신틸레이터 패널 및 방사선 검출기

신틸레이터 패널 및 방사선 검출기{SCINTILLATOR PANEL AND RADIATION DETECTOR}

본 발명은 신틸레이터 패널 및 방사선 검출기에 관한 것이다.

종래의 신틸레이터 패널로서, 예를 들면 특허 문헌 1에 기재된 것이 있다. 이 종래의 구성에서는, 신틸레이터층의 지지체로서 0.05mm의 유리 기판이 이용되고 있다. 또, 케이스의 외부로부터의 힘을 완화시키는 완충재와, 신틸레이터층 보다도 강성(剛性)이 높은 고강성 부재가, 케이스와 신틸레이터층의 사이에 배치되어 있다.

또, 특허 문헌 2에 기재된 신틸레이터 패널에서는, 폴리이미드계 수지막 또는 폴리파라크실릴렌(poly-para-xylylene)막으로 피막된 그라파이트(graphite) 기판이 지지체로서 이용되고 있다. 추가로, 특허 문헌 3에 기재된 신틸레이터 패널에서는, 아모퍼스(amorphous) 카본 등으로 이루어진 기판의 전면(全面)이 폴리파라크실릴렌막 등의 중간막으로 덮여 있다.

예를 들면 박막 트랜지스터(TFT) 패널이라고 하는 고체 검출기에 적용하는 신틸레이터 패널에서는, 고체 검출기에 대한 형상의 추종성을 만족시킬 수 있는 가요성(可撓性)이 요구된다. 또, TFT 패널의 열팽창 계수와 신틸레이터 패널의 기판의 열팽창 계수의 사이에 차가 있으면, 신틸레이터 패널의 기판상의 미세한 흠집이나, 신틸레이터층을 증착에 의해서 형성하는 경우에 생기는 이상 성장부에 의해서 TFT 패널과의 사이에 생기는 흠집이, 동작시의 열에 의해서 수광면에 대해서 이동하여, 캘리브레이션(calibration)의 수고가 번잡하게 된다고 하는 문제가 생길 우려가 있다.

이러한 가요성의 문제나 열팽창 계수의 문제를 해결하기 위해서는, 예를 들면 두께가 150㎛ 이하의 극박(極薄) 유리를 신틸레이터 패널의 기판으로서 이용하는 것을 생각할 수 있다. 그렇지만, 극박 유리를 이용하는 경우, 유리의 단부(엣지 부분)가 충격에 대해서 약해서, 깨짐이나 크랙의 발생이 문제가 된다.

본 발명은 상기 과제의 해결을 위해서 이루어진 것으로, 유리 기판의 깨짐이나 크랙의 발생을 방지하면서, 가요성을 확보할 수 있는 신틸레이터 패널, 및 이것을 이용한 방사선 검출기를 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기 과제의 해결을 위해서, 본 발명에 따른 신틸레이터 패널은, 방사선 투과성을 가지는 두께 150㎛ 이하의 유리 기판과, 유리 기판의 일면측과 측면측을 덮도록 형성된 유기 수지층과, 유기 수지층이 형성된 유리 기판의 일면측에 형성된 신틸레이터층과, 유기 수지층이 형성된 유리 기판과 함께 신틸레이터층을 덮도록 형성된 내습성(耐濕性)의 보호층을 구비한 것을 특징으로 하고 있다.

이 신틸레이터 패널에서는, 두께 150㎛ 이하의 유리 기판이 지지체로 되어 있음으로써, 뛰어난 방사선 투과성 및 가요성이 얻어지고, 열팽창 계수의 문제도 완화시킬 수 있다. 또, 이 신틸레이터 패널에서는, 유리 기판의 일면측과 측면측을 덮도록 유기 수지층이 형성되어 있다. 이것에 의해, 유리 기판이 보강되어, 엣지 부분의 깨짐이나 크랙의 발생을 억제할 수 있다. 추가로, 유리 기판의 측면으로부터의 미광(迷光)을 방지할 수 있는 것 외에, 유기 수지층이 유리 기판의 타면측에 형성되어 있지 않음으로써, 유리 기판의 타면측으로의 광의 투과성이 유지된다.

또, 본 발명에 따른 신틸레이터 패널은, 방사선 투과성을 가지는 두께 150㎛ 이하의 유리 기판과, 유리 기판의 타면측과 측면측을 덮도록 형성된 유기 수지층과, 유기 수지층이 형성된 유리 기판의 일면측에 형성된 신틸레이터층과, 유기 수지층이 형성된 유리 기판과 함께 신틸레이터층을 덮도록 형성된 내습성의 보호층을 구비한 것을 특징으로 하고 있다.

이 신틸레이터 패널에서는, 두께 150㎛ 이하의 유리 기판이 지지체로 되어 있음으로써, 뛰어난 방사선 투과성 및 가요성이 얻어지고, 열팽창 계수의 문제도 완화시킬 수 있다. 또, 이 신틸레이터 패널에서는, 유리 기판의 타면측과 측면측을 덮도록 유기 수지층이 형성되어 있다. 이것에 의해, 유리 기판이 보강되어, 엣지 부분의 깨짐이나 크랙의 발생을 억제할 수 있다. 추가로, 유리 기판의 측면으로부터의 미광을 방지할 수 있는 것 외에, 유기 수지층이 유리 기판의 타면측에 있음으로써, 신틸레이터층의 내부 응력을 캔슬시킬 수 있어, 유리 기판의 휨의 억제가 가능해진다.

또, 상기의 신틸레이터 패널에 있어서, 유기 수지층은 실리콘 수지, 우레탄 수지, 에폭시 수지, 및 불소 수지로부터 선택되어도 좋다.

또, 본 발명에 따른 신틸레이터 패널은, 방사선 투과성을 가지는 두께 150㎛ 이하의 유리 기판과, 유리 기판의 일면측을 덮도록 부착된 수지 필름층과, 수지 필름이 부착된 유리 기판의 일면측에 형성된 신틸레이터층과, 수지 필름이 부착된 유리 기판과 함께 신틸레이터층을 덮도록 형성된 내습성의 보호층을 구비한 것을 특징으로 하고 있다.

이 신틸레이터 패널에서는, 두께 150㎛ 이하의 유리 기판이 지지체로 되어 있음으로써, 뛰어난 방사선 투과성 및 가요성이 얻어지고, 열팽창 계수의 문제도 완화시킬 수 있다. 또, 이 신틸레이터 패널에서는, 유리 기판의 일면측을 덮도록 수지 필름층이 형성되어 있다. 이것에 의해, 유리 기판이 보강되어, 엣지 부분의 깨짐이나 크랙의 발생을 억제할 수 있다. 추가로, 수지 필름층이 유리 기판의 타면측에 형성되어 있지 않음으로써, 유리 기판의 타면측으로의 광의 투과성이 유지된다.

또, 본 발명에 따른 신틸레이터 패널은, 방사선 투과성을 가지는 두께 150㎛ 이하의 유리 기판과, 유리 기판의 타면측을 덮도록 부착된 수지 필름층과, 수지 필름이 부착된 유리 기판의 일면측에 형성된 신틸레이터층과, 수지 필름이 부착된 유리 기판과 함께 신틸레이터층을 덮도록 형성된 내습성의 보호층을 구비한 것을 특징으로 하고 있다.

이 신틸레이터 패널에서는, 두께 150㎛ 이하의 유리 기판이 지지체로 되어 있음으로써, 뛰어난 방사선 투과성 및 가요성이 얻어지고, 열팽창 계수의 문제도 완화시킬 수 있다. 또, 이 신틸레이터 패널에서는, 유리 기판의 타면측을 덮도록 수지 필름층이 형성되어 있다. 이것에 의해, 유리 기판이 보강되어, 엣지 부분의 깨짐이나 크랙의 발생을 억제할 수 있다. 추가로, 수지 필름층이 유리 기판의 타면측에 있음으로써, 신틸레이터층의 내부 응력을 캔슬시킬 수 있어, 유리 기판의 휨의 억제가 가능해진다.

또, 본 발명에 따른 신틸레이터 패널은, 방사선 투과성을 가지는 두께 150㎛ 이하의 유리 기판과, 유리 기판의 일면측 및 타면측을 덮도록 부착된 수지 필름층과, 수지 필름이 부착된 유리 기판의 일면측에 형성된 신틸레이터층과, 수지 필름이 부착된 유리 기판과 함께 신틸레이터층을 덮도록 형성된 내습성의 보호층을 구비한 것을 특징으로 하고 있다.

이 신틸레이터 패널에서는, 두께 150㎛ 이하의 유리 기판이 지지체로 되어 있음으로써, 뛰어난 방사선 투과성 및 가요성이 얻어지고, 열팽창 계수의 문제도 완화시킬 수 있다. 또, 이 신틸레이터 패널에서는, 유리 기판의 일면측 및 타면측을 덮도록 수지 필름층이 형성되어 있다. 이것에 의해, 유리 기판이 보강되어, 엣지 부분의 깨짐이나 크랙의 발생을 보다 효과적으로 억제할 수 있다. 추가로, 수지 필름층이 유리 기판의 일면측 및 타면측에 형성됨으로써, 유리 기판의 휨의 억제가 가능해진다.

또, 상기의 신틸레이터 패널에 있어서, 수지 필름은 PET, PEN, COP, 및 PI로부터 선택되어도 좋다.

또, 본 발명에 따른 신틸레이터 패널은, 방사선 투과성을 가지는 두께 150㎛ 이하의 유리 기판과, 유리 기판의 일면측과 측면측을 덮도록 형성된 유기 수지층과, 유리 기판의 타면측을 덮도록 부착된 수지 필름층과, 유기 수지층 및 수지 필름층이 형성된 유리 기판의 일면측에 형성된 신틸레이터층과, 유기 수지층 및 수지 필름층이 형성된 유리 기판과 함께 신틸레이터층을 덮도록 형성된 내습성의 보호층을 구비한 것을 특징으로 하고 있다.

이 신틸레이터 패널에서는, 두께 150㎛ 이하의 유리 기판이 지지체로 되어 있음으로써, 뛰어난 방사선 투과성 및 가요성이 얻어지고, 열팽창 계수의 문제도 완화시킬 수 있다. 또, 이 신틸레이터 패널에서는, 유리 기판의 일면측과 측면측을 덮도록 유기 수지층이 형성되어 있고, 유리 기판의 타면측을 덮도록 수지 필름층이 형성되어 있다. 이것에 의해, 유리 기판이 보강되어, 엣지 부분의 깨짐이나 크랙의 발생을 억제할 수 있다. 추가로, 유리 기판의 측면으로부터의 미광을 방지할 수 있는 것 외에, 표면 전체에 적어도 유기 수지층 및 수지 필름층 중 어느 한쪽이 형성됨으로써, 유리 기판의 휨의 억제가 가능해진다.

또, 본 발명에 따른 신틸레이터 패널은, 방사선 투과성을 가지는 두께 150㎛ 이하의 유리 기판과, 유리 기판의 타면측과 측면측을 덮도록 형성된 유기 수지층과, 유리 기판의 일면측을 덮도록 부착된 수지 필름층과, 유기 수지층 및 수지 필름층이 형성된 유리 기판의 일면측에 형성된 신틸레이터층과, 유기 수지층 및 수지 필름층이 형성된 유리 기판과 함께 신틸레이터층을 덮도록 형성된 내습성의 보호층을 구비한 것을 특징으로 하고 있다.

이 신틸레이터 패널에서는, 두께 150㎛ 이하의 유리 기판이 지지체로 되어 있음으로써, 뛰어난 방사선 투과성 및 가요성이 얻어지고, 열팽창 계수의 문제도 완화시킬 수 있다. 또, 이 신틸레이터 패널에서는, 유리 기판의 타면측과 측면측을 덮도록 유기 수지층이 형성되어 있고, 유리 기판의 일면측을 덮도록 수지 필름층이 형성되어 있다. 이것에 의해, 유리 기판이 보강되어, 엣지 부분의 깨짐이나 크랙의 발생을 억제할 수 있다. 추가로, 유리 기판의 측면으로부터의 미광을 방지할 수 있는 것 외에, 표면 전체에 적어도 유기 수지층 및 수지 필름층 중 어느 한쪽이 형성됨으로써, 유리 기판의 휨의 억제가 가능해진다.

또, 상기의 신틸레이터 패널에 있어서, 유기 수지층은 실리콘 수지, 우레탄 수지, 에폭시 수지, 및 불소 수지로부터 선택되고, 수지 필름은 PET, PEN, COP, 및 PI로부터 선택되어도 좋다.

또, 본 발명에 따른 방사선 검출기는, 상기의 신틸레이터 패널과 보호층이 형성된 신틸레이터층에 대향해서 배치된 수광 소자를 구비한 것을 특징으로 하고 있다.

이 방사선 검출기에서는, 두께 150㎛ 이하의 유리 기판이 지지체로 되어 있음으로써, 뛰어난 방사선 투과성 및 가요성이 얻어지고, 열팽창 계수의 문제도 완화시킬 수 있다. 또, 이 방사선 검출기에서는, 유기 수지층 또는 수지 필름층에 의해서, 유리 기판이 보강되어, 엣지 부분의 깨짐이나 크랙의 발생을 억제할 수 있다.

본 발명에 의하면, 유리 기판의 깨짐이나 크랙의 발생을 방지하면서, 가요성을 확보할 수 있다.

도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 방사선 검출기의 구성을 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 제2 실시 형태에 따른 방사선 검출기의 구성을 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 제3 실시 형태에 따른 방사선 검출기의 구성을 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 제4 실시 형태에 따른 방사선 검출기의 구성을 나타내는 단면도이다.
도 5는 본 발명의 제5 실시 형태에 따른 방사선 검출기의 구성을 나타내는 단면도이다.
도 6은 본 발명의 제6 실시 형태에 따른 방사선 검출기의 구성을 나타내는 단면도이다.
도 7은 본 발명의 제7 실시 형태에 따른 방사선 검출기의 구성을 나타내는 단면도이다.

이하, 도면을 참조하면서, 본 발명에 따른 신틸레이터 패널 및 방사선 검출기의 매우 적합한 실시 형태에 대해 상세하게 설명한다.

［제1 실시 형태］

도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 방사선 검출기의 구성을 나타내는 단면도이다. 동 도면에 도시한 바와 같이, 방사선 검출기(1A)는 신틸레이터 패널(2A)에 수광 소자(3)를 고정함으로써 구성되어 있다. 수광 소자(3)는, 예를 들면 유리 기판상에 포토 다이오드(PD)와 박막 트랜지스터(TFT)를 배열해서 이루어진 TFT 패널이다.

수광 소자(3)는, 신틸레이터 패널(2A)에 있어서의 후술의 신틸레이터층(13)에 대해서 수광면(3a)이 대향하도록 하여, 신틸레이터 패널(2A)의 일면측에 부착되어 있다. 또한, 수광 소자(3)로서는, TFT 패널 외, CCD 등의 이미지 센서를 파이버 옵틱 플레이트(FOP：수 미크론의 광섬유를 다발로 한 광학 디바이스로서, 예를 들면 하마마츠 포토닉스사제 J5734를 들 수 있음)를 통해서 접속한 것을 이용할 수도 있다.

신틸레이터 패널(2A)은 지지체가 되는 유리 기판(11)과, 유리 기판(11)을 보호하는 유기 수지층(12)과, 입사된 방사선을 가시광으로 변환하는 신틸레이터층(13)과, 신틸레이터층(13)을 습기로부터 보호하는 내습성의 보호층(14)에 의해서 구성되어 있다.

유리 기판(11)은, 예를 들면 두께가 150㎛ 이하, 바람직하게는 100㎛ 이하의 극박의 기판이다. 유리 기판(11)의 두께가 극박으로 되어 있음으로써, 충분한 방사선 투과성 및 가요성이 얻어지고, 수광 소자(3)의 수광면(3a)에 부착을 행할 때의 신틸레이터 패널(2A)의 추종성이 확보되고 있다.

유기 수지층(12)은, 예를 들면 실리콘계 수지, 우레탄계 수지, 에폭시계 수지, 불소계 수지 등에 의해, 유리 기판(11)의 일면(11a) 및 측면(11c)을 덮도록 형성되어 있다. 유기 수지층(12)의 형성 방법으로서는, 예를 들면 스핀 코트법 등에 의한 도포를 들 수 있다. 유기 수지층(12)의 두께는, 예를 들면 100㎛ 정도로 되어 있다.

신틸레이터층(13)은, 예를 들면 Tl를 도프한 CsI의 주상(柱狀) 결정을 증착법에 의해서 성장 및 퇴적시킴으로써, 유기 수지층(12)이 형성된 유리 기판(11)의 일면(11a)측에 형성되어 있다. 신틸레이터층(13)의 두께는, 예를 들면 250㎛로 되어 있다. 신틸레이터층(13)은 흡습성이 높아서, 노출된 채로 두면 공기 중의 습기에 의해서 조해(潮解)되어 버릴 우려가 있다. 이 때문에, 신틸레이터층(13)에는, 내습성의 보호층(14)이 필요하게 되어 있다.

보호층(14)은, 예를 들면 폴리파라크실릴렌 등을 CVD법 등의 기상(氣相) 퇴적법을 이용하여 성장시킴으로써, 유기 수지층(12)이 형성된 유리 기판(11)과 함께 신틸레이터층(13)을 덮도록 형성되어 있다. 보호층(14)의 두께는, 예를 들면 10㎛ 정도로 되어 있다.

이상과 같은 구성을 가지는 방사선 검출기(1A)에서는, 유리 기판(11)측으로부터 입사된 방사선이 신틸레이터층(13)에서 광으로 변환되고, 수광 소자(3)에 의해서 검출된다. 신틸레이터 패널(2A)에서는, 두께 150㎛ 이하의 유리 기판(11)이 지지체로 되어 있음으로써, 뛰어난 방사선 투과성 및 가요성이 얻어진다.

유리 기판(11)이 충분한 가요성을 가짐으로써, 신틸레이터 패널(2A)을 수광 소자(3)의 수광면(3a)에 부착할 때의 형상의 추종성을 만족시킬 수 있다. 또, 수광 소자(3)로서 TFT 패널을 이용하고, 수광면(3a)이 유리제의 패널인 경우, 수광면(3a)의 열팽창 계수와 신틸레이터 패널(2A)의 유리 기판(11)의 열팽창 계수를 일치시킬 수 있다. 이 때문에, 유리 기판(11)상의 미세한 흠집이나, 신틸레이터층(13)을 증착에 의해서 형성하는 경우에 생기는 이상 성장부에 의해서 TFT 패널과의 사이에 생기는 흠집이, 동작시의 열에 의해서 수광면(3a)에 대해서 이동해 버리는 것을 방지할 수 있어, 캘리브레이션의 수고가 번잡하게 되는 것도 회피할 수 있다.

또, 이 신틸레이터 패널(2A)에서는, 유리 기판(11)의 일면(11a) 및 측면(11c)을 덮도록 유기 수지층(12)이 형성되어 있다. 이것에 의해, 유리 기판(11)이 보강되어, 엣지 부분의 깨짐이나 크랙의 발생을 억제할 수 있다. 이것은, 제조시나 사용시의 핸들링성의 향상에도 기여한다. 추가로, 유리 기판(11)의 측면(11c)으로부터의 미광을 방지할 수 있는 것 외에, 유기 수지층(12)을 유리 기판(11)의 타면(11b)측에 형성하지 않음으로써, 유리 기판(11)의 타면(11b)측으로의 광의 투과성이 유지되어, 수광 소자(3)측으로의 광의 반사가 감쇠하는 결과, 해상도를 유지할 수 있다.

또, 유리 기판(11)의 일면(11a) 및 측면(11c)을 덮도록 유기 수지층(12)이 형성되어 있음으로써, 신틸레이터층(13)을 형성할 때에 매우 적합한 표면 에너지 및 표면 거칠기가 되도록, 유리 기판(11)의 표면 상태를 조정하는 것도 가능해진다.

［제2 실시 형태］

도 2는 본 발명의 제2 실시 형태에 따른 방사선 검출기의 구성을 나타내는 단면도이다. 동 도면에 도시한 바와 같이, 제2 실시 형태에 따른 방사선 검출기(1B)는 신틸레이터 패널(2B)에 있어서, 유기 수지층(12)이 유리 기판(11)의 일면(11a)이 아니라, 타면(11b)을 덮도록 형성된다는 점에서, 제1 실시 형태와 다르다.

이러한 구성에 있어서도, 상기 실시 형태와 마찬가지로, 유기 수지층(12)에 의해서 유리 기판(11)이 보강되어 있으므로, 엣지 부분의 깨짐이나 크랙의 발생을 억제할 수 있어, 유리 기판(11)의 측면(11c)으로부터의 미광을 방지할 수 있다.

또, 유기 수지층(12)이 유리 기판(11)의 타면(11b)측에 있음으로써, 신틸레이터층(13)의 내부 응력을 캔슬시킬 수 있어, 유리 기판(11)의 휨을 억제할 수 있다. 유리 기판(11)의 휨의 억제 효과는, 유리 기판(11)이 10cm×10cm 정도의 소형 기판인 경우에 특히 현저하다.

［제3 실시 형태］

도 3은 본 발명의 제3 실시 형태에 따른 방사선 검출기의 구성을 나타내는 단면도이다. 동 도면에 도시한 바와 같이, 제3 실시 형태에 따른 방사선 검출기(1C)는 신틸레이터 패널(2C)에 있어서, 유기 수지층(12)이 아니라 수지 필름층(16)이 유리 기판(11)의 일면(11a)을 덮도록 부착되고, 측면(11c)이 유기 수지층(12)으로 덮여있지 않다는 점에서, 제1 실시 형태와 다르다.

보다 구체적으로는, 수지 필름층(16)은, 유리 기판(11)에 있어서, 신틸레이터층(13)이 형성되는 면(일면(11a))측에 래미네이터(laminater) 등을 이용함으로써 부착되어 있다.

수지 필름층(16)으로서는, 예를 들면 PET(폴리에틸렌 테레프탈레이트), PEN(폴리에틸렌 나프탈레이트), COP(시클로 올레핀 폴리머), PI(폴리이미드) 등을 이용할 수 있다. 또, 수지 필름층(16)의 두께는, 예를 들면 100㎛ 정도로 되어 있다. 또, 수지 필름층(16)의 가장자리는, 유리 기판(11)의 가장자리와 일치해 있지만, 약간 삐져나온 정도로 되어 있는 것이 바람직하다.

이러한 구성에 있어서도, 수지 필름층(16)에 의해서 유리 기판(11)이 보강되어 있으므로, 상기 실시 형태와 마찬가지로, 엣지 부분의 깨짐이나 크랙의 발생을 억제할 수 있다. 또, 수지 필름층(16)을 유리 기판(11)의 타면(11b)측에 형성하지 않음으로써, 제1 실시 형태와 마찬가지로, 유리 기판(11)의 타면(11b)측으로의 광의 투과성이 유지되어, 수광 소자(3)측으로의 광의 반사가 감쇠하는 결과, 해상도를 유지할 수 있다.

또, 유리 기판(11)의 일면(11a)을 덮도록 수지 필름층(16)이 형성되어 있음으로써, 신틸레이터층(13)을 형성할 때에 매우 적합한 표면 에너지 및 표면 거칠기가 되도록, 유리 기판(11)의 표면 상태를 조정하는 것도 가능해진다.

［제4 실시 형태］

도 4는 본 발명의 제4 실시 형태에 따른 방사선 검출기의 구성을 나타내는 단면도이다. 동 도면에 도시한 바와 같이, 제4 실시 형태에 따른 방사선 검출기(1D)는 신틸레이터 패널(2D)에 있어서, 수지 필름층(16)이 유리 기판(11)의 일면(11a)이 아니라, 타면(11b)을 덮도록 부착되어 있다는 점에서, 제3 실시 형태와 다르다.

이러한 구성에 있어서도, 수지 필름층(16)에 의해서 유리 기판(11)이 보강되어 있으므로, 상기 실시 형태와 마찬가지로, 엣지 부분의 깨짐이나 크랙의 발생을 억제할 수 있다. 또, 수지 필름층(16)이 유리 기판(11)의 타면(11b)측에 있음으로써, 제2 실시 형태와 마찬가지로, 신틸레이터층(13)의 내부 응력을 캔슬시킬 수 있어, 유리 기판(11)의 휨을 억제할 수 있다.

［제5 실시 형태］

도 5는 본 발명의 제5 실시 형태에 따른 방사선 검출기의 구성을 나타내는 단면도이다. 동 도면에 도시한 바와 같이, 제5 실시 형태에 따른 방사선 검출기(1E)는 신틸레이터 패널(2E)에 있어서, 수지 필름층(16)이 유리 기판(11)의 양면을 덮도록 부착되어 있다는 점에서, 제3 실시 형태 및 제4 실시 형태와 다르다.

이러한 구성에서는, 수지 필름층(16)에 의해서 유리 기판(11)의 일면(11a) 및 타면(11b)의 양면이 보강되어 있으므로, 엣지 부분의 깨짐이나 크랙의 발생을 보다 효과적으로 억제할 수 있다. 또, 유리 기판(11)의 일면(11a)측 및 타면(11b)측의 양면에 같은 재질의 수지층이 형성됨으로써, 유리 기판(11)의 휨의 억제가 가능해진다.

또, 유리 기판(11)의 일면(11a) 및 타면(11b)을 덮도록 수지 필름층(16)이 형성되어 있음으로써, 신틸레이터층(13)을 형성할 때에 매우 적합한 표면 에너지 및 표면 거칠기가 되도록, 유리 기판(11)의 표면 상태를 조정하는 것도 가능해진다.

［제6 실시 형태］

도 6은 본 발명의 제6 실시 형태에 따른 방사선 검출기의 구성을 나타내는 단면도이다. 동 도면에 도시한 바와 같이, 제6 실시 형태에 따른 방사선 검출기(1F)는 신틸레이터 패널(2F)에 있어서, 수지 필름층(16)이 추가되어 있다는 점에서, 제1 실시 형태와 다르다. 보다 구체적으로는, 유기 수지층(12)이 일면(11a)측 및 측면(11c)측을 덮도록 형성된 유리 기판(11)에 있어서, 추가로 타면(11b)측을 덮도록 수지 필름층(16)이 부착되어 있다.

이러한 구성에서는, 유기 수지층(12) 및 수지 필름층(16)에 의해서 유리 기판(11)의 전면(全面)이 보강되어 있으므로, 엣지 부분의 깨짐이나 크랙의 발생을 보다 효과적으로 억제할 수 있다. 또, 제1 실시 형태와 마찬가지로, 유리 기판(11)의 측면(11c)을 덮도록 유기 수지층(12)이 형성되어 있음으로써, 유리 기판(11)의 측면(11c)으로부터의 미광을 방지할 수 있다. 또, 유리 기판(11)의 일면(11a)측 및 타면(11b)측의 각각에 수지층이 형성됨으로써, 유리 기판(11)의 휨의 억제가 가능해진다.

또, 유리 기판(11)의 전면을 덮도록 유기 수지층(12) 및 수지 필름층(16)이 형성되어 있음으로써, 신틸레이터층(13)을 형성할 때에 매우 적합한 표면 에너지 및 표면 거칠기가 되도록, 유리 기판(11)의 표면 상태를 조정하는 것도 가능해진다.

［제7 실시 형태］

도 7은 본 발명의 제7 실시 형태에 따른 방사선 검출기의 구성을 나타내는 단면도이다. 동 도면에 도시한 바와 같이, 제7 실시 형태에 따른 방사선 검출기(1G)는 신틸레이터 패널(2G)에 있어서, 수지 필름층(16)이 추가되어 있다는 점에서, 제2 실시 형태와 다르다. 보다 구체적으로는, 유기 수지층(12)이 타면(11b)측 및 측면(11c)측을 덮도록 형성된 유리 기판(11)에 있어서, 추가로 일면(11a)측을 덮도록 수지 필름층(16)이 부착되어 있다.

이러한 구성에서는, 유기 수지층(12) 및 수지 필름층(16)에 의해서 유리 기판(11)의 전면이 보강되어 있으므로, 제6 실시 형태와 마찬가지로, 엣지 부분의 깨짐이나 크랙의 발생을 보다 효과적으로 억제할 수 있다. 또, 제6 실시 형태와 마찬가지로, 유리 기판(11)의 측면(11c)을 덮도록 유기 수지층(12)이 형성되어 있음으로써, 유리 기판(11)의 측면(11c)으로부터의 미광을 방지할 수 있어, 유리 기판(11)의 일면(11a)측 및 타면(11b)측의 각각에 수지층이 형성됨으로써, 유리 기판(11)의 휨의 억제가 가능해진다.

또, 유리 기판(11)의 전면을 덮도록 유기 수지층(12) 및 수지 필름층(16)이 형성되어 있음으로써, 신틸레이터층(13)을 형성할 때에 매우 적합한 표면 에너지 및 표면 거칠기가 되도록, 유리 기판(11)의 표면 상태를 조정하는 것도 가능해진다.

1A~1G: 방사선 검출기, 2A~2G: 신틸레이터 패널,
3: 수광 소자, 11: 유리 기판,
11a: 일면, 11b: 타면,
11c: 측면, 12: 유기 수지층,
13: 신틸레이터층, 14: 보호층,
16: 수지 필름층.