显示面板、显示装置及显示面板的制作方法
阅读：29发布：2020-05-11
专利汇可以提供显示面板、显示装置及显示面板的制作方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 提供了 显示面板 、显示装置及显示面板的制作方法，该显示面板、显示装置包括阵列 基板 、设置在所述阵列基板上的 像素 定义层和 发光层 ，发光层包括多个发光单元，像素定义层包括多个像素定义部，相邻的两像素定义部之间设置一发光单元，像素定义部的组成材料包括遮光材料，像素定义部用于阻隔相邻的两发光单元；本发明可以减少黑色矩阵的制备，降低了彩色滤光层的制备工艺的复杂度以及制备成本。，下面是显示面板、显示装置及显示面板的制作方法专利的具体信息内容。
1.一种显示面板，其特征在于，包括：阵列基板、设置在所述阵列基板上的像素定义层和发光层；
所述发光层包括多个发光单元；
所述像素定义层包括多个像素定义部，相邻的两所述像素定义部之间设置一所述发光单元，所述像素定义部的组成材料包括遮光材料，所述像素定义部用于遮挡相邻的两所述发光单元之间的光线。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素定义部的组成材料还包括聚酰亚胺。
3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述遮光材料包括炭黑、有机黑色颜料、无机黑色颜料中的至少一种。
4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素定义部的厚度不小于2.25微米，且不大于2.75微米。
5.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素定义部的截面图形为梯形，所述梯形的上底边长度小于下底边长度。
6.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括彩膜基板，所述彩膜基板设于所述发光层远离所述阵列基板的一侧，所述彩膜基板包括多个色阻块，相邻的两色阻块之间具有间隙，所述像素定义部与所述间隙相对设置。
7.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括显示面板，所述显示面板包括：阵列基板、设置在所述阵列基板上的像素定义层和发光层；
所述发光层包括多个发光单元；
所述像素定义层包括多个像素定义部，相邻的两所述像素定义部之间设置一所述发光单元，所述像素定义部的组成材料包括遮光材料，所述像素定义部用于阻隔相邻的两所述发光单元。
8.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述像素定义部的组成材料还包括聚酰亚胺。
9.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述像素定义部的厚度不小于2.25微米，且不大于2.75微米。
10.一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：
提供一阵列基板；
在所述垫料层上形成像素定义层，所述像素定义层包括多个像素定义部，所述像素定义部的组成材料包括遮光材料；
在所述阵列基板上形成发光层，所述发光层包括多个发光单元，所述发光单元设于相邻的两所述像素定义部之间，所述像素定义部用于阻隔相邻的两所述发光单元。
显示面板、显示装置及显示面板的制作方法
技术领域
[0001] 本发明涉及显示技术领域，尤其涉及显示器件的制造，具体涉及显示面板、显示装置及显示面板的制作方法。
背景技术
[0002] 目前，通过WOLED(White Organic Light-Emtting Device,白色有机电致发光器件)和CF(Color Filter,彩色滤光)层叠加，可以实现OLED显示器的全彩化，并且WOLED与CF层叠加结构不需要精准的掩膜工艺，就可以实现0LED显示器的高分辨率，极大地降低了设备成本。
[0003] 然而，在CF层的制备过程中，由于要单独进行BM(black matrix,黑色矩阵)的制备，增加了CF层的制备工艺的复杂度、以及增加了CF层的制备成本。
[0004] 因此，有必要提供显示面板以及显示装置，以解决现有技术中CF层的制备工艺的复杂度较高、以及CF层的制备成本较高的问题。
发明内容
[0005] 本发明的目的在于提供显示面板、显示装置及显示面板的制作方法，以解决CF层的制备工艺的复杂度、以及制备成本较高的问题。
[0007] 所述发光层包括多个发光单元；
[0008] 所述像素定义层包括多个像素定义部，相邻的两所述像素定义部之间设置一所述发光单元，所述像素定义部的组成材料包括遮光材料，所述像素定义部用于阻隔相邻的两所述发光单元。
[0009] 在一实施例中，所述像素定义部的组成材料还包括聚酰亚胺。
[0010] 在一实施例中，所述遮光材料包括炭黑、有机黑色颜料、无机黑色颜料中的至少一种。
[0011] 在一实施例中，所述像素定义部的厚度不小于2.25微米，且不大于2.75微米。
[0012] 在一实施例中，所述像素定义部的截面图形为梯形，所述梯形的上底边长度小于下底边长度。
[0013] 在一实施例中，所述显示面板还包括彩膜基板，所述彩膜基板设于所述发光层远离所述阵列基板的一侧，所述彩膜基板包括多个色阻块，相邻的两色阻块之间具有间隙，所述像素定义部与所述间隙相对设置。
[0014] 本发明实施例还提供一种显示装置，所述显示装置包括显示面板，所述显示面板包括：阵列基板、设置在所述阵列基板上的像素定义层和发光层；
[0015] 所述发光层包括多个发光单元；
[0016] 所述像素定义层包括多个像素定义部，相邻的两所述像素定义部之间设置一所述发光单元，所述像素定义部的组成材料包括遮光材料，所述像素定义部用于阻隔相邻的两所述发光单元。
[0017] 在一实施例中，所述像素定义部的组成材料还包括聚酰亚胺。
[0018] 在一实施例中，所述像素定义部的厚度不小于2.25微米，且不大于2.75微米。
[0019] 本发明实施例还提供一种显示面板的制作方法，所述方法包括：
[0020] 提供一阵列基板；
[0021] 在所述垫料层上形成像素定义层，所述像素定义层包括多个像素定义部，所述像素定义部的组成材料包括遮光材料；
[0022] 在所述阵列基板上形成发光层，所述发光层包括多个发光单元，所述发光单元设于相邻的两所述像素定义部之间，所述像素定义部用于阻隔相邻的两所述发光单元。
[0023] 本发明提供了显示面板、显示装置及显示面板的制作方法，通过在像素定义部中添加遮光材料，像素定义部用于遮挡相邻的两发光单元之间的光线，像素定义层可以发挥现有技术中黑色矩阵的遮光作用，故本发明可以减少黑色矩阵的制备，降低了彩色滤光层的制备工艺的复杂度以及制备成本。附图说明
[0024] 下面通过附图来对本发明进行进一步说明。需要说明的是，下面描述中的附图仅仅是用于解释说明本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0025] 图1为本发明实施例提供的一种显示面板的截面示意图。
[0026] 图2为本发明实施例提供的另一种显示面板的截面示意图。
[0027] 图3为本发明实施例提供的又一种显示面板的截面示意图。
[0028] 图4为本发明实施例提供的再一种显示面板的截面示意图。
[0029] 图5为本发明实施例提供的显示面板的制作方法的流程图。
具体实施方式
[0030] 下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0031] 在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“两侧”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，其中，“上”只是表面在物体上方，具体指代正上方、斜上方、上表面都可以，并且两者之间可以为非接触状态，而“表面”则是指代两个物体相互直接接触，以上方位或位置关系仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
[0032] 需要注意的是，术语“厚度”是中性词，不表示偏向厚或薄，只是表示存在一个参考值，数值不确定，会根据实际情况而定。
[0033] 另外，还需要说明的是，附图提供的仅仅是和本发明关系比较密切的结构和/或步骤，省略了一些与发明关系不大的细节，目的在于简化附图，使发明点一目了然，而不是表明实际中装置和/或方法就是和附图一模一样，不作为实际中装置和/或方法的限制。
[0034] 本发明提供显示装置以及显示面板，所述显示装置包括所述显示面板，所述显示面板包括如图1-4所示的实施例以及所述实施例的组合。
[0035] 在一实施例中，如图1所示，显示面板100包括阵列基板101、设置在所述阵列基板101上的像素定义层102和发光层103，所述发光层103包括多个发光单元1031，所述像素定义层102包括多个像素定义部1021，相邻的两所述像素定义部1021之间设置一所述发光单元1031，所述像素定义部1021的组成材料包括遮光材料，所述像素定义部1021用于遮挡相邻的两所述发光单元之间的光线。
[0036] 其中，所述像素定义部1021的组成材料还包括聚酰亚胺，所述包括聚酰亚胺的像素定义部1021具有防水防氧的作用，可以有效地防止外界水、氧气进入所述发光单元1031中，避免降低所述发光单元1031的寿命。
[0037] 具体的，所述遮光材料包括炭黑、有机黑色颜料、无机黑色颜料中的至少一种。可列举的，所述炭黑可以为C.I.pigment black7、三菱化学制造的MA100、#1000、#2650；所述有机黑色颜料可以为二萘嵌苯黑、苯胺黑、花青黑；所述无机黑色颜料可以为氧化钛、氧化铬、氧化铁或石墨。可以理解的，所述遮光材料可以使得所述像素定义部1021具有黑色，以遮挡相邻的两所述发光单元1031之间的光线，进一步防止混色。
[0038] 需要注意的是，所述像素定义部1021也可以直接采用呈黑色的聚酰亚胺材料制备，可以避免降低所述发光单元1031的寿命，以及遮挡相邻的两所述发光单元1031之间的光线，进一步防止混色。
[0039] 其中，所述发光单元1031可以为白色电致发光材料，即所述发光单元1031最终可以发出白色光线，具体的，所述发光单元1031的组成材料可以由无机荧光材料和蓝色或蓝绿色发光材料组成。
[0040] 在一实施例中，所述像素定义部1021的厚度不小于2.25微米，且不大于2.75微米。其中，所述发光单元1031的厚度可以为(0.2±0.05)微米，例如，所述发光单元1031的厚度可以为0.2微米，所述像素定义部1021的厚度可以为2.5微米，即所述像素定义部1021与所述发光单元1031的厚度差可以为2.3微米，可以理解的，所述像素定义部1021的厚度远大于所述发光单元1031的厚度，可以更好地遮挡相邻的两所述发光单元1031之间的光线，进一步防止混色。
[0041] 在一实施例中，如图1所示，所述像素定义部1021的截面图形可以为梯形，所述梯形的上底边长度小于下底边长度。具体的，所述像素定义部1021的截面图形的两侧与底边的夹角可以设置为不大于90°、且不小于30°，这样，当在相邻的两像素定义部1021之间制备所述发光单元1031时，例如制备所述发光单元1031包括涂布液态颜料时，液态颜料会沿着对应的所述像素定义部1021两侧面往下流淌，当颜料涂布较厚时，也可以有效地避免相邻的不同颜色的颜料之间相互混色和流溢。可以理解的，所述像素定义层102可以采用正型光阻制备，经过曝光、显影后，有利于使得所述像素定义层102的截面图形形成为上底边长度小于下底边长度的梯形图案。
[0042] 在一实施例中，如图2所示，所述显示面板100还可以包括阳极层104，所述阳极层104设置在所述阵列基板101和所述发光层103之间。其中，可以通过物理气相沉积-显影-湿刻的过程来形成所述阳极层104，所述阳极层104的材料可以为反射材料或者透射材料。具体的，当显示面板100为顶发光型时，所述阳极层104采用反射材料制作；当显示面板100为底发光型时，所述阳极层104采用透射材料制作。可以理解的是，所述发光单元1031可以设于所述阳极层104上的相邻的所述像素定义部1021之间，进一步的，所述阳极层104可以包括多个阳极部1041，所述阳极部1041与所述发光单元1031一一对应。
[0043] 在一实施例中，如图3所示，所述显示面板100还包括彩膜基板105，所述彩膜基板105设于所述发光层103远离所述阵列基板101的一侧，所述彩膜基板105包括多个色阻块
1051，相邻的两色阻块1051之间具有间隙1052，所述像素定义部1021与所述间隙1052相对设置。
1051，相邻的两色阻块1051之间具有间隙1052，所述像素定义部1021与所述间隙1052相对设置。
[0044] 其中，所述色阻块1051可以为红色的色阻块、绿色的色阻块、蓝色的色阻块或者其他颜色的色阻块，具体的，所述色阻块1051可以沿某一方向以红色的色阻块、绿色的色阻块、蓝色的色阻块的顺序为一单元进行多个单元的排列，其中，所述红色的色阻块、绿色的色阻块、蓝色的色阻块的相对位置可以改变。
[0045] 其中，所述色阻块1051和所述间隙1052的截面图形均可以为梯形，具体的，所述色阻块1051的截面图形的上底边长度大于下底边长度，所述间隙1052的截面图形的上底边长度小于下底边长度，可以理解的，所述色阻块1051、所述间隙1052间隔、且相连设置，以形成一所述彩膜基板105。
[0046] 进一步的，如图2所示，假设所述发光单元1031的上表面的延长线与所述像素定义部1021相交，以形成第一梯形001，所述像素定义部1021的上表面的延长线与所述发光单元1031相交，以形成第二梯形002；则所述色阻块1051的形状可以与对应的所述第二梯形002的形状相同，所述间隙1052的形状可以与对应的所述第一梯形001的形状相同。
[0047] 可以理解的，当将所述阵列基板101及其上方的膜层、与所述彩膜基板105进行组装时，所述像素定义部1021的第一梯形001的区域刚好可以嵌入至对应的所述间隙1052中，所述色阻块1051刚好可以嵌入至对应的所述第二梯形002中；所述发光单元1031发出的光线通过对应的所述色阻块1051可以显现出相应颜色的光线，且相邻的两发光单元1031发出的光线可以被两者之间的像素定义部1021遮挡，以防止混色。
[0048] 在一实施例中，如图4所示，所述显示面板100还包括阴极层106，所述阴极层106设于所述像素定义层102以及所述发光层103上。具体的，所述阴极层106可以为一整面的导电膜，覆盖于所述像素定义层102以及所述发光层103的整个表面。
[0049] 可以理解的，所述阴极层106的厚度可以不小于15纳米，且不大于20纳米，所述阴极层106的组成材料可以为镁、银，或者合金材料，因此在所述像素定义层102以及所述发光层103、与所述彩膜基板105之间基本上不需要留空间用于设置所述阴极层106。
[0050] 本发明还提供显示面板的制作方法，参考图5，所述方法包括：
[0051] S101，提供一阵列基板。
[0052] 其中，所述阵列基板包括一基板以及在所述基板上表面图案化形成的薄膜晶体管层，所述基板可以为玻璃基板，所述玻璃基板的组成材料可以包括石英粉、碳酸锶、碳酸钡、硼酸、硼酐、氧化铝、碳酸钙、硝酸钡、氧化镁、氧化锡、氧化锌中的至少一种，所述薄膜晶体管层的材料可以采用例如：低温多晶硅材料、氧化物材料或者非晶硅材料中至少一种材料制备；
[0053] S102，在所述阵列基板上形成像素定义层，所述像素定义层包括多个像素定义部，所述像素定义部的组成材料包括遮光材料。
[0054] 其中，所述像素定义部的组成材料包括遮光材料，所述遮光材料包括炭黑、有机黑色颜料、无机黑色颜料中的至少一种。可列举的，所述炭黑可以为C.I.pigment black7、三菱化学制造的MA100、#1000、#2650；所述有机黑色颜料可以为二萘嵌苯黑、苯胺黑、花青黑；所述无机黑色颜料可以为氧化钛、氧化铬、氧化铁或石墨。可以理解的，所述遮光材料可以使得所述像素定义部1021具有黑色，以遮挡相邻的两所述发光单元1031之间的光线，进一步防止混色。
[0055] 其中，所述像素定义部的组成材料还包括聚酰亚胺，所述包括聚酰亚胺的像素定义部具有防水防氧的作用，可以有效地防止外界水、氧气进入所述发光单元中，避免降低所述发光单元的寿命。
[0056] 需要注意的是，所述像素定义部也可以直接采用呈黑色的聚酰亚胺材料制备，可以避免降低所述发光单元的寿命，以及遮挡相邻的两所述发光单元之间的光线，进一步防止混色。
[0057] 其中，所述像素定义部的截面图形可以为梯形，所述梯形的上底边长度小于下底边长度。具体的，所述像素定义部的截面图形的两侧与底边的夹角可以设置为不大于90°、且不小于30°，这样，当在相邻的两像素定义部之间涂布液态颜料以制备发光层时，液态颜料会沿着对应的所述像素定义部两侧面往下流淌，当颜料涂布较厚时，也可以有效地避免相邻的不同颜色的颜料之间相互混色和流溢。可以理解的，所述像素定义层可以采用正型光阻制备，经过曝光、显影后，有利于使得所述像素定义层的截面图形形成为上底边长度小于下底边长度的梯形图案。
[0058] 在形成所述像素定义层之前，还可以包括：
[0059] 在所述阵列基板上形成阳极层；
[0060] 其中，可以通过物理气相沉积-显影-湿刻的过程来形成所述阳极层，所述阳极层的材料可以为反射材料或者透射材料。具体的，当显示面板为顶发光型时，所述阳极层采用反射材料制作；当显示面板为底发光型时，所述阳极层采用透射材料制作。
[0061] S103，在所述阵列基板上形成发光层，所述发光层包括多个发光单元，所述发光单元设于相邻的两所述像素定义部之间，所述像素定义部用于阻隔相邻的两所述发光单元。
[0062] 其中，所述发光单元可以为白色电致发光材料，即所述发光单元最终可以发出白色光线，具体的，所述发光单元的组成材料可以由无机荧光材料和蓝色或蓝绿色发光材料组成。
[0063] 其中，所述像素定义部的厚度可以不小于2.25微米，且不大于2.75微米。其中，所述发光单元的厚度可以为(0.2±0.05)微米，例如，所述发光单元的厚度可以为0.2微米，所述像素定义部的厚度可以为2.5微米，即所述像素定义部与所述发光单元的厚度差可以为2.3微米，可以理解的，所述像素定义部的厚度远大于所述发光单元的厚度，可以更好地遮挡相邻的两所述发光单元之间的光线，进一步防止混色。
[0064] 本发明提供了显示面板、显示装置及显示面板的制作方法，通过在像素定义部中添加遮光材料，像素定义部用于遮挡相邻的两发光单元之间的光线，像素定义层可以发挥现有技术中黑色矩阵的遮光作用，故本发明可以减少黑色矩阵的制备，降低了彩色滤光层的制备工艺的复杂度以及制备成本。
[0065] 以上对本发明实施例所提供的显示面板、显示装置及显示面板的制作方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。
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