一种多倾斜角复合多层膜劳厄透镜及其设计方法专利检索- 未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术;照射装置;γ射线或X射线显微镜专利检索查询-专利查询网

一种多倾斜角复合多层膜劳厄透镜及其设计方法
申请号	CN201510021478.7	申请日	2015-01-15	公开(公告)号	CN104575656A	公开(公告)日	2015-04-29
申请人	中国科学院高能物理研究所;			发明人	周亮; 岳帅鹏; 常广才; 李明; 刘鹏;
摘要	本发明公开了一种多倾斜角复合多层膜劳厄透镜。本发明的透镜包括m个沿垂直于入射光方向排列的倾斜型多层膜劳厄透镜；其中，每一所述倾斜型多层膜劳厄透镜内的所有膜层与入射光具有相同的夹角；该多倾斜角复合多层膜劳厄透镜能够实现衍射极限聚焦；m大于2；靠近中心区域的倾斜型多层膜劳厄透镜的膜层厚度较大，其膜层与入射光具有较小的夹角；靠近外层区域的倾斜型多层膜劳厄透镜的膜层厚度较小，其膜层与入射光具有较大的夹角。该具有与Wedge MLL相接近的聚焦性能，且易于加工实现。
权利要求	1.一种多倾斜角复合多层膜劳厄透镜，其特征在于，包括m个沿垂直于入射光方向排列的倾斜型多层膜劳厄透镜；其中，每一所述倾斜型多层膜劳厄透镜内的所有膜层与入射光具有相同的夹角；该多倾斜角复合多层膜劳厄透镜能够实现衍射极限聚焦；m大于2。 2.如权利要求1所述的多倾斜角复合多层膜劳厄透镜，其特征在于，沿中心区域向边缘区域方向，膜层厚度依次变小、膜层与入射光的夹角依次变大。 3.如权利要求1或2所述的多倾斜角复合多层膜劳厄透镜，其特征在于，各所述倾斜型多层膜劳厄透镜排列后的膜层编号和膜层厚度按照波带片公式确定；位于中心区域的第一所述倾斜型多层膜劳厄透镜的第一个膜层，其编号为k，在入射面上的位置由公式xin(k)＝xre(k)+w×tan(θ1)确定，w是根据楔形多层膜劳厄透镜设计计算得到的最佳深度，θ1是第一所述倾斜型多层膜劳厄透镜的膜层与入射光的夹角，xin(k)为膜层k在入射面的位 1/2 置，xre(k)为膜层k在出射面的位置，xre(k)＝(kλf) ，λ为入射光波长，f为所选定的焦距，第二个膜层出射面位置xre(k+1)＝xre(k)+d(k+1)/cos(θ1)，在入射面上的位置为xin(k+1)＝xin(k)+d(k+1)/cos(θ1)，d(k+1)为第二个膜层的厚度，后续膜层的位置以此类推；第i个所述倾斜型多层膜劳厄透镜的第一层膜层，其编号为p，在出射面上的位置xre(p)＝xre(p-1)+d(p)/cos(θi-1)，在入射面上的位置xin(p)＝xre(p)+w×tan(θi)，第二层膜层在出射面上的位置为xre(p+1)＝xre(p)+d(p+1)/cos(θi)，在入射面上的位置为xin(p+1)＝xin(p)+d(p+1)/cos(θi)，d(p+1)为第二膜层的厚度，后续膜层的位置以此类推；θi是第i个所述倾斜型多层膜劳厄透镜的膜层与入射光的夹角，i取值为2～m。 4.如权利要求3所述的多倾斜角复合多层膜劳厄透镜，其特征在于，每一所述倾斜型多层膜劳厄透镜中，最中间的相邻两个膜层满足Bragg条件：2[2d(im)]sinθi＝λ，im＝(if+il)/2,if和il分别是所述倾斜型多层膜劳厄透镜第一层和最后一层的膜层编号，d(im)为编号为im的膜层的厚度。 5.如权利要求4所述的多倾斜角复合多层膜劳厄透镜，其特征在于，各所述倾斜型多层膜劳厄透镜之间具有相等的层数或者膜层数量相差最小的层数。 6.如权利要求4所述的多倾斜角复合多层膜劳厄透镜，其特征在于，各所述倾斜型多层膜劳厄透镜的入射面和出射面相互平行，且垂直于入射光。 7.一种多倾斜角复合多层膜劳厄透镜设计方法，其步骤为： 2 1)根据波带片公式x(n)＝nλf确定多倾斜角复合多层膜劳厄透镜中所有膜层的膜层编号和膜层厚度，以及每一膜层的初始位置；其中，x(n)指的是膜层编号n的初始位置，λ为入射光波长和f为所选焦距； 2)根据1)所给定的波长、焦距以及膜层编号，计算楔形多层膜劳厄透镜在不同深度下的波前分布和衍射效率，得到的最佳深度；再根据最佳深度处出射面上的波前分布计算焦点附近的最强峰值I1； 3)调整膜层与入射光的夹角，将所有膜层划分为m个沿垂直于入射光方向排列的倾斜型多层膜劳厄透镜，其中，每一所述倾斜型多层膜劳厄透镜内的所有膜层与入射光具有相同的夹角，m大于2； 4)计算3)所得倾斜型多层膜劳厄透镜在焦点附近的最强峰值I2；判断比值I2/I1是否大于设定阈值；如果否，则更改m值，重复步骤3)、4)，直到比值I2/I1大于设定阈值。 8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，将所有膜层划分为m个沿垂直于入射光方向排列的倾斜型多层膜劳厄透镜，计算所述倾斜型多层膜劳厄透镜中膜层位置和角度的方法为：设位于中心区域的第一所述倾斜型多层膜劳厄透镜的第一个膜层编号为k，其在入射面上的位置由公式xin(k)＝xre(k)+w×tan(θ1)确定，w是根据楔形多层膜劳厄透镜设计计算得到的最佳深度，θ1是第一所述倾斜型多层膜劳厄透镜的膜层与入射光的夹角， 1/2 xin(k)为膜层k在入射面的位置，xre(k)为膜层k在出射面的位置，xre(k)＝(kλf) ，λ为入射光波长，f为所选定的焦距，第二个膜层出射面位置xre(k+1)＝xre(k)+d(k+1)/cos(θ1)，在入射面上的位置为xin(k+1)＝xin(k)+d(k+1)/cos(θ1)，d(k+1)为第二个膜层的厚度，后续膜层的位置以此类推；第i个所述倾斜型多层膜劳厄透镜的第一层膜层，其编号为p，在出射面上的位置xre(p)＝xre(p-1)+d(p)/cos(θi-1)，在入射面上的位置xin(p)＝xre(p)+w×tan(θi)，第二层膜层在出射面上的位置为xre(p+1)＝xre(p)+d(p+1)/cos(θi)，在入射面上的位置为xin(p+1)＝xin(p)+d(p+1)/cos(θi)，d(p+1)为第二膜层的厚度，后续膜层的位置以此类推；θi是第i个所述倾斜型多层膜劳厄透镜的膜层与入射光的夹角，i取值为2～m。 9.如权利要求7或8所述的方法，其特征在于，各所述倾斜型多层膜劳厄透镜之间具有相等的层数或者膜层数量相差最小的层数；每一所述倾斜型多层膜劳厄透镜中，最中间的相邻两个膜层满足Bragg条件：2[2d(im)]sinθi＝λ，im＝(if+il)/2,if和il分别是所述倾斜型多层膜劳厄透镜第一层和最后一层的膜层编号，d(im)为编号为im的膜层的厚度。 10.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述采用二分法更改所述m值。
说明书全文	一种多倾斜角复合多层膜劳厄透镜及其设计方法技术领域 [0001] 本发明涉及一种硬X射线纳米聚焦光学元件及其设计方法，尤其涉及多层膜劳厄透镜，属于同步辐射光束线工程、同步辐射光学领域背景技术 [0002] 第三代同步辐射所具有的高亮度、高准直性等特性以及硬X射线所具有的独特性质，例如强穿透能力、对结构信息和化学信息的敏感性、对电磁场的不敏感性等，使得硬X射线显微镜在材料学、医学、生物学以及环境科学等诸多领域具有广泛的使用。X射线显微镜的性能取决于聚焦光斑的光强与大小。迄今为止，各种各样利用反射、折射以及衍射的聚焦光学元件已经能够将硬X射线聚焦到几十纳米大小的量级。在这些聚焦光学元件中，衍射型聚焦元件——多层膜劳厄透镜(MLL)最有希望实现真正意义上的纳米量级(1nm)的聚焦(参考文献：H.Yan et al.,Multilayer Laue Lens:A Path Toward One Nanometer X-Ray Focusing，X-ray Opt.Instrum.2010,401845(2010))。目前MLL在实验上已经对硬X射线实现最高分辨率约11nm的一维聚焦，效率约15％；25×27nm的二维聚焦，效率约2％。 [0003] 由于MLL具有极大的深宽比(沿着入射光方向的深度与最外层膜层厚度的比值)，X射线在其中的传播必须采用衍射动力学来描述，此时每一层膜层是否满足Bragg条件MLL能否获得高效率高分辨率的关键。根据膜层满足Bragg条件的程度，可以将多层膜劳厄透镜分为四种类型：水平型(Flat)、倾斜型(Tilted)、Wedge(楔形)以及弯曲型(Curved)(参考文献：H.Yan et al.,Takagi-Taupin description ofx-ray dynamical diffraction from diffractive optics with large numerical aperture，Phys.Rev.B 76,115438(2007))。在这四种类型中，Flat和Tilted MLL在结构本质上是一样的，不同的是Flat MLL其所有膜层与入射光的夹角都为0，所有膜层都不满足Bragg条件，而Tilted MLL其所有膜层与入射光具有相同的角度，只有一部分膜层满足Bragg条件。因此对于Tilted MLL而言，要实现衍射极限聚焦，必须减小深度，尽量降低衍射动力学效应的影响，这必然会导致其只有较低的效率(参考文献：Hanfei Yan et al.,Optimization of multilayer Laue lenses for a scanning X-ray microscope,J.Synchrotron Rad.20,89(2013))。Wedge MLL其每一个膜层都具有不同的倾斜角，所有膜层都近似满足Bragg条件，理论计算结果显示其可以实现高效率的衍射极限聚焦。Tilted MLL 镀制工艺相对简单，目前实验上报道的MLL基本上都属于此种类型，而Wedge MLL由于其结构的复杂性，导致其镀制工艺比较困难，目前还未见实验上的报道。发明内容 [0004] 本发明的目的在于提出一种新的MLL结构——多倾斜角复合MLL，以解决Tilted MLL实现衍射极限聚焦时效率低和Wedge MLL镀制工艺难的问题。 [0005] 本发明可以通过以下技术方案来实现： [0006] 一种多倾斜角复合MLL，其特征在于：该多倾斜角复合MLL是由一系列Tilted MLL沿着垂直于入射光方向排列而成；对于其中单个Tilted MLL，其所有膜层与入射光具有相同的夹角；靠近中心区域膜层厚度较大的Tilted MLL，其膜层与入射光具有较小的夹角；靠近外层区域膜层厚度较小的Tilted MLL，其膜层与入射光具有较大的夹角；该多倾斜角复合MLL能够实现衍射极限聚焦，具有与Wedge MLL相接近的聚焦性能。 [0007] 所述的每个Tilted MLL具有相等或者近似相等的膜层数量。 [0008] 所述的单个Tilted MLL中，其膜层与入射光的夹角θ使得该Tilted MLL中膜层编号为最中间的相邻两个膜层满足Bragg条件。 [0009] 所述的多倾斜角复合MLL，其入射面和出射面相互平行，且垂直于入射光。 [0010] 所述的多倾斜角复合MLL，其具体结构参数可以通过以下的步骤来实现： [0011] (1)首先根据入射X射线的能量(波长λ)、镀膜的能力(膜层总厚度L)和聚焦分辨率r选择合适的焦距f，f可由瑞利判据公式得到，r＝0.5λ/NA≈λf/L；再根据要求的工作距离wd以及实际镀膜的精度选择一个折衷的方案，确定Flat MLL中最外层膜层厚度、最内层膜层的厚度、总的膜层数N以及每一层膜层的编号n，具体而言即先通过工作距离公式wd＝fε求得ε，这儿ε＝(xo-L)/xo，xo指的是最外层膜层的位置，此时根据波带片公式即可得到最外层膜层厚度、最内层膜层厚度、总的膜层数N以及每一层膜层的编号n。这儿需要特别指出的是在本技术方案中，Flat MLL中每一层膜层的编号n是固定，其由波带2 片公式所决定x(n)＝nλf，x(n)指的是编号为n的膜层的位置；并且多倾斜角复合MLL中每一层膜层的编号和Flat MLL相同，即多倾斜角复合MLL中第i层膜层和Flat MLL中第i层膜层的编号是一样的，它们总的膜层数N也是一样的。 [0012] (2)根据所述的波长、焦距、最外层和最内层膜层厚度，运用衍射动力学理论Takagi-Taupin description of dynamical diffraction theory(TTD)或者Coupled wave theory(CWT)计算Wedge MLL不同深度下的波前分布和衍射效率(参考文献：H.Yan et al.,Takagi-Taupin description of x-ray dynamical diffraction from diffractive optics with large numerical aperture，Phys.Rev.B 76,115438(2007)；J.Maser et al.，Coupled wave description ofthe diffraction by zone plates with high aspect ratios,Opt.Commun.89,355(1992))，得到最佳深度(衍射效率最大值所对应的深度)；同时根据最佳深度处出射面上的波前分布，再运用菲涅尔-基尔霍夫衍射积分计算焦点附近的光强分布，得到焦点附近的最强峰值。 [0013] (3)根据波带片公式计算Flat MLL中每一层膜层的厚度，d(n)＝x(n)-x(n-1)，式中d(n)指的是编号为n的膜层的厚度。 [0014] (4)假设多倾斜角复合MLL由m个Tilted MLL组合而成，每个Tilted MLL的膜层数为N/m。如果N/m不是整数，则对其四舍五入取整Int(N/m+0.5)，将多出或少掉的层数算在最外层区域的Tilted MLL上，其膜层数为N-(m-1)×Int(N/m+0.5)，而且其他的Tilted MLL的膜层数为Int(N/m+0.5)。 [0015] (5)对于第i个Tilted MLL，其膜层与入射光的夹角θi使得该Tilted MLL中膜层编号为最中间的相邻两个膜层满足Bragg条件。夹角θi可由Bragg公式得到，2[2d(im)]sinθi＝λ，式中im为该Tilted MLL中最中间膜层的编号，im＝(if+il)/2,if和il分别是该Tilted MLL第一层和最后一层的编号，d(im)为编号为im的膜层的厚度，其值由步骤(3)所给出。 [0016] (6)对于多倾斜角复合MLL中第1个Tilted MLL(最内层区域的Tilted MLL)，其1/2 第一层膜层(假设膜层编号为k)在出射面上的位置由波带片公式给定，xre(k)＝(kλf) ，在入射面上的位置xin(k)＝xre(k)+w×tan(θ1)，式中w是根据Wedge MLL计算得到的最佳深度，θ1是第1个Tilted MLL中膜层与入射光的夹角。第二层膜层在出射面上的位置为xre(k+1)＝xre(k)+d(k+1)/cos(θ1)，在入射面上的位置为xin(k+1)＝xin(k)+d(k+1)/cos(θ1)，后续膜层的位置以此类推。 [0017] (7)对于多倾斜角复合MLL中第2个Tilted MLL，其第一层膜层(假设膜层编号为p)在出射面上的位置，xre(p)＝xre(p-1)+d(p)/cos(θ1)，在入射面上的位置xin(p)＝xre(p)+w×tan(θ2)。第二层膜层在出射面上的位置为xre(p+1)＝xre(p)+d(p+1)/cos(θ2)，在入射面上的位置为xin(p+1)＝xin(p)+d(p+1)/cos(θ2)，后续膜层的位置以此类推。 [0018] (8)对于多倾斜角复合MLL中第2个以后的Tilted MLL，其膜层位置的推导与第2个Tilted MLL相同。 [0019] (9)根据二分法的原则，首先计算多倾斜角复合MLL由2个(21)Tilted MLL构成1 时的情形。具体来说即先将m＝2代入步骤(4)、(5)、(6)、(7)及(8)中得到多倾斜角复合MLL的具体结构参数，再运用TTD或者CWT计算在最佳深度处的波前分布，然后再运用菲涅尔-基尔霍夫衍射积分计算焦点附近的光强分布以及焦点附近的最强峰值；判断焦点附近的光强分布图是否有明显的干涉条纹，判断Strehl Ratio是否大于0.8，这儿Strehl Ratio指的是多倾斜角复合MLL的最强峰值与Wedge MLL最强峰值(由步骤(2)计算得到)的比值。如果焦点附近具有明显的干涉条纹且Strehl Ratio<0.8，则依次计算多倾斜角复 2 3 4 j 合MLL由2、2、2、……、2、……个Tilted MLL构成时的情形。如果当多倾斜角复合MLLj 由2个Tilted MLL构成时，焦点附近没有明显的干涉条纹且Strehl Ratio>0.8，则停止计j 算。此时多倾斜角复合MLL由2个Tilted MLL构成，其每一层膜层在入射面和出射面的l 位置参数可以由前述的步骤所得到。这儿需要指出的是根据二分法的原则m通常等于2(l＝1,2,3,……)，但是这并不是绝对的，其可以取任意正整数值，只要满足本步骤的中要求即可，即焦点附近的光强分布图是否有明显的干涉条纹，Strehl Ratio是否大于0.8。 [0020] (10)根据步骤(9)的计算结果，运用CWT或者TTD计算由2j个Tilted MLL构成的多倾斜角复合MLL在不同深度下的衍射效率，得到新的最佳深度值。计算在最佳深度时出射面上的波前分布，运用菲涅尔-基尔霍夫衍射积分计算焦点附近的光强分布和焦点附近的最强峰值，得到该多倾斜角复合MLL所对应的效率、聚焦分辨率以及Strehl Ratio。 [0021] 与现有技术相比，本发明具有以下的优点： [0022] 1，在物理口径相同的情况下，与单个Tilted MLL相比，多倾斜角复合MLL在实现衍射极限聚焦时具有更高的效率。 [0023] 2，与Wedge MLL相比，由于多倾斜角复合MLL只有很少的几层膜层具有不同的倾斜角，因此能极大的降低工艺难度，同时又具有与Wedge MLL相似的效率。附图说明 [0024] 图1为本发明的结构示意图； [0025] 图2为单个Tilted MLL、Wedge MLL以及多倾斜角复合MLL在实现衍射极限聚焦时出射面上的衍射效率分布图。 [0026] 图3为不同MLL在实现衍射极限聚焦时焦点附近的强度分布图，z沿着入射光方向，x垂直于入射光方向；其中图(a)为单个Tilted MLL、图(b)单个Wedge MLL、图(c)为多倾斜角复合MLL。 [0027] 图4为单个Tilted MLL、Wedge MLL以及多倾斜角复合MLL在实现衍射极限聚焦时在最佳焦平面上的光强分布曲线，x垂直于入射光方向。 [0028] 图5为不同MLL构成多倾斜角复合MLL在焦点附近的强度分布图，z沿着入射光方向，x垂直于入射光方向；其中，图(a)由2个Tilted MLL构成、(b)由4个Tilted MLL构成、图(c)由8个Tilted MLL构成。 [0029] 其中，1、2和3分别为多倾斜角复合MLL中第1个、第2个及第3个Tilted MLL；4和5分别为第1个Tilted MLL中第一层膜层在入射面和出射面上的位置；6和7分别为第2个Tilted MLL中第一层膜层在入射面和出射面上的位置；8为入射X射线。具体实施方式 [0030] 下面结合附图和实施例对本发明进行详细说明。 [0031] 实施例： [0032] 1，假定入射X射线能量为12.0keV，要求的衍射极限聚焦分辨率为10nm，根据镀膜的能力，选定焦距f为4mm，此时膜层总厚度约41.3微米；根据镀膜的精度以及工作距离，选定最外层膜层厚度为4nm，其膜层编号为6458，最内层膜层厚度为20nm，膜层编号为258，总的膜层数N为6200层。 [0033] 2，运用TTD计算Wedge MLL在不同深度下的衍射效率，得到最佳深度值约12微米。其衍射效率分布如图2所示，总的效率约47.06％，焦点附近强度分布如图3所示，最佳焦平面上的光强分布曲线如图4所示，最强峰值约1944。 [0034] 3，根据波带片公式计算Flat MLL中每一个膜层的厚度。 [0035] 4，首先假设多倾斜角复合MLL由2个Tilted MLL构成，每个Tilted MLL的膜层数为3100层。第1个Tilted MLL中膜层与入射X光的夹角为3.42mrad，其第1、2层膜层在入射面上的位置分别为10.36699、10.38698微米，在出射面上的位置分别为10.32599、10.34599微米；第2个Tilted MLL中膜层与入射光的夹角为5.63mrad，其第1、2层膜层在入射面上的位置分别为37.32636、37.33191微米，在出射面上的位置分别为37.25881、 37.26435微米。运用CWT计算得到在最佳深度12微米处出射面上的波前分布，在运用菲涅尔-基尔霍夫衍射积分计算焦点附近的光强分布和焦点附近的最强峰值，焦点附近光强分布如图5所示，最强峰值约422.5，从图5可以看出焦点附近存在明显的干涉条纹，且Strehl Ratio约为0.217。因此2个Tilted MLL构成的多倾斜角复合MLL不满足要求。 [0036] 5，继续计算多倾斜角复合MLL由4个Tilted MLL构成时的情形，每个Tilted MLL的膜层数为1550层。第1个Tilted MLL中膜层与入射X光的夹角为2.58mrad，其第1、2层膜层在入射面上的位置分别为10.35698、10.37697微米，在出射面上的位置分别为10.32599、10.34599微米；第2个Tilted MLL中膜层与入射光的夹角为4.08mrad，其第1、2层膜层在入射面上的位置分别为27.39176、27.39932微米，在出射面上的位置分别为27.34276、27.35031微米；第3个Tilted MLL中膜层与入射光的夹角为5.17mrad，其第1、2层膜层在入射面上的位置分别为37.32078、37.32633微米，在出射面上的位置分别为37.25879、37.26434微米；第4个Tilted MLL中膜层与入射光的夹角为6.06mrad，其第1、2层膜层在入射面上的位置分别为45.11504、45.11963微米，在出射面上的位置分别为 45.04235、45.04693微米。其焦点附近光强分布如图5所示，最强峰值约848.7，从图5可以看出焦点附近存在明显的干涉条纹，且Strehl Ratio约为0.437。因此4个Tilted MLL构成的多倾斜角复合MLL不满足要求。 [0037] 6，继续计算多倾斜角复合MLL由8个Tilted MLL构成时的情形，前7个Tilted MLL的膜层数为776层，最后一个Tilted MLL的膜层数为768层。第1个Tilted MLL中膜层与入射X光的夹角为2.04mrad，其第1、2层膜层在入射面上的位置分别为10.35049、10.37049微米，在出射面上的位置分别为10.32599、10.34599微米；第8个Tilted MLL中膜层与入射X光的夹角为6.23mrad，其第1、2层膜层在入射面上的位置分别为48.57265、 48.57691微米，在出射面上的位置分别为48.49747、48.50173微米。其焦点附近光强分布如图5所示，最强峰值约1328，从图5可以看出焦点附近存着一定的干涉条纹，且Strehl Ratio约为0.683。因此8个Tilted MLL构成的多倾斜角复合MLL不是太满足要求。 [0038] 7，继续计算多倾斜角复合MLL由16个Tilted MLL构成时的情形，前15个Tilted MLL的膜层数为388层，最后一个Tilted MLL的膜层数为380层。第1个Tilted MLL中膜层与入射X光的夹角为1.71mrad，其第1、2层膜层在入射面上的位置分别为10.34648、10.36648微米，在出射面上的位置分别为10.32599、10.34599微米；第16个Tilted MLL中膜层与入射X光的夹角为6.36mrad，其第1、2层膜层在入射面上的位置分别为50.19983、 50.20395微米，在出射面上的位置分别为50.12346、50.12758微米。其焦点附近光强分布如图3所示，最强峰值约1746，从图3可以看出焦点附近基本不存在干涉条纹，且Strehl Ratio约为0.898。因此由16个Tilted MLL构成的多倾斜角复合MLL满足要求。 [0039] 8，重新计算由16个Tilted MLL构成的多倾斜角复合MLL的最佳深度，仍然是12微米。 [0040] 9，单个Tilted MLL、Wedge MLL以及由16个Tilted MLL构成的多倾斜角复合MLL在实现衍射极限聚焦时出射面上的衍射效率分布、焦点附近的强度分布以及最佳焦平面上的光强分布分别如图2、3及4所示，这儿单个Tilted MLL在实现具有最大效率的衍射极限聚焦时，深度为5微米，倾斜角为4.85mrad。从图中可以看出，在实现衍射极限聚焦时，多倾斜角复合MLL具有远高于单个Tilted MLL的衍射效率和聚焦光斑峰值强度，其聚焦性能接近于Wedge MLL，同时又具有更简单的结构，能极大的降低工艺难度。 [0041] 本申请并不局限于本发明详细记载的实施例，本领域技术人员可以对此做出各种修改，例如改变焦距、聚焦分辨率等，但是只要这些修改不背离本发明的精神和意图，仍在本发明的保护范围内。

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