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玻璃盖板的制作方法、玻璃盖板及移动终端

阅读:288发布:2024-02-01

专利汇可以提供玻璃盖板的制作方法、玻璃盖板及移动终端专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 申请 公开一种玻璃盖板的制作方法、由该玻璃盖板的制作方法制作得到的玻璃盖板及应用该玻璃盖板的移动终端。其中,玻璃盖板的制作方法包括以下步骤:准备玻璃 基板 ,所述玻璃基板包括本体和设于所述本体外缘的弯折侧边;对所述玻璃基板的内表面进行感光材料的 喷涂 处理和预烘干处理,得到预曝光玻璃基板;对所述预曝光玻璃基板的弯折侧边的内表面边缘进行激光曝光处理,得到预显影玻璃基板;对所述预显影玻璃基板进行显影处理,得到玻璃盖板。本申请的技术方案能够减弱大折弯 角 度的3D玻璃基板上色后边框边缘的锯齿,提高边缘直线度,从而提升产品 质量 。,下面是玻璃盖板的制作方法、玻璃盖板及移动终端专利的具体信息内容。

1.一种玻璃盖板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
准备玻璃基板,所述玻璃基板包括本体和设于所述本体外缘的弯折侧边;
对所述玻璃基板的内表面进行感光材料的喷涂处理和预烘干处理,得到预曝光玻璃基板;
对所述预曝光玻璃基板的弯折侧边的内表面边缘进行激光曝光处理,得到预显影玻璃基板;
对所述预显影玻璃基板进行显影处理,得到玻璃盖板。
2.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述玻璃基板的表面不超过20°。
3.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述喷涂处理的喷涂膜厚为1.6μm~2.0μm。
4.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述激光曝光处理的曝光能量为78MJ~
82MJ。
5.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述激光曝光处理的曝光高度为1.4mm~1.6mm。
6.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述激光曝光处理的曝光景深为±300μm。
7.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述激光曝光处理的曝光精度不超过20μm。
8.如权利要求1至7中任一项所述的制作方法,其特征在于,在所述“对所述预曝光玻璃基板的弯折侧边的内表面边缘进行激光曝光处理,得到预显影玻璃基板”的步骤之前,还包括:
对所述预曝光玻璃基板进行抓边定位补偿。
9.如权利要求1至7中任一项所述的制作方法,其特征在于,在所述“对所述预显影玻璃基板进行显影处理,得到玻璃盖板”的步骤之后,还包括:
对玻璃盖板进行显影后处理:将玻璃盖板放入无尘烤箱中进行固烤处理。
10.如权利要求1至7中任一项所述的制作方法,其特征在于,所述“对所述预显影玻璃基板进行显影处理,得到玻璃盖板”的步骤之后,还包括:
对所述玻璃盖板的内表面进行感光材料的喷涂处理和预烘干处理,得到预曝光玻璃盖板;
对所述预曝光玻璃盖板的弯折侧边的内表面边缘进行激光曝光处理,得到预显影玻璃盖板;
对所述预显影玻璃盖板进行显影处理,得到二次上色的玻璃盖板。
11.如权利要求10所述的制作方法,其特征在于,在后一次激光曝光处理的曝光区域的内侧边缘比在前一次激光曝光处理的曝光区域的内侧边缘外移至少0.2mm。
12.一种玻璃盖板,应用于电子设备,其特征在于,所述玻璃盖板包括本体和设于所述本体外缘的弯折侧边,所述本体与所述弯折侧边的折弯角度为60°~110°,所述弯折侧边的内表面边缘具有显影部。
13.如权利要求12所述的玻璃盖板,其特征在于,所述弯折侧边包括平行设置的第一弯折侧边和第二弯折侧边。
14.如权利要求13所述的玻璃盖板,其特征在于,所述弯折侧边还包括平行设置的第三弯折侧边与第四弯折侧边,所述第一弯折侧边、所述二弯折侧边、所述第三弯折侧边、所述第四弯折侧边围设于所述本体。
15.如权利要求12至14中任一项所述的玻璃盖板,其特征在于,所述显影部宽度为
2.5mm-5mm;
且/或,所述显影部厚度为1.6μm~2.0μm。
16.一种移动终端,其特征在于,包括如权利要求12至15中任一项所述的玻璃盖板。

说明书全文

玻璃盖板的制作方法、玻璃盖板及移动终端

技术领域

[0001] 本申请涉及电子产品技术领域,特别涉及一种玻璃盖板的制作方法、由该玻璃盖板的制作方法制作得到的玻璃盖板及应用该玻璃盖板的移动终端。

背景技术

[0002] 随着柔性显示面板在移动终端上的应用,移动终端的屏幕所使用的玻璃基板也从2D、2.5D逐步过渡到3D,近年来更是向大折弯度的3D玻璃基板发展。但是,对于大折弯角度的3D玻璃基板而言,由于折弯角度的增大,相关的掩膜版曝光显影工艺已经无法完全适应,其上色后,边框边缘的直线度明显降低、锯齿明显增强,产品质量下降严重。
[0003] 申请内容
[0004] 本申请的主要目的是提供一种玻璃盖板的制作方法、由该玻璃盖板的制作方法制作得到的玻璃盖板及应用该玻璃盖板的移动终端,旨在减弱大折弯角度的3D玻璃基板上色后边框边缘的锯齿,提高边缘直线度,从而提升产品质量。
[0005] 本申请的一实施例提出一种玻璃盖板的制作方法,包括以下步骤:
[0006] 准备玻璃基板,所述玻璃基板包括本体和设于所述本体外缘的弯折侧边;
[0007] 对所述玻璃基板的内表面进行感光材料的喷涂处理和预烘干处理,得到预曝光玻璃基板;
[0008] 对所述预曝光玻璃基板的弯折侧边的内表面边缘进行激光曝光处理,得到预显影玻璃基板;
[0009] 对所述预显影玻璃基板进行显影处理,得到玻璃盖板。
[0010] 本申请的一实施例还提出一种玻璃盖板,应用于电子设备,所述玻璃盖板包括本体和设于所述本体外缘的弯折侧边,所述本体与所述弯折侧边的折弯角度为60°~110°,所述弯折侧边的内表面边缘具有显影部。
[0011] 本申请的一实施例还提出一种移动终端,所述移动终端包括玻璃盖板,所述玻璃盖板包括本体和设于所述本体外缘的弯折侧边,所述本体与所述弯折侧边的折弯角度为60°~110°,所述弯折侧边的内表面边缘具有显影部。
[0012] 本申请的技术方案,在对感光材料进行曝光处理时采用的是激光曝光处理的方式,该方式直接利用激光光斑对感光材料进行照射,以达到曝光的目的。由于激光光斑的直径小、方向性优异,可使得由激光曝光处理做出的3D玻璃盖板的边框边缘齿锯少、直线度高。
[0013] 并且,本申请的技术方案,在保障少齿锯、高直线度等高品质的同时,3D玻璃盖板的折弯角度还可达到60°~110°,而且既可以是两边弯曲也可以是四边弯曲,即可实现减弱大折弯角度的3D玻璃基板上色后边框边缘的锯齿、提高边缘直线度、提升产品质量的目的。而这却是相关掩膜版曝光显影工艺无法实现的,具体理由如下:相关技术中由于采用的是掩膜版曝光显影工艺,掩膜版遮盖是必要的技术环节,但是,由于掩膜版为平板状,其与大折弯角度(60°~110°)的3D玻璃基板的大面是无法足够贴近的,曝光间隙过大,从而无法满足掩膜版曝光显影工艺能实现少锯齿、高直线度的曝光间隙要求;即,在大折弯角度的3D玻璃基板条件下,若要采用掩膜版曝光显影工艺,则会由于曝光间隙过大,导致光线精度下降、曝光精度下降,从而导致3D玻璃盖板的边框边缘锯齿增强、直线度下降。而本申请的技术方案,由于激光光斑的直径小、方向性优异,曝光精度得以有效提高,从而克服了掩膜版只能在低曝光间隙情况下曝光、无法较好的应用于大折弯角度的3D玻璃基板的缺陷,实现了对大折弯角度的3D玻璃基板的上色,解决了行业内的痛点,为3D玻璃盖板设计出更大的折弯角度奠定了基础,以便于移动终端获得更高的屏占比。
附图说明
[0014] 为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图变换得到其他附图。
[0015] 图1为本申请玻璃盖板的制作方法一示例性实施例的流程示意图;
[0016] 图2为本申请玻璃盖板的制作方法另一示例性实施例的流程示意图。
[0017] 本申请目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。

具体实施方式

[0018] 下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
[0019] 请参阅图1,图1为本申请玻璃盖板的制作方法一示例性实施例的流程示意图。该实施例中,玻璃盖板的制作方法包括以下步骤:
[0020] S10,准备玻璃基板,即对玻璃基板进行喷涂前处理,所述玻璃基板包括本体和设于所述本体外缘的弯折侧边;
[0021] 具体地,将化后的大折弯角度的3D玻璃基板插入清洗篮中,并将其与清洗篮一同送入声波清洗线中进行清洗处理和烘干处理,清洗处理和烘干处理的具体流程如下:1、超声波粗洗;→2、超声波精洗;→3、喷淋漂洗;→4、超声波漂洗;→5、超声波漂洗;→6、超声波漂洗;→7、超声波漂洗;→8、慢拉脱;→9、热烘干。可以理解的,步骤1至步骤7为清洗处理,步骤8至步骤9为烘干处理。清洗处理时,可设定清洗温度为50℃±2℃、清洗时间为
9min±1min,并设定超声波发生器的工作电流为1.6A±0.2A,以在实现高效清洗的同时,降低玻璃基板表面灰尘、油污等杂质的附着水平;之后,烘干处理时,可设定烘干温度为100℃±2℃,以在实现高效烘干的同时,减少玻璃基板表面形成的水痕。此外,需要说明的是,超声波清洗线中所使用的清洗剂性清洗剂,可以更好地去除玻璃基板表面的油污等杂质;并且,超声波清洗线是带慢拉脱水功能的自动清洗线,可进一步避免玻璃基板表面脱水时形成水痕。这样,便可得到表面洁净的玻璃基板,从而有利于喷涂处理时感光材料的附着,以降低感光材料层形成时表面缺陷产生的几率,提高良品率。并且,这样的处理过程,玻璃基板的表面不易划伤,也为输出高质量产品提供了良好的保障。
[0022] 另外,该步骤中的钢化后的大折弯角度的3D玻璃基板包括本体和设于本体外缘的弯折侧边,所述本体与所述弯折侧边的折弯角度为60°~110°。
[0023] S20,对所述玻璃基板的内表面进行感光材料的喷涂处理和预烘干处理,得到预曝光玻璃基板;
[0024] 具体地,将前一步骤中得到的玻璃基板装配至合金喷涂工装中,并对玻璃基板的内表面进行感光材料的喷涂处理,之后,对附着有感光材料层的玻璃基板进行预烘干处理,以使感光材料层凝固。其中,烘干处理时,可设定烘干温度为100°±2℃,烘干时间300s±30s。这样,既可保障预曝光玻璃基板的感光材料层表面的干燥度,有利于后续激光曝光处理,而且还可有效避免感光材料层表面砂眼、颗粒、橘皮等不良的出现,提升产品质量。需要说明的是,感光材料既可选择感光油墨,也可选择感光光阻,并且,感光光阻的颜色可为黑色、白色、绿色、红色中任意一种。
[0025] 需要说明的是,所述玻璃基板的表面水滴角不超过20°。如此,可有效提高玻璃基板表面的附着水平,从而为后续感光材料的喷涂处理工艺过程提供优异的先决条件,提升感光材料层的附着稳定性,进而使得产品质量得以提升。
[0026] 并且,所述喷涂处理的喷涂膜厚为1.6μm~2.0μm。将喷涂膜厚控制1.6μm~2.0μm的范围内,可有效提升感光材料层的附着稳定性,避免其发生肆意流淌的情况,从而有效确保感光材料层的厚度均匀一致,避免感光材料层出现局部团聚、漏光等情况,进而为后续工序提供良好的先决条件,提升产品良品率。
[0027] S30,对所述预曝光玻璃基板的弯折侧边的内表面边缘进行激光曝光处理,得到预显影玻璃基板;
[0028] 具体地,将前一步骤中得到的预曝光玻璃基板送入激光直写曝光机中,并置于曝光平面上,之后按照预设的边框图案对预曝光玻璃基板的弯折侧边的内表面边缘的感光材料层进行曝光处理。需要说明的是,激光曝光处理前可利用电荷耦合元件(Charge-coupled Device,CCD)光学系统对预曝光玻璃基板进行抓边定位补偿,待位置补偿通过后方可进行曝光,如此,可进一步提升曝光精度,提升产品质量。
[0029] 需要说明的是,所述激光曝光处理的曝光能量为78MJ~82MJ。如此,可实现对感光材料层的充分曝光,从而有利于显影处理而得到直线度高、锯齿少的边框。
[0030] 所述激光曝光处理的曝光高度为1.4mm~1.6mm。将激光曝光处理的曝光高度控制在1.4mm~1.6mm的范围内,不仅可有效保障激光光斑的方向性,保障激光曝光处理的良好精度,而且还可根据3D玻璃基板的折弯角度、喷涂膜厚等实际情况灵活、合理地选择具体的曝光高度,从而使得做出的产品的边框边缘的直线度、锯齿情况等参数维持在较高水平。
[0031] 所述激光曝光处理的曝光景深为±300μm。这样,即便喷涂膜厚因公差影响在较大范围内波动时,感光材料层依然能够得到良好的曝光,避免感光材料层在后续显影处理时出现显影不掉、过显等不良反应,从而保障做出的产品的边框边缘直线度高,锯齿少,有效保障产品的质量。
[0032] 所述激光曝光处理的曝光精度不超过20μm。如此,可有效控制显影后产品的边框边缘的锯齿,提升其直线度。
[0033] S40,对所述预显影玻璃基板进行显影处理,得到玻璃盖板;
[0034] 具体地,将前一步骤中得到的预显影玻璃基板以单片的形式放入平板式显影清洗线中进行显影处理。此时,可设定显影温度为27℃±2℃,显影速度为5M/min±0.2M/min,显影压力1Kg/cm2±0.05Kg/cm2。如此,可确保感光材料层网格尺寸良好,无显影不掉、过显等不良,并且可保障显影后形成的边框无砂眼、颗粒、橘皮、锯齿等不良,保障显影后形成的边框边缘直线度高,从而有利于提升玻璃盖板质量。需要说明的是,显影后的产品利用纯水清洗并利用风刀吹干,以保证产品品质。
[0035] S50,对玻璃盖板进行显影后处理。
[0036] 具体地,将前一步骤中得到的玻璃盖板放入无尘烤箱中进行固烤处理。此时,可设定固烤温度为220℃±2℃,固烤时间为30min±0.5min,以使玻璃盖板的边框完全固化,提升产品的可靠性。
[0037] 本申请的技术方案,在对感光材料进行曝光处理时采用的是激光曝光处理的方式,该方式直接利用激光光斑对感光材料进行照射,以达到曝光的目的。由于激光光斑的直径小、方向性优异,可使得由激光曝光处理做出的3D玻璃盖板的边框边缘齿锯少、直线度高。
[0038] 并且,本申请的技术方案,在保障少齿锯、高直线度等高品质的同时,3D玻璃盖板的折弯角度还可达到60°~110°,而且既可以是两边弯曲也可以是四边弯曲,即可实现减弱大折弯角度的3D玻璃基板上色后边框边缘的锯齿、提高边缘直线度、提升产品质量的目的。而这却是相关掩膜版曝光显影工艺无法实现的,具体理由如下:相关技术中由于采用的是掩膜版曝光显影工艺,掩膜版遮盖是必要的技术环节,但是,由于掩膜版为平板状,其与大折弯角度(60°~110°)的3D玻璃基板的大面是无法足够贴近的,曝光间隙过大,从而无法满足掩膜版曝光显影工艺能实现少锯齿、高直线度的曝光间隙要求;即,在大折弯角度的3D玻璃基板条件下,若要采用掩膜版曝光显影工艺,则会由于曝光间隙过大,导致光线精度下降、曝光精度下降,从而导致3D玻璃盖板的边框边缘锯齿增强、直线度下降。而本申请的技术方案,由于激光光斑的直径小、方向性优异,曝光精度得以有效提高,从而克服了掩膜版只能在低曝光间隙情况下曝光、无法较好的应用于大折弯角度的3D玻璃基板的缺陷,实现了对大折弯角度的3D玻璃基板的上色,解决了行业内的痛点,为3D玻璃盖板设计出更大的折弯角度奠定了基础,以便于移动终端获得更高的屏占比。
[0039] 请参阅图2,图2为本申请玻璃盖板的制作方法另一示例性实施例的流程示意图。该实施例中,所述“对所述预显影玻璃基板进行显影处理,得到玻璃盖板”的步骤之后,还包括:
[0040] S40a,对所述玻璃盖板的内表面进行感光材料的喷涂处理和预烘干处理,得到预曝光玻璃盖板;
[0041] S40b,对所述预曝光玻璃盖板的弯折侧边的内表面边缘进行激光曝光处理,得到预显影玻璃盖板;
[0042] S40c,对所述预显影玻璃盖板进行显影处理,得到二次上色的玻璃盖板。
[0043] 喷涂处理、预烘干处理、激光曝光处理、显影处理等的具体工艺过程及参数设定可参看前述实施例做相似处理,在此不再一一赘述。
[0044] 本实施例中,在对玻璃盖板进行显影后处理之后,又进行了一次“喷涂处理→预烘干处理→激光曝光处理→显影处理”的工艺流程,这样,可进一步避免只进行一次喷涂处理时感光材料层表面出现砂眼、漏光、光密度(Optical Density,OD)值不达标(低于5)等不良,从而进一步提升产品质量和良品率。
[0045] 进一步地,在后一次激光曝光处理的曝光区域的内侧边缘比在前一次激光曝光处理的曝光区域的内侧边缘外移至少0.2mm。由于曝光精度的问题,第二次曝光位置不可能和第一次完全重合,所以需要外扩至少0.2mm,这样视窗区边框直线度完全由第一次曝光决定,能够有效保证边框直线的精度。
[0046] 本申请还提出一种玻璃盖板,该玻璃盖板由如前所述的玻璃盖板的制作方法制作得到,该玻璃盖板的制作方法的具体流程详见前述实施例。由于本玻璃盖板采用了前述所有实施例的全部技术方案,因此至少具有前述所有实施例的全部技术方案所带来的所有有益效果,在此不再一一赘述。其中,所述玻璃盖板包括本体和设于所述本体外缘的弯折侧边,所述本体与所述弯折侧边的折弯角度为60°~110°,所述弯折侧边的内表面边缘具有显影部。
[0047] 在本申请玻璃盖板一实施例中,所述弯折侧边包括平行设置的第一弯折侧边和第二弯折侧边。即,两面弯折的曲面玻璃盖板的形式。
[0048] 在本申请玻璃盖板一实施例中,所述弯折侧边还包括平行设置的第三弯折侧边与第四弯折侧边,所述第一弯折侧边、所述二弯折侧边、所述第三弯折侧边、所述第四弯折侧边围设于所述本体。即,四面弯折的曲面玻璃盖板的形式。
[0049] 在本申请玻璃盖板一实施例中,所述显影部宽度为2.5mm-5mm;
[0050] 在本申请玻璃盖板一实施例中,所述显影部厚度为1.6μm~2.0μm。
[0051] 需要说明的是,显影部具体可呈扁平的闭环结构,以构成前述内容中的“边框”。
[0052] 本申请还提出一种移动终端,该移动终端包括如前所述的玻璃盖板,该玻璃盖板的具体结构详见前述实施例。由于本移动终端采用了前述所有实施例的全部技术方案,因此至少具有前述所有实施例的全部技术方案所带来的所有有益效果,在此不再一一赘述。
[0053] 可以理解的,移动终端可以是但并不限于手机、平板电脑个人数字助理(Personal Digital Assistant,PDA)、电子书阅读器、MP3(动态影像专家压缩标准音频层面3,Moving Picture Experts Group Audio Layer III)播放器、MP4(动态影像专家压缩标准音频层面4,Moving Picture Experts Group Audio Layer IV)播放器、笔记本电脑、车载电脑、机顶盒、智能电视机、可穿戴设备、导航仪、掌上游戏机等。
[0054] 以上所述仅为本申请的可选实施例,并非因此限制本申请的专利范围,凡是在本申请的发明构思下,利用本申请说明书及附图内容所作的等效变换,或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本申请的专利保护范围内。
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