技术领域
[0001] 本实用新型涉及高分子自粘胶膜生产技术领域，特别涉及一种高分子自粘胶膜生产线上的撒砂组件。
背景技术
[0002] 高分子自粘胶膜，即高分子预铺防
水卷材，其主要包括有高分子的基底片材 (PVC、PE、EVA、ECB、TPO等)、自粘胶料、颗粒层组成。
[0003] 其中，在高分子自粘胶膜生产的过程中，在生产线上具有撒砂组件，撒砂组件主要作用是将砂(即颗粒层)铺设在位于基底片材上的自粘胶料上；其中撒砂组件主要包括有设置在
机架上装有砂的装砂斗，装砂斗下方的机架上转动设置有出料辊，装砂斗的两端以及一侧均几乎贴合在出料辊上，另外一侧与出料辊之间具有间隙(砂只可从该间隙处落出)；在生产的时候，基底片材在出料辊的下方活动，其中基底片材的上表面具有自粘胶料，出料辊转动并将装砂斗中的
砂带出，砂出来后落下到自粘胶料上，与基底片材粘结。
[0004] 但是，由于砂在装砂斗中不是完全平整的，因此当砂从装砂斗中落出的时候，砂在装砂斗的长度方向的分布也就存在一定的不均匀性，因此当自粘膜产品成型后也容易存在颗粒层厚度不均的情况，产品
质量较差。实用新型内容
[0005] 本实用新型的目的是提供一种高分子自粘胶膜生产线上的撒砂组件，旨在解决产品质量差的问题。
[0006] 本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种高分子自粘胶膜生产线上的撒砂组件，包括机架、设置于所述机架上的装砂斗以及转动连接于所述机架的出料辊，所述装砂斗的两端以及一侧均活动贴合于所述出料辊的外壁，另一侧的底端开设有出料口，所述机架上还倾斜设置有散射板，所述散射板位于所述出料辊的斜下方，且所述出料口正对于所述散射板。
[0007] 本实用新型的进一步设置为：所述散射板的两端同轴设置有
连接杆，所述连接杆穿出所述机架并与所述机架转动连接，所述连接杆上设置有用于固定所述连接杆
角度的固定结构。
[0008] 本实用新型的进一步设置为：所述固定结构包括固定螺帽，所述固定螺帽位于所述机架的外侧且与所述连接杆
螺纹连接。
[0009] 本实用新型的进一步设置为：所述固定结构包括与所述连接杆相垂直设置的固定杆，所述固定杆位于所述机架的外侧，所述固定杆远离所述连接杆的端部设置有固定筒，穿过所述固定筒并与所述固定筒
螺纹连接有固定螺杆，转动所述固定螺杆可使所述固定螺杆抵触于所述机架或与所述机架分离。
[0010] 本实用新型的进一步设置为：所述固定螺杆靠近所述机架的一端设置有
橡胶垫板，所述橡胶垫板靠近所述机架的一侧设置有橡胶垫层，所述固定螺杆所在的直线与所述橡胶垫板所在的平面以及所述机架所在的平面均相垂直。
[0011] 本实用新型的进一步设置为：所述连接杆位于所述机架外侧的端部铰接有铰接杆，所述铰接杆远离所述连接杆的端部铰接有磁接
块，所述磁接块可与所述机架
磁性连接。
[0012] 本实用新型的进一步设置为：所述装砂斗的外侧相对设置有两条L形的滑轨，两条所述滑轨之间活动设置有调节板，所述调节板的两侧均位于所述滑轨与所述装砂斗的外壁之间，穿过所述滑轨设置有调节螺杆，所述调节螺杆可穿过所述滑轨并与所述调节板形成抵触，所述调节板位于所述出料口的上方。
[0013] 本实用新型的进一步设置为：所述机架上开设有观察口，所述观察口处设置有与所述观察口相配合的观察窗，所述观察窗由透明材料制成，且所述观察窗位于所述散射板的侧部。
[0014] 本实用新型的有益效果是：在生产过程中，首先是基底片材从机架之间活动通过，然后出料辊转动使得砂从装砂斗上的出料口落出，砂沿着出料辊的切线方向落出，并作用到倾斜设置在出料辊下方的散射板上，砂在撞击了散射板后再落下到基底片材上；其中砂具有一定的流动性(类似于砂流)，因此当相对集中的砂撞击到散射板上时，这部分相对集中的砂就会向着两侧相对稀薄的地方流动，并使得砂的分布在出料辊的轴心方向上相比于直接落下更为均衡，所以基底片材上砂的分布也就能够相对均衡，提高了产品的质量。
附图说明
[0015] 为了更清楚地说明本实用新型
实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0016] 图1是本实用新型一种高分子自粘胶膜生产线上的撒砂组件实施例一一实施例的结构示意图；
[0017] 图2是本实用新型一种高分子自粘胶膜生产线上的撒砂组件实施例一一实施例的剖视图；
[0018] 图3是投入2中A部分的放大图；
[0019] 图4是本实用新型一种高分子自粘胶膜生产线上的撒砂组件实施例二中固定结构一实施例的结构示意图；
[0020] 图5是本实用新型一种高分子自粘胶膜生产线上的撒砂组件实施例三中固定结构一实施例的结构示意图。
[0021] 图中，1、机架；2、装砂斗；3、出料辊；4、出料口；5、散射板；6、连接杆；7、固定螺帽；8、固定杆；9、固定筒；10、固定螺杆；11、橡胶垫板；12、橡胶垫层；13、铰接杆；14、磁接块；15、滑轨；16、调节板；17、调节螺杆； 18、观察窗。
具体实施方式
[0022] 下面将结合附图以及具体实施例对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0023] 实施例1
[0024] 一种高分子自粘胶膜生产线上的撒砂组件，如图1至图3所示，包括机架1、设置于所述机架1上的装砂斗2以及转动连接于所述机架1的出料辊3，所述装砂斗 2的两端以及一侧均活动贴合于所述出料辊3的外壁，另一侧的底端开设有出料口4，所述机架1上还倾斜设置有散射板5，所述散射板5位于所述出料辊3的斜下方，且所述出料口4正对于所述散射板5。所述机架1上开设有观察口，所述观察口处设置有与所述观察口相配合的观察窗18，所述观察窗18由透明材料制成，且所述观察窗18位于所述散射板5的侧部。
[0025] 所述散射板5的两端同轴设置有连接杆6，所述连接杆6穿出所述机架1并与所述机架1转动连接，所述连接杆6上设置有用于固定所述连接杆6角度的固定结构。所述固定结构包括固定螺帽7，所述固定螺帽7位于所述机架1的外侧且与所述连接杆6螺纹连接。
[0026] 所述装砂斗2的外侧相对设置有两条L形的滑轨15，两条所述滑轨15之间活动设置有调节板16，所述调节板16的两侧均位于所述滑轨15与所述装砂斗2的外壁之间，穿过所述滑轨15设置有调节螺杆17，所述调节螺杆17可穿过所述滑轨15 并与所述调节板16形成抵触，所述调节板16位于所述出料口4的上方。
[0027] 本
发明提供的一种高分子自粘胶膜生产线上的撒砂组件，在生产过程中，首先是基底片材从机架1之间活动通过，然后出料辊3转动使得砂从装砂斗2上的出料口4落出，砂沿着出料辊3的切线方向落出，并作用到倾斜设置在出料辊3下方的散射板5上，砂在撞击了散射板5后再落下到基底片材上；其中砂具有一定的流动性，因此当相对集中的砂撞击到散射板5上时，这部分相对集中的砂就会向着两侧相对稀薄的地方流动，并使得砂的分布在出料辊3的轴心方向上相比于直接落下更为均衡，所以基底片材上砂的分布也就能够相对均衡，提高了产品的质量。
[0028] 其中，根据砂的情况以及加工需求的不同，对砂落下的要求也不同，此时需要散射的倾斜程度也不同，例如当砂的集中性较高时，就需要散射板5相对更为水平，从而可以起到更好的散射和平衡砂量的作用，而当砂的集中性较低时，对砂的散射要求也就相对较低，即此时即使散射板5竖直度较高，对砂的作用较小，砂也可以较好的均匀铺设在基底片材上。
[0029] 其中在调节散射板5角度时，首先转动两侧的固定螺帽7并使得固定螺帽7与机架1外壁之间分离，此时就能够直接转动连接杆6并调节散射板5的角度，在这个过程中还可以通过观察窗18直接观察散射的效果，调节效果好；调节到合适的角度之后，转动固定螺帽7并使得散射板5两侧的固定螺帽7都抵触到机架1外壁上，从而将散射板5的角度固定住，简单方便。
[0030] 根据需求不同还可以通过调节板16调节出料口4的大小；在调节时首先转动调节螺杆17并使得调节螺杆17与调节板16的表面分离，然后沿着滑轨15移动调节板16，调节板16的底端
覆盖出料口4的面积越大，则出料口4的出料面积就越小，反之则出料口4的面积越大；当调节板16调节出料口4到合适大小后，转动调节螺杆17并使得调节螺杆17抵紧在调节板16的外侧即可，简单方便。
[0031] 其中，生产线上除了撒砂组件，其他加工的设备和工作方式均为常规的结构和常规的方式，而本实施例中的附图所代表的机架也仅为示意图，并非代表实际机架的结构。
[0032] 实施例2
[0033] 一种高分子自粘胶膜生产线上的撒砂组件，如图4所示，与实施例一的不同之处在于，所述固定结构包括与所述连接杆6相垂直设置的固定杆8，所述固定杆 8位于所述机架1的外侧，所述固定杆8远离所述连接杆6的端部设置有固定筒9，穿过所述固定筒9并与所述固定筒9螺纹连接有固定螺杆10，转动所述固定螺杆10 可使所述固定螺杆10抵触于所述机架1或与所述机架1分离。
[0034] 所述固定螺杆10靠近所述机架1的一端设置有橡胶垫板11，所述橡胶垫板11 靠近所述机架1的一侧设置有橡胶垫层12，所述固定螺杆10所在的直线与所述橡胶垫板11所在的平面以及所述机架1所在的平面均相垂直。
[0035] 工作时，固定杆8依次通过橡胶垫板11和橡胶垫层12抵触在机架1的外
侧壁上，然后在调节散射板5角度时，转动固定杆8，固定杆8沿着固定筒9的长度方向活动，即沿着远离机架1的方向活动，使得橡胶垫层12与机架1分离，此时就能够通过固定杆8转动连接杆6，既可以达到省
力的效果，还可以达到微调的效果(固定杆8 加大了连接杆6的臂长)，当散射板5的角度调节到合适后，转动固定杆8，使得橡胶垫层12抵触到机架1外壁上即可。
[0036] 其中橡胶垫层12和橡胶垫板11不仅防止了固定杆8与机架1之间产生过大的抵触力，同时还加大了固定杆8与机架1之间的最大静
摩擦力，从而可以使得连接杆6的
位置稳定性更高。
[0037] 实施例3
[0038] 一种高分子自粘胶膜生产线上的撒砂组件，如图5所示，与实施例一和实施例二的不同之处在于，所述连接杆6位于所述机架1外侧的端部铰接有铰接杆13，所述铰接杆13远离所述连接杆6的端部铰接有磁接块14，所述磁接块14可与所述机架1磁性连接。
[0039] 在调节散射板5角度的时候，首先是拉动铰接杆13并使得磁接块14与机架1 外壁至今分离，然后转动铰接杆13，通过铰接杆13带动连接杆6和散射板5转动，到达合适的角度后，转动铰接杆13并使得磁接块14磁性连接在机架1外表面上，由于磁接块14与机架1之间是磁性连接和分离的，因此调节的操作更为简单方便。
[0040] 需要说明的是，本
说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
[0041] 上述描述仅是对本发明较佳实施例的描述，并非对本发明范围的任何限定，本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于
权利要求书的保护范围。
