行显示的情况下,也必须输入密码。为了获取该密码,需要只有通过敝公司Web站点才能够获得的密码,因此,即使无法访问敝公司Web站点的第三人不正当地获得新编辑工具,也无法获得密码。因而,通过使得第三人利用新编辑工具创建的气体流型图无法显示,从而使得员工以外的第三人无法对气体流型图进行编辑。
[0117] 根据本实施方式(第3实施方式),能够实现第1实施方式以及第2实施方式的效果、以及以下的(e)~(l)所记载的效果中的至少一个以上的效果。
[0118] (e)根据本实施方式(第3实施方式),在起动新版本的编辑工具时必须输入密码。该密码不通过本公司的互联
网站点则无法获得,在
基础上,还以天为单位更换从而仅在1天内有效。因而,若员工离职,即使沿用获得的密码,也无法访问并进入敝公司站点。因此,无法由第三人对编辑工具进行操作。
[0119] (f)另外,根据本实施方式(第3实施方式),若未获得密码则无法对新编辑工具进行操作,在此基础上,只有通过敝公司的内联网才能够获得密码,因此,敝公司以外的人员无法不正当地使用编辑工具。因而,由于若未获得密码则无法对新编辑工具进行操作,所以例如第三人无法随配管的改造而对气体流型图进行编辑。
[0120] (g)另外,根据本实施方式(第3实施方式),以使得第三人利用新编辑工具创建的气体流型图无法显示的方式,使得员工以外的第三人难以获取密码,因此,构建了即使第三人不正当地获取到新编辑工具也不会造成影响的机制,若未获得密码则无法对利用新编辑工具创建的编辑文件进行操作,从而第三人无法随配管的改造而对气体流型图进行编辑。
[0121] (h)根据本实施方式(第3实施方式),为了获得密码必须访问敝公司站点,因此,虽然员工能够顺利地获取到密码,但离职之后则难以获得密码,从而访问敝公司站点本身也变得困难。因而,即使原员工不正当地获取到新编辑工具,原员工也无法随意地对新编辑工具进行操作。由此,能够防止利用敝公司开发的新编辑工具的恶性业务。
[0122] (i)根据本实施方式(第3实施方式),在利用新编辑工具例如对气体流型图进行编辑的情况下,需要敝公司员工以某种方式参与其中,因此,第三人随意地对新编辑工具进行操作则无法对气体流型图进行编辑。
[0123] (j)根据本实施方式(第3实施方式),由于第三人无法随意地对新编辑工具进行操作而对气体流型图进行编辑,因此,无法随意地进行气体流型图的编辑。由此,不会出现了解装置的人员以外的第三人进行气体配管的改造的情况,因此安全性(安全)方面的危险得到抑制。
[0124] (k)根据本实施方式(第3实施方式),由于第三人无法随意地进行气体流型图的编辑,因此,气体配管改造中的安全性(安全)方面的危险得到抑制。由此,在气体配管改造时,第三人无法容易地变更在半导体制造装置中处理基板所使用的气体流动的气体流型图。例如,在半导体制造装置中处理基板所使用的气体多为在操作时需要注意的气体(具有危险性的气体、具有燃烧性的气体等),但由于不会出现由了解装置的人员以外的第三人进行处理的情况,所以尤其有效。
[0125] (l)根据本实施方式(第3实施方式),由于构成为第三人无法随意地对气体流型图的编辑工具进行编辑(操作),因此,气体配管改造中的安全性(安全)方面的危险得到抑制。特别是在半导体制造装置中处理基板所使用的气体多为操作时需要注意的气体(具有危险性的气体、具有燃烧性的气体等),了解装置的人员以外的第三人有可能例如因未注意到通过气体流型图显示的内容与实际的气体配管的图案不同等致命的失误而造成事故,但由于第三人无法随意地进行气体流型图的编辑,因此尤其有效。
[0126] (第4实施方式)
[0127] 利用图10,对在起动显示程序使操作显示部对气体流型图进行显示之前执行的数据校验处理(装置操作部的适当性检查方式)进行说明。
[0128] 当将规定的密码输入而起动对气体流型图进行显示的装置操作部时,首先进行格式判定。即,装置操作部判定是新格式还是旧格式(S10)。若判定为旧格式,则利用显示程序对气体流型图进行显示。
[0129] 另一方面,若判定为新格式,则对加密的部分进行破译。在本实施方式中,通过规定的方法对数据进行压缩。对该破译后的数据、和编辑文件的数据(项目文件)进行比较(S20)。若比较的结果为数据一致,则利用显示程序对气体流型图进行显示。另外,若数据不一致,则判定为数据(项目文件)被实施了不正当的编辑,因此不显示气体流型图。
[0130] 像这样,在本实施方式(第4实施方式)中,为了在装置的操作部中对气体流型图进行显示,需要在起动新编辑工具时对数据的变更进行检测并输入密码。另外,即使基于密码的认证为OK,还通过加密实施对数据(项目文件)的不正当的编辑进行检查的处理,因此,构成为,即使新编辑工具落入第三人手中,在装置的操作部也不显示气体流型图。
[0131] 根据本实施方式(第4实施方式),能够实现第1实施方式至第3实施方式的效果、以及以下的(l)~(m)所记载的效果中的至少一个以上的效果。
[0132] (l)根据本实施方式(第4实施方式),构成为,在旧格式时,不进行项目文件的适当性检查而直接在操作画面中显示气体流型图,但在新格式时则进行项目文件的适当性检查,因此,仅在通过数据认证处理而判定为OK时进行显示。由此,即使不正当地对项目文件(数据)进行了编辑也无法进行画面显示,因此,能够防止由第三人对编辑文件的数据的篡改。
[0133] (m)根据本实施方式(第4实施方式),即使在项目文件的数据部被破译的情况下,也不会出现在处理装置的操作画面中对气体流型图进行显示的情况,因此无法由第三人对气体流型图进行编辑。
[0134] 如上所述,根据本发明(第1实施方式至第4实施方式),由于形成为尽量无法由第三人进行数据编辑工具的编辑的机制,所以例如利用不正当地获取的气体流型图的编辑工具而承揽气体流型图等的改造业务得以抑制。
[0135] 另外,虽然本发明(第1实施方式至第4实施方式)的数据编辑工具主要在国内使用,但有时也在国外的据点使用,此时有丢失的可能性,但根据本发明,即使本编辑工具因某种理由而落入毫不相关的第三人手中,也能够抑制对数据进行编辑的危险性。
[0136] 另外,根据本发明(第1实施方式至第3实施方式),即使气体流型图的编辑工具落入第三人手中,也能够抑制对数据进行编辑的危险性,因此,了解装置的人员以外的第三人无法进行需要了解装置的人员付出足够的注意而进行的气体配管的改造。
[0137] 另外,根据本发明(第1实施方式至第4实施方式),能够降低气体流型图的编辑工具落入第三人手中、且由了解装置的人员以外的第三人进行气体配管的改造的风险。特别是在半导体制造装置中用于对基板进行处理气体多为处理时需要注意的气体(具有危险性的气体、具有燃烧性的气体等),从而能够获得防止例如因实际的气体配管和气体流型图的不同而造成的事故等显著的效果。
[0138] <本发明的其他实施方式>
[0139] 在本实施方式中,对与基板处理装置独立地具备数据编辑工具的操作终端进行了详细叙述,但并不限于此,例如即使在基板处理装置的基板处理装置用控制器240中具备数据编辑工具的情况下,也能够应用本发明。
[0140] 此外,在本实施方式中,作为基板处理装置的一个例子而示出了半导体制造装置,但并不局限于半导体制造装置,也可以是LCD装置之类的对气体基板进行处理的装置。另外,基板处理的具体内容是任意的,不仅可以是成膜处理,也可以是
退火处理、氧化处理、氮化处理、扩散处理等处理。另外,成膜处理例如可以是CVD、PVD、形成氧化膜、氮化膜的处理、形成含有金属的膜的处理。
[0141] 以上虽然对本发明的实施方式进行了具体说明,但本发明并不限于上述实施方式,在不脱离其主旨的范围内能够进行各种变更。
[0142] <本发明的优选方式>
[0143] 以下对本发明的优选方式进行备注。
[0144] (备注1)根据本发明的一个方式,提供一种处理装置,该处理装置包括:存储部,其存储至少包括与规定的图形图像文件相当的数据和与规定的数据文件相当的数据、以及将所述规定的数据文件加密后的加密数据在内的数据结构的编辑文件;以及控制部,其执行比较处理和生成处理,其中,比较处理为对将所述加密数据解除而生成的所述规定的数据文件(与其相当的数据)和所述规定的数据文件(与其相当的数据)进行比较的处理,生成处理为根据所述比较的结果将所述规定的图形图像文件(与其相当的数据)和所述规定的数据文件(与其相当的数据)合并为一个文件而生成所述编辑文件的处理。
[0145] (备注2)优选提供一种处理装置,其为备注1的处理装置,所述规定的图形图像文件是位图文件,所述规定的数据文件是项目文件。
[0146] (备注3)优选提供一种处理装置,其为备注1或备注2的处理装置无法对所述规定的图形图像文件和所述规定的数据文件分别单独地进行编辑。
[0147] (备注4)优选提供一种处理装置,其为备注1的处理装置,所述加密数据是对与所述规定的数据文件相当的数据进行压缩后的数据(压缩数据)。
[0148] (备注5)优选提供一种处理装置,其为备注4的处理装置,构成为,当破译针对所述加密数据而设置的密码时,执行使压缩后的数据(压缩数据)复原的处理。
[0149] (备注6)优选提供一种处理装置,其为备注5的处理装置,构成为,对执行了使压缩后的数据复原的处理之后的数据、和与保存于所述编辑文件的所述规定的数据文件相当的数据进行比较。
[0150] (备注7)根据本发明的另一方式,提供一种控制器,该控制器包括:存储部,其存储该数据结构至少包括与规定的图形图像文件相当的数据和与规定的数据文件相当的数据、以及将所述规定的数据文件加密后的加密数据在内的数据结构的编辑文件;以及控制部,其执行比较处理和生成处理,其中,比较处理为对将所述加密数据解除而生成的所述规定的数据文件(与其相当的数据)和所述规定的数据文件(与其相当的数据)进行比较的处理,生成处理为根据所述比较的结果将所述规定的图形图像文件(与其相当的数据)和所述规定的数据文件(与其相当的数据)合并为一个文件而生成所述编辑文件的处理。
[0151] (备注8)根据本发明的又一方式,提供使计算机执行如下处理的程序、以及能够读取该程序的记录介质:存储处理,其为对存储至少包括与规定的图形图像文件相当的数据和与规定的数据文件相当的数据、以及将所述规定的数据文件加密后的加密数据在内的数据结构的编辑文件的处理;比较处理,其为对将所述加密数据解除而生成的所述规定的数据文件和所述规定的数据文件进行比较的处理;以及生成处理,其为根据所述比较的结果将所述规定的图形图像文件和所述规定的数据文件合并为一个文件而生成所述编辑文件的处理。
[0152] (备注9)根据本发明的又一方式,提供一种具有处理装置的处理系统,该处理装置包括:存储部,其存储至少包括与规定的图形图像文件相当的数据和与规定的数据文件相当的数据、以及将所述规定的数据文件加密后的加密数据在内的数据结构的编辑文件;以及控制部,其执行比较处理和生成处理,其中,比较处理为对将所述加密数据解除而生成的所述规定的数据文件和所述规定的数据文件进行比较的处理,生成处理为根据所述比较的结果将所述规定的图形图像文件和所述规定的数据文件合并为一个文件而生成所述编辑文件的处理。
[0153] (备注10)提供一种处理装置的控制方法,该处理装置的控制方法包括:存储工序,存储至少包括与规定的图形图像文件相当的数据和与规定的数据文件相当的数据、以及将所述规定的数据文件加密后的加密数据在内的数据结构的编辑文件;比较工序,对与将所述加密数据解除而生成的数据文件相当的数据、和与所述规定的数据文件相当的数据进行比较的工序;以及显示工序,在所述操作画面中显示根据所述比较的结果将所述规定的图形图像文件和所述规定的数据文件合并为一个文件而生成的所述编辑文件。
[0154] (备注11)优选提供一种处理装置的控制方法,其为备注10的处理装置的控制方法,对与将所述加密数据的密码解除而生成的数据文件相当的数据、和与将所述编辑文件分离时所生成的所述规定的数据文件相当的数据进行比较,在比较结果为与所述数据文件相当的数据和与所述规定的数据文件相当的数据不一致的情况下,判定为对所述规定的数据文件实施了不正当的编辑,在所述数据文件与所述规定的数据文件一致的情况下,将所述规定的图形图像文件和所述规定的数据文件合并为一个文件。
[0155] (备注12)提供一种处理装置,该处理装置包括:操作部,其具备对规定的编辑文件进行编辑的操作画面;存储部,其在将所述编辑文件分别分离为规定的图形图像文件和规定的数据文件的2个文件的状态下对所述编辑文件进行存储,并对包括将所述规定的数据文件加密后的加密数据的所述编辑文件进行存储;以及控制部,其执行比较处理和生成处理,其中,比较处理为对与将所述加密数据解除而生成的所述规定的数据文件相当的数据和将所述编辑文件分离时所生成的所述规定的数据文件进行比较的处理,生成处理为根据所述比较的结果而将所述规定的图形图像文件和所述规定的数据文件合并为一个文件的处理、以及在所述操作画面中对通过所述合并而生成的所述编辑文件进行显示的处理。
[0156] (备注13)优选提供一种处理装置,其为备注12的处理装置,所述规定的图形图像文件是位图文件,所述规定的数据文件是项目文件。
[0157] (备注14)优选提供一种处理装置,其为备注12或备注13的处理装置,构成为无法对所述规定的图形图像文件和所述规定的数据文件分别单独地进行编辑。
[0158] (备注15)优选提供一种处理装置,其为备注12的处理装置,所述加密数据是对与所述规定的数据文件相当的数据进行压缩后的数据(压缩数据)。
[0159] (备注16)优选提供一种处理装置,其为备注15的处理装置,构成为执行如下处理:当破译针对所述加密数据设置的密码时使压缩后的数据复原的处理;以及对执行使压缩后的数据复原的处理之后的数据、和与所述项目文件相当的数据进行比较的处理。
[0160] (备注17)优选提供一种处理装置,其为备注1或备注12的处理装置,所述编辑文件是通过起动气体流型图专用的数据编辑工具而创建的文件。
[0161] (备注18)优选提供一种处理装置,其为备注13的处理装置,与所述位图文件相当的数据包括构成气体供给管线或者气体排气管线的配管。
[0162] (备注19)优选提供一种处理装置,其为备注13的处理装置,与所述位图文件相当的数据是表示处理炉、气化器、泵等的图标数据。
[0163] (备注20)优选提供一种处理装置,其为备注13的处理装置,与所述项目文件相当的数据是与阀、MFC等相关的各种数据。
[0164] (备注21)提供一种控制器,该控制器包括:操作部,其具备对规定的编辑文件进行编辑的操作画面;存储部,其在将所述编辑文件分别分离为规定的图形图像文件和规定的数据文件的2个文件的状态下对所述编辑文件进行存储,并对包括将所述规定的数据文件加密后的加密数据的所述编辑文件进行存储;以及控制部,其执行对将所述加密数据解除而生成的所述规定的数据文件和将所述编辑文件分离时所生成的所述规定的数据文件进行比较的处理、根据所述比较的结果而将所述规定的图形图像文件和所述规定的数据文件合并为一个文件的处理、以及在所述操作画面中对通过所述合并而生成的所述编辑文件进行显示的处理。
[0165] (备注22)根据本发明的又一方式,提供一种基板处理装置的显示方法,其为处理装置的显示方法,该处理装置具备:操作部,其具备对规定的编辑文件进行编辑的操作画面;以及存储部,其在将编辑文件分别分离为规定的图形图像文件和规定的数据文件的2个文件的状态下对所述编辑文件进行存储,并对包括将所述规定的数据文件加密后的加密数据的所述编辑文件进行存储,该基板处理装置的显示方法包括如下的工序:对将所述加密数据的密码解除而生成的数据文件和将所述编辑文件分离时所生成的所述规定的数据文件进行比较,根据所述比较的结果而将所述规定的图形图像文件和所述规定的数据文件合并为一个文件、且在所述操作画面中对所述编辑文件进行显示。
[0166] (备注23)优选提供一种基板处理装置的显示方法,其为备注21的基板处理装置的显示方法,对将所述加密数据的密码解除而生成的数据文件和将所述编辑文件分离时所生成的所述规定的数据文件进行比较,在比较结果为所述数据文件与所述规定的数据文件不一致的情况下,判定为对所述规定的数据文件实施了不正当的编辑,在操作画面中不显示所述编辑文件,在所述数据文件与所述规定的数据文件一致的情况下,将所述规定的图形图像文件和所述规定的数据文件合并为一个文件,在操作画面中对所述编辑文件进行显示。
[0167] (备注24)根据本发明的又一方式,提供一种使计算机执行如下步骤的程序以及能够读取该程序的记录介质:创建规定的编辑文件的顺序;在将所述编辑文件分别分离为规定的图形图像文件和规定的数据文件的2个文件的状态下对所述编辑文件进行存储,并且对包括将所述规定的数据文件加密后的加密数据的所述编辑文件进行存储的顺序;对将所述加密数据的密码解除而生成的数据文件和将所述编辑文件分离时所生成的所述规定的数据文件进行比较的顺序;根据所述比较的结果而将所述规定的图形图像文件和所述规定的数据文件合并为一个文件的顺序;以及在操作画面中显示通过所述合并而生成的所述编辑文件的顺序。
[0168] (备注25)根据本发明的又一方式,提供一种处理系统,该处理系统包括操作装置和处理装置,操作装置具备对规定的编辑文件进行编辑的操作画面,处理装置包括:存储部,其在将所述编辑文件分别分离为规定的图形图像文件和规定的数据文件的2个文件的状态下对所述编辑文件进行存储,并对包括将所述规定的数据文件加密后的加密数据的所述编辑文件进行存储;以及控制部,其执行对将所述加密数据解除而生成的所述规定的数据文件和将所述编辑文件分离时所生成的所述规定的数据文件进行比较的处理、根据所述比较的结果而将所述规定的图形图像文件和所述规定的数据文件合并为一个文件的处理、以及在所述操作画面中显示通过所述合并而生成的所述编辑文件的处理。
[0169] (备注26)优选提供一种处理系统,其为备注25的处理系统,构成为,在没有操作所述规定的编辑文件的权限的用户登录的情况下,在所述操作画面中不显示所述规定的编辑文件。
[0170] (备注27)优选提供一种处理系统,其为备注25的处理系统,所述操作装置具备数据编辑工具,起动所述数据编辑工具而创建所述编辑文件。
[0171] (备注28)优选提供一种处理系统,其为备注27的处理系统,在首次起动所述数据编辑工具时,
请求第1输入密码。
[0172] (备注29)优选提供一种处理系统,其为备注27的处理系统的基础上,所述第1输入密码是以秒为单位变更的密码。
[0173] (备注30)优选提供一种处理系统,其为备注27的处理系统,所述第1输入密码的有效期为1天。
[0174] (备注31)优选提供一种处理系统,其为备注27的处理系统,具有如下处理:为了获取所述第1输入密码,对于在首次起动所述数据编辑工具时显示于所述操作画面的关键字(询问关键字),在登录规定的Web(例如敝公司Web)之后,将所述关键字输入至预先决定的规定的位置(画面)。
[0175] (备注32)优选提供一种处理系统,其为备注25的处理系统,当将所述编辑文件安装于所述处理装置的操作部时,请求第2密码。
[0176] (备注33)优选提供一种处理系统,其为备注32的处理系统,获取所述第2密码的处理具有如下处理:在登录规定的Web(例如敝公司Web)之后,显示预先决定的画面。
[0177] (备注34)优选提供一种处理装置,其为备注12的处理装置,所述存储部还预先保存以往编辑所述编辑文件时的所述项目文件(与其相当的数据),所述操作部在显示所述编辑文件时,执行对所述编辑文件内所含有的规定的数据文件(与其相当的数据)和所述项目文件(与其相当的数据)进行比较的数据变更检测处理。
[0178] (备注35)优选提供一种处理装置,其为备注34的处理装置,还具有接收以天为单位变更的第2密码的所述操作部,所述操作部还具有密码认证处理,在该密码认证处理中,当在所述数据变更检测处理中检测到所述数据的变更时,请求输入所述第2密码。
[0179] (备注36)优选提供一种处理装置,其为备注35的处理装置,在密码认证处理中若判定为OK则显示所述编辑文件若判定为NG则所述操作部不显示所述编辑文件。
[0180] (备注37)优选提供一种处理装置,其为备注12的处理装置,所述操作部还具有如下处理:对项目文件(与其相当的数据)的适当性进行检查的处理;将项目文件和位图文件合并的处理;以及显示通过所述合并而生成的所述编辑文件的处理。
[0181] (备注38)优选提供一种处理装置,其为备注37的处理装置,对项目文件(与其相当的数据)的适当性进行检查的处理包括如下处理:对预先将所述项目文件(与其相当的数据)加密后的加密数据进行解除而生成的规定的数据文件、和表示所述编辑文件内含有的所述项目文件(与其相当的数据)的规定的数据文件进行比较。
[0182] (备注39)优选提供一种处理装置,其为备注37的处理装置,对项目文件(与其相当的数据)的适当性进行检查的处理包括判定所述编辑文件的格式(数据结构)的处理。
[0183] (备注40)优选提供一种处理装置,其为备注37至备注39中任一处理装置,在对项目文件(与其相当的数据)的适当性进行检查的处理中,确认是否未利用气体流型图专用的编辑工具对所述项目文件(与其相当的数据)进行了不正当的篡改。
[0184] (备注41)优选提供一种处理装置,其为备注12的处理装置,所述编辑文件具有如下数据结构,该数据结构包括:标头;数据部,其至少包括与规定的数据文件(项目文件)、规定的图形图像文件(位图文件)相当的部分;以及加密数据部,其包括将所述规定的数据文件加密后的数据。
[0186] 本发明涉及在对被处理体进行处理的处理装置中使用的特定的编辑文件的管理,尤其适用于对规定基板进行规定处理的基板处理装置。
[0187] 附图标记说明
[0188] 100 基板处理装置、200 晶片(基板)、240 基板处理装置用控制器(控制部)、500 管理装置