近年来，逐渐使用通过利用辉尽性荧光体的放射线图像转换面板，使放 射线图像图像化的方法。
对于用于该放射线图像转换方法中的放射线图像转换面板的辉尽性荧 光体层，要求放射线吸收率和光转换率高、图像的粒状性良好、并且是高清 晰性的。
为了调整这些有关灵敏度和图像质量的多种因子，以改良灵敏度和图像 质量，迄今进行过各种各样的研究，其中，作为改善放射线图像的清晰性的 方法，尝试过例如通过控制所形成的辉尽性荧光体的形状本身，来谋求改良 灵敏度和清晰性。
作为该尝试的一种，例如在特开昭61-142497号公报等中记载了，使用 一种在具有微细的凹凸图案的支持体上堆积辉尽性荧光体而形成的、由微细 的拟柱状块体形成的辉尽性荧光体层的方法。
另外，在特开昭61-142500号公报中记载了，使用对于在具有微细图案 的支持体上堆积辉尽性荧光体而得到的柱状块体间的裂纹进行冲击处理使 具有裂纹更加发达的辉尽性荧光体层的放射线图像转换面板的方法；进而， 在特开昭62-39737号公报中记载了，使用一种对于在支持体的面上形成的 辉尽性荧光体层从其表面侧生成裂缝而制成拟柱状的放射线图像转换面板 的方法；进而，在特开昭62-110200号公报的记载中也提出了，在支持体的 上面利用蒸镀法形成具有空洞的辉尽性荧光体层后，利用加热处理使空洞成 长而设置裂缝的方法等。
另外，还提出过具有利用气相沉积法，在支持体(以下也叫做基板)上形 成了对于支持体的法线方向具有一定斜角的细长柱状结晶的辉尽性荧光体 层的放射线图像转换面板(例如参照专利文献1)。
在这些控制辉尽性荧光体层的形状的尝试中，都是通过使辉尽性荧光体 层成为柱状，抑制辉尽激发光(辉尽发光)向横向扩散(在柱状结晶界面边反复 反射边到达支持体面)，所以具有可以显著地增大由辉尽发光带来的图像清 晰性的特征。
具有这些由气相生长法(沉积)形成的辉尽性荧光体层的放射线图像转换 面板，所述灵敏度和清晰性的关系得以提高，此外，还有通过对于由拟柱状 或柱状的辉尽性荧光体结晶构成的荧光体层组合低折射率层，抑制在放射线 图像转换面板中的层界面的反射或折射，以进一步提高图像质量的尝试(例 如参照专利文献2)。
但是，尤其是由柱状辉尽性荧光体结晶构成的荧光体层，由于是在基板 上形成了细长的柱状结晶，所以有时对基板的附着性(粘附性)不够充分，形 成后容易被剥离，需要改善耐久性。尤其是使用高反射性支持体时，存在膜 附着性变差的倾向(例如参照专利文献3)，如果使放射线图像转换面板掉下 来等施加物理性冲击时，就非常有可能发生荧光体层被剥落或者涂布设置到 面板上的整个层产生裂缝这样的问题。

发明要解决的问题
本发明的目的是提供一种具有高的清晰性和膜附着性的平衡、尤其是提 高了支持体和辉尽性荧光体层之间的粘附力、对物理性冲击非常耐受的放射 线图像转换面板，以及放射线图像转换面板的制造方法。
解决问题的方案
本发明的发明人等进行了深入研究的结果发现，本发明的目的可以通过 下述方案达到。
1.一种放射线图像转换面板，其为在支持体上从该支持体侧顺次地层叠 了底涂层和辉尽性荧光体层的放射线图像转换面板，该辉尽性荧光体层的至 少一层是由气相法形成的具有50μm以上膜厚的层，该底涂层的至少一层是 由热塑性树脂构成，并且图像区域的中央部的膜厚比周边部的膜厚更厚的 层。
2.根据上述1所述的放射线图像转换面板，其中，所述中央部的膜厚相 对于所述周边部的膜厚厚出3～50％。
3.根据上述1或2所述的放射线图像转换面板，其中，所述辉尽性荧光 体层是由碱金属卤化物系辉尽性荧光体的柱状结晶体构成的。
4.根据上述3所述的放射线图像转换面板，其中，所述碱金属卤化物系 辉尽性荧光体的柱状结晶体是由CsBr系柱状结晶构成的。
5.一种放射线图像转换面板的制造方法，该方法是制造上述1～4中任意 一项所述的放射线图像转换面板的方法，其中，利用离心力将滴落到支持体 上的涂布液通过进行旋涂来形成底涂层。
本发明，由于使放射线图像转换面板的底涂层的中央部成为比周边部更 厚时，可以提高支持体(基板)和辉尽性荧光体层的粘附力，可以制得尤其是 对于物理性冲击具有很强耐受性的放射线图像转换面板。
中央部是指以基板重心点为基准，占图像区域总面积的10％的面积的圆 形部分，周边部是指被图像区域的端部(图像区域和图像区域以外的区域的 边界线)和其内侧的闭合线包围的区域，是具有一定宽度的带状区域，且其 面积相对于图像区域的面积占10％的面积的部分。另外，图像区域是指在放 射线图像转换面板中实际上形成图像的区域，是指形成有本发明涉及的辉尽 性荧光体层的区域。
图1是用于说明放射线图像转换面板的中央部11、周边部12以及图像 区域(涂布设置荧光体层的区域)的端部13的示意图。
另外，关于膜厚的实际测定，是在各个部位任意选择20个点，将其膜 厚的平均值作为其部位的膜厚。
关于膜厚的测定方法没有特别限制，例如可以使用有机溶剂除去底涂层 后，使用表面粗糙度仪(例如，东京精密公司制造的SURFCOM 1400D)来测 定底涂层和基板的高低差。或者，也可以使用裁断基板和底涂层，用电子显 微镜(例如，日立制作所公司制造的S800)照相后，由照片测定出层厚的方法。
另外，底涂层的中央部膜厚比周边部厚是指，由下述式计算出的值(膜 厚差)在+1％以上的情况，从耐冲击性、清晰度、膜附着性方面考虑膜厚度差 优选为3～50％。
膜厚度差(％)＝[(中央部的膜厚)-(周边部的膜厚)]/(中央部的膜厚)
发明的效果
根据本发明，可以提供一种具有高的清晰性和膜附着性的平衡、尤其是 提高了支持体和辉尽性荧光体层之间的粘附力、对物理性冲击具有非常强的 耐受力的放射线图像转换面板，以及放射线图像转换面板的制造方法。
附图说明
图1是放射线图像转换面板的中央部、周边部以及图像区域的示意图；
图2是示出形成本发明的辉尽性荧光体层时使用的蒸镀装置的一例的示 意图。
符号说明
1、蒸镀装置
2、真空室
3、支持体旋转机构(支持体旋转功能)
4、支持体
5、蒸发源
6、控制支持体表面温度的加热器
11、中央部
12、周边部
13、图像区域的端部

下面进一步详细地说明构成本发明的化合物、层结构、制造方法等。
[支持体(基材)]
本发明的支持体可以使用通常用于放射线图像转换面板的基材，例如 铝、石英玻璃、塑料树脂等，但从更好地发挥本发明效果的角度考虑，优选 使用以铝为主要成分的金属基板、CFRP、芳香族聚酰胺层叠板。
[底涂层(中间层)]
本发明涉及的底涂层(也叫做中间层)是处于支持体和辉尽性荧光体层之间 的层，例如，是对支持体表面进行聚合物涂布处理而设层的聚合物层等。
底涂层的膜厚优选为0.1～10μm，另外，优选底涂层的膜厚相对于设置 在支持体的辉尽性荧光体层侧的整个结构层的膜厚为0.1～20％。
在本发明中，底涂层的至少一层是由热塑性树脂形成，并且中央部的膜 厚比周边部的膜厚更厚的层。
作为能够用于底涂层的热塑性树脂，没有特别限制，例如，可以举出聚 氨酯、聚酯、氯乙烯共聚物、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-偏氯乙烯 共聚物、氯乙烯-丙烯腈共聚物、丁二烯-丙烯腈共聚物、聚酰胺树脂、聚乙 烯醇缩丁醛、纤维素衍生物(硝基纤维素等)、苯乙烯-丁二烯共聚物、各种合 成橡胶系树脂、酚醛树脂、环氧树脂、尿素树脂、三聚氰胺树脂、苯氧树脂、 有机硅树脂、丙烯酸系树脂、尿素甲酰胺树脂等。其中，优选聚氨酯、聚酯、 氯乙烯系共聚物、聚乙烯醇缩丁醛。作为聚氨酯可以举出三洋化成公司制造 的浇注聚氨酯弹性体(商品名：サンプレン)系列、武田药品工业公司制造的 聚异氰酸酯(商品：タケネ—ト)系列等。作为聚酯树脂可以举出东洋纺公司 制造的Byron(バイロン)系列等。用于底涂层的热塑性树脂的平均玻璃化转 变温度(Tg)优选具有20～200℃的Tg。
关于将这些树脂在支持体上涂布设置成为图像区域的中央部膜厚比周 边部膜厚更厚的层的方法没有特别限制。
作为形成底涂层的方法，优选使用对于滴落到支持体上的涂布液利用离 心力进行旋涂来形成的方法。
例如，使用旋涂机并通过调节转数和涂布液粘度，就可以涂布设置具有 适当膜厚分布的底涂层。
当使用旋涂机涂布时，为了将中央部涂布得厚，只要进行如下地调整涂 料的粘度和转数即可。为了使中央部厚，将涂料的粘度范围控制在 5mPa·s～100mPa·s并且将旋涂机的转数控制在200rpm～1000rpm是重要的。 另外，优选在10秒钟内达到所设定转数。
旋涂机可以使用市场上销售的机器，没有特别限制。
作为用于旋涂机的涂布液，可以使用含有溶解上述热塑性树脂的溶剂， 也可以含有表面活性剂等涂布性提高剂。
另外，形成本发明涉及的底涂层时，优选使用交联剂，优选在涂布时或 在涂布后进行交联而形成热塑性树脂层。作为交联剂，例如，可以举出多官 能异氰酸酯及其衍生物、三聚氰胺及其衍生物、氨基树脂及其衍生物等，优 选使用多官能异氰酸酯化合物，例如，可以举出日本聚氨酯公司制造的 Colonnat(コロネ—ト)HX、Colonnat(コロネ—ト)3041等。
另外，这些热塑性树脂(粘合剂)也可以混合两种以上来使用。并且，底 涂层也可以是多层结构。
[辉尽性荧光体层]
本发明的辉尽性荧光体层，优选其中的至少一层由碱金属卤化物系辉尽 性荧光体的柱状结晶体构成。所谓构成是指辉尽性荧光体层也可以含有其他 成分，但是以碱金属卤化物系辉尽性荧光体的柱状结晶体为主要成分，占全 部辉尽性荧光体层质量的至少50质量％以上。
只要是碱金属卤化物系辉尽性荧光体则没有特别限制，但尤其优选下述 通式(1)所示的物质。
通式(1)M1X·aM2X’2·bM3X”3：eA
上述通式(1)中，M1是从Li、Na、K、Rb和Cs中选出的至少一种碱金 属原子；M2是从Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu和Ni中选出的至少 一种二价金属原子；M3是从Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、 Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga和In中选出的至少一种三价金属 原子；X、X’和X”分别是从F原子、Cl原子、Br原子和I原子中选出的至 少一种卤原子；A是从Eu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、 Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu和Mg中选出的至少一种金属原子；并 且，a、b、e分别表示0≤a<0.5、0≤b<0.5、0接着，说明在本发明中适宜使用的上述通式(1)所示的辉尽性荧光体。
在上述通式(1)所示的辉尽性荧光体中，M1表示从Na、K、Rb和Cs等 各原子中选出的至少一种碱金属原子，其中，优选为从Rb和Cs的各原子中 选出的至少一种碱土金属原子，其中更优选为Cs原子。
M2表示从Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu和Ni等各原子中选出 的至少一种二价金属原子，其中，适宜使用的是从Be、Mg、Ca、Sr和Ba 等各原子中选出的二价金属原子。
M3表示从Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、 Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga和In等各原子中选出的至少一种三价金属原子， 其中，适宜使用的是从Y、Ce、Sm、Eu、Al、La、Gd、Lu、Ga和In等各 原子中选出的三价金属原子。
A是从Eu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、 Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu和Mg的各原子中选出的至少一种金属原子。其 中优选的是Eu金属原子。
从提高辉尽性荧光体的辉尽发光亮度的观点考虑，X、X’和X”表示从F、 Cl、Br和I的各原子中选出的至少一种卤原子，优选为从F、Cl和Br选出 的至少一种卤原子，更优选为从Br和I的各原子中选出的至少一种卤原子。
其中，作为本发明中使用的辉尽性荧光体，优选CsBr系辉尽性荧光体， 例如CsBr：Eu。
本发明的通式(1)所示的辉尽性荧光体，可以按照下面所述的制造方法来 制造。
作为荧光体原料，例如可以使用如下的化合物：
(a)从NaF、NaCl、NaBr、NaI、KF、KCl、KBr、KI、RbF、RbCl、RbBr、 RbI、CsF、CsCl、CsBr和CsI中选出的至少一种化合物。
(b)从MgF2、MgCl2、MgBr2、MgI2、CaF2、CaCl2、CaBr2、CaI2、SrF2、 SrCl2、SrBr2、SrI2、BaF2、BaC12、BaBr2、BaBr2·2H2O、BaI2、ZnF2、ZnCl2、 ZnBr2、ZnI2、CdF2、CdCl2、CdBr2、Cdl2、CuF2、CuCl2、CuBr2、CuI、NiF2、 NiCl2、NiBr2和NiI2化合物中选出的至少一种化合物。
(c)从AlCl3、GaBr3和InCl3的化合物中选出的至少一种或两种以上的化 合物。
(d)作为激活部的原料使用具有从Eu、Tb、In、Cs、Ce、Tm、Dy、Pr、 Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu和Mg等各原子中 选出的金属原子的化合物。
另外，在通式(1)所示的化合物中，a为0≤a<0.5，优选为0≤a<0.01；b 为0≤b<0.5，优选为0≤b≤10-2；e为0为了得到上述辉尽性荧光体，称量上述(a)～(d)的荧光体原料，使其成为 上述数值范围的混合组成，然后使用乳钵、球磨机、混合机等充分地混合。
本发明的辉尽性荧光体层是由气相法(也叫做气相沉积法)形成。作为形 成辉尽性荧光体层的气相法可以举出蒸镀法、溅射法、CVD法、离子镀法 等。
在本发明中，例如，可以举出如下的方法。
第一个方法的蒸镀法是，首先，将支持体设置在蒸镀装置内后，对装置 内进行排气，使其成为1.333×10-4Pa左右的真空度。
接着，利用电阻加热法、电子束法等方法加热蒸发所述辉尽性荧光体的 至少一种，在所述支持体表面以期望的厚度生长辉尽性荧光体。
其结果，形成不含有粘结剂的辉尽性荧光体层，在所述蒸镀工序中也可 以分几次来形成辉尽性荧光体层。
另外，在所述蒸镀工序中也可以利用多个电阻加热器或电子束进行共蒸 镀，在支持体上合成作为目的的辉尽性荧光体的同时形成辉尽性荧光体层。
蒸镀结束后，根据需要在所述辉尽性荧光体层的与支持体侧相反的一侧 设置保护层，由此制造出本发明的放射线图像转换面板。而且，也可以采用 在保护层上形成辉尽性荧光体层后，设置支持体的步骤。
进而，在所述蒸镀法中，在进行蒸镀时也可以根据需要冷却或加热被蒸 镀体(支持体、保护层或中间层)。
另外，蒸镀结束后也可以加热处理辉尽性荧光体层。另外，在所述蒸镀 法中也可以根据需要进行导入O2、H2等气体进行蒸镀的反应性蒸镀。
作为第二个方法的溅射法，与蒸镀法相同，将具有保护层或中间层的支 持体设置在溅射装置内后，先对装置内进行排气，使其成为1.333×10-4Pa左 右的真空度，接着向溅射装置内导入作为溅射用气体的Ar、Ne等非活性气 体，使装置内成为1.333×10-1Pa左右的气压。接着，将所述辉尽性荧光体作 为靶，进行溅射，从而在所述支持体上以期望厚度生长辉尽性荧光体层。
在所述溅射工序中可以与蒸镀法同样地使用各种应用处理。
作为第三个方法有CVD法，或作为第四个方法有离子镀法。
另外，所述气相生长中的辉尽性荧光体层的生长速度，从放射线图像转 换面板的生产性、或控制生长速度的方面考虑，优选0.05～300μm/分钟。
当由所述真空蒸镀法、溅射法等获得放射线图像转换面板时，由于不存 在粘结剂，所以可以增大辉尽性荧光体的填充密度，可以得到灵敏度和清晰 度良好的放射线图像转换面板，因此是优选的。
进行蒸镀的坩埚根据蒸镀方式的电阻加热方式、卤素加热方式、EB(电 子束)方式等加热方式而有所不同。
所述辉尽性荧光体层的膜厚根据放射线图像转换面板的使用目的或者 辉尽性荧光体的种类而有所不同，但从获得本发明记载的效果的角度考虑需 要在50μm以上，对于其上限没有特别限制，但优选达到1mm左右，更优 选的膜厚的范围为50～800μm。
在本发明中，在柱状结晶之间的间隙中也可以填充粘结剂等填充物，以 起到增强辉尽性荧光体层的作用，除此之外，也可以填充光吸收高的物质、 光反射率高的物质等，这样，除了带来所述增强效果之外，还有利于降低入 射到辉尽性荧光体层的辉尽激发光朝横向的光扩散。
高反射率的物质是指对于辉尽激发光(500～900nm，尤其是600～800nm) 的反射率高的物质，例如，可以使用铝、镁、银、铟、其他金属等，白色颜 料及绿色～红色区域的色料。白色颜料还能反射辉尽发光。
作为白色颜料可以举出例如TiO2(锐钛矿型、金红石型)、MgO、 PbCO3·Pb(OH)2、BaSO4、Al2O3、M(II)FX(其中M(II)是从Ba、Sr和Ca的各原 子中选出的至少一种原子，X是Cl原子或Br原子)、CaCO3、ZnO、Sb2O3、SiO2、 ZrO2、锌钡白(BaSO4·ZnS)、硅酸镁、碱式硫酸硅盐、碱式磷酸铅、硅酸铝等。
这些白色颜料由于隐蔽性强、折射率大，所以通过对光进行反射或折射， 容易散射辉尽发光，从而可以显著地提高所得放射线图像转换面板的灵敏度。
另外，作为光吸收率高的物质，可以使用，例如，碳黑、氧化铬、氧化 镍、氧化铁等以及蓝色色料。其中，碳黑还能吸收辉尽发光。
并且，色料可以是有机或无机系色料中的任何一种。
作为有机系色料，可以使用例如圆柚坚牢蓝3G(ザボンファ—ストブル— 3G)(赫希斯特(Hoechst(ヘキスト))制造)、埃斯特罗布里蓝N-3RL(エストロ—ル ブリルブル—N-3RL)(住友化学制造)、D&C蓝—No.1(D&Cブル— No.1)(nationalaniline(ナシヨナルァニリン)制造)、醇溶蓝(spiritblue(スピリツト ブル—)(保土谷化学制造)、油蓝No.603(オイルブル—No.603(Orient(オリエン ト)制造)、奇通蓝A(chitonblue(キトンブル—)A(Ciba-Geigy制造)、爱染卡磁隆 蓝GLH(ァイゼンカチロンブル—GLH)(保土谷化学制造)、湖蓝AFH(レィク ブル—AFH)(协和产业制造)、普里摩深蓝6GX(Primocyanine6GX(ブリモシァ ニン6GX)(稻田产业制造)、布里酸性绿(ブリルァシッドグリ—ン)6BH(保土谷 化学制造)、蓝绿色BNRCS(cyanblueBNRCS(シァンブル—BNRCS))(东洋油墨 制造)、易溶诺伊尔蓝SL(ライオノイルブル—SL)(东洋油墨制造)等。
另外，还可以举出染料索引No.24411、23160、74180、74200、22800、 23154、23155、24401、14830、15050、15760、15707、17941、74220、13425、 13361、13420、11836、74140、74380、74350、74460等有机系金属配盐色 料。
作为无机系色料，可以举出群青、例如钴蓝、赛璐里安蓝(Cerulean Blue)、 氧化铬、TiO2-ZnO-Co-NiO系等无机颜料。
为了蒸镀辉尽性荧光体层，优选在支持体上涂布底涂层并干燥后，通过 各种蒸镀法形成辉尽性荧光体层。
在利用气相生长法形成辉尽性荧光体层时，可以使用如图2所示的代表 性的蒸镀装置。
在图2中，1是蒸镀装置，2是真空室，3是支持体旋转机构(支持体旋 转功能)，4是支持体，进而5是蒸发源，6是支持体表面温度控制加热器。 并且，d1是支持体4和蒸发源5之间的距离。
[保护层]
本发明的辉尽性荧光体层可以根据需要具有保护层。
保护层可以是将保护层用涂布液直接涂布在辉尽性荧光体层上来形成， 或者也可以是将预先另行形成的保护层设置在辉尽性荧光体层上。或者也可 以采用在另行形成的保护层上形成辉尽性荧光体层，然后设置支持体的方 法。
作为保护层的材料，可以使用醋酸纤维素、硝基纤维素、聚甲基丙烯酸 甲酯、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯醇缩甲醛、聚碳酸酯、聚酯、聚对苯二甲酸 乙二醇酯、聚乙烯、聚偏氯乙烯、尼龙、聚四氟乙烯、聚三氟氯乙烯、四氟 乙烯-六氟丙烯共聚物、偏氯乙烯-氯乙烯共聚物、偏氯乙烯-丙烯腈共聚物等 通常的保护层用材料。此外也可以使用透明的玻璃基板作为保护层。
另外，也可以是通过蒸镀法、溅射法等层叠SiC、SiO2、SiN、Al2O3等 无机物质而形成该保护层。
进而，这些保护层的层厚优选为0.1～2000μm。
[放射线图像转换面板的使用方法]
在本发明中使用的辉尽性荧光体的发光波长区域通常为300～500nm，另 一方面辉尽激发波长区域为500～900nm的情况较多。近年来，诊断装置向 小型化发展，放射图像转换面板的图像读取所用的激发波长优选的是高输出 并且容易紧凑小型化的半导体激光器，该激光的波长大多为680nm，用到本 发明的放射线图像转换面板中的辉尽性荧光体，在使用680nm的激发波长时 显示出极其良好的清晰性，故是优选的。
也即，用于本发明的辉尽性荧光体都显示出在500nm以下具有主峰的发 光，容易分离辉尽激发光，并且与光接收器的分光灵敏度的一致性良好，所 以可以有效地接收光，其结果可以提高图像接收体系的灵敏度。
作为激光器，有例如He-Ne激光器、He-Cd激光器、Ar离子激光器、 Kr离子激光器、N2激光器、YAG激光器及其第二高次谐波、红宝石激光器、 半导体激光器、各种色素激光器、铜蒸气激光器等金属蒸气激光器等。通常 适宜使用He-Ne激光器或Ar离子激光器这样的可以连续振动的激光器，但 只要能够使面板1像素的扫描时间与脉冲同步，就可以使用脉冲振动的激光 器。
另外，若是如特开昭59-22046号中记载的，采取利用发光的延迟进行 分离的方法时，与使用连续振动激光器进行调制的情况相比，使用脉冲振动 激光器更为优选。
在上述各种激光器光源中，半导体激光器是小型、廉价的，并且不需要 调制器，所以尤其优选使用。
例如，辉尽激发波长为500～900nm且辉尽发光波长为300～500nm这样 的在实际使用方面优选的组合时，作为滤光器可以使用例如东芝公司制造的 C-39、C-40、V-40、V-42、V-44；CORNING(コ—ニング)公司制造的7-54、 7-59；SPECTROFILM(スペクトロフイルム)公司制造的BG-1、BG-3、BG-25、 BG-37、BG-38等紫色～蓝色玻璃滤光器。另外，如果使用干涉滤光器，则可 以在一定范围选择使用具有任意特性的滤光器。作为光电转换装置，如光电 管、光电子倍增管、光电二极管、光电晶体管、光导电元件等只要是可以将 光量的变化转换成电子信号的变化的装置则可以是任何一种。
实施例
下面举出实施例具体地说明本发明，但是当然，本发明并不限于这些实 施方式。
(实施例)
<放射线图像转换面板试样1～12(试样No.1～12)的制作>
如下所示，将聚酯树脂(东洋纺公司制造的拜纶(Bylon(バイロン)系列， Tg：60℃)溶解于甲基乙基酮/甲苯的1/1质量比混合溶剂中作为底涂层用涂 布液，然后利用旋涂机在0.5mm厚度的铝板支持体的表面(平均表面粗糙度 0.02μm)上涂布该底涂层用涂布液，在70℃热风中干燥。
接着，利用图2所示的蒸镀装置，用辉尽性荧光体(CsBr∶Eu)形成200μm 的辉尽性荧光体层。
先对真空室内进行排气后，导入Ar气体将真空度调节成1.0×10-2pa，在 保持支持体的表面温度为100℃的同时，进行蒸镀使辉尽性荧光体层的膜厚 达到400μm，制作出放射线图像转换面板试样。
在图2所示的蒸镀装置中，在与支持体中心正交的法线上配置蒸镀源， 使支持体与蒸镀源之间的距离d1为(60cm)。在蒸镀过程中边旋转支持体边进 行蒸镀操作。
接着，使用四氟乙烯-六氟丙烯共聚物的薄层(膜厚2.0μμm)作为保护层覆 盖辉尽性荧光体层表面，在干燥空气环境中用粘接剂封入支持体和保护层周 边部，得到荧光体层密闭的结构的放射线图像转换面板试样1。
底涂层如表1所示，除了变更其膜厚分布(图像区域的中央部和周边部 的膜厚差)以外，与放射线图像转换面板试样1(试样No.1)同样地操作，制作 放射线图像转换面板试样2～6(试样No.2～6)。
制作时，调节旋涂机的旋转速度，来改变底涂层的膜厚分布。
另外，虽然与上述放射线图像转换面板试样1～6同样地制作，但是将底 涂层用树脂变更为聚氨酯树脂(三洋化成公司制造的浇注用聚氨酯弹性体(商 品名：サンプレン)系列，Tg：45℃)，来制作放射线图像转换面板试样 7～12(试样No.7～12)。
<性能特性的评价>
对下述项目进行评价。
耐冲击性
在放射线图像转换面板的表面，用剃刀的刀刃切出格子状的达到支持体 面的割痕(边长：6.0cm)，从60cm高度把面板掉到混凝土地板上，以施加冲 击。
按照下述标准以5个级别评价受损(产生裂纹、膜浮起)的面积。
1：在100％的面积可以看到损伤。
2：在50％以上且小于100％的面积可以看到损伤。
3：在20％以上且小于50％的面积可以看到损伤。
4：在5％以上且小于20％的面积可以看到损伤(粘接性强)。
5：只在不到5％的面积可以看到损伤(粘接性非常强)。
如果评价在4以上，则可以认为在实际应用上具有充分的耐冲击强度。
清晰性
关于清晰性是求出调制传递函数(MTF)来评价。
对各放射线图像转换面板粘贴CTF图后，照射80kVp的X射线10mR(至 被照体的距离为1.5m)后，从具有荧光体层A的面一侧照射半导体激光 (690nm，在面板上的功率为40mW)，用直径100μm的半导体激光扫描CTF 图，读取并求得数值。表1记载的值，是将0.51p/mm下的放射线图像转换 面板1的MTF值规定为100时，对于各面板求出的相对值。
亮度
测定辉尽性发光强度。
评价是如下进行的，对整个放射线图像转换面板，照射管电压80kVp 的X射线，用100mW的半导体激光(680nm)扫描激发面板，用光电子倍增 管(浜松光子学株式会社(浜松ホトニクス)制造，光电子倍增管R1305)接收从 荧光体层放射出的辉尽发光而转换成电信号，进行模拟/数字转换，由磁带记 录。
对于记录的硬盘利用计算机进行分析，从记录在硬盘上的X射线平面图 像的信号值求出辉尽发光强度。
结果是以将试样No.1作为100的相对值表示。
膜附着性
在放射线图像转换面板的表面，用剃刀以格子状切出割痕至支持体面， 压接赛璐玢胶带(cerrotape(セロテ—プ。))(注册商标)，迅速剥离后以5个级别 评价剥离面积。
1：粘附力非常弱，完全剥离了100％以上的面积。
2：剥离了50％以上且小于100％的面积。
3：剥离了20％以上且小于50％的面积。
4：粘附力强，剥离了5％以上且小于20％的面积。
5：粘附力非常强，剥离面积小于5％或者根本没有剥离。
这里，如果评价在4以上则认为在实际应用中具有充分强的膜附着性。
对于在上面得到的试样No.1～12，在下述表1中示出了其评价结果。
表1
试样No. 膜厚分布 (％) 性能 在本发明的 内·外 耐冲击性 MTF(％) 亮度 膜附着性 1 0 3 100 100 3 外 2 30 5 100 100 5 内 3 10 5 100 100 5 内 4 50 5 100 100 5 内 5 100 4 95 100 4 内 6 -50 1 95 100 1 外 7 0 3 100 100 3 外 8 2.5 4 100 100 5 内 9 10 5 100 100 5 内 10 40 5 100 100 5 内 11 60 4 95 100 4 内 12 -30 1 95 100 1 外
从表1可以清楚地知道，处于本发明范围内的试样与本发明范围外(用 于比较)的试样相比，尤其是耐冲击性明显优良，在其他性能方面也是处于 同等以上的水平。
专利文献1：特开平2-58000号公报
专利文献2：特开平1-131498号公报
专利文献3：特开2004-251883号公报