1.一种反射器，包括：配置成反射第一波长的辐射的多层反射镜结构，和一个或更多个附加层，多层反射镜结构和所述一个或更多个附加层在第二波长条件下的吸收率和折射系数以及多层反射镜结构和所述一个或更多个附加层的厚度，配置成使得从反射器的表面反射的第二波长的辐射以相消方式与从反射器内反射的第二波长辐射干涉。
2.如权利要求1所述的反射器，其中所述一个或更多个附加层包括基底，其中所述一个或更多个附加层还包括位于基底和多层反射镜结构中间的金属层，并且其中金属层厚度大于金属对于第二波长辐射的集肤深度。
3.如权利要求1或2所述反射器，其中所述一个或更多个附加层包括基底，其中所述一个或更多个附加层还包括位于基底和多层反射镜结构中间的吸收层，所述吸收层配置成吸收第二波长的辐射。
4.如权利要求3所述的反射器，其中所述一个或更多个附加层包括基底，其中所述一个或更多个附加层还包括位于基底和多层反射镜结构中间的金属层，其中吸收层在金属层和多层反射镜结构中间。
5.如权利要求1所述的反射器，其中所述一个或更多个附加层包括基底，并且在第二波长条件下基底的折射系数与多层反射镜结构在第二波长条件下的折射系数不同。
6.如前述权利要求任一项所述的反射器，其中多层反射镜结构包括n型硅和类金刚石碳的交替层。
7.一种反射器，包括配置成反射第一波长的辐射的多层反射镜结构，和一个或更多个附加层，
其中多层反射镜结构和所述一个或更多个附加层在第二波长条件下的吸收率和折射系数以及多层反射镜结构和所述一个或更多个附加层的厚度，配置成使得当多层反射镜结构接收碎片材料层时，从反射器的表面反射的第二波长的辐射以相消方式与从反射器内反射的第二波长辐射干涉，所述碎片材料层限定反射器的表面。
8.如权利要求7所述的反射器，其中在使用中碎片材料层的厚度将随着时间而增加，并且其中多层反射镜结构和所述一个或更多个附加层在第二波长条件下的吸收率和折射系数以及多层反射镜结构和所述一个或更多个附加层的厚度，配置成使得，当多层反射镜结构接收特定厚度的碎片材料层时，被从反射器表面反射的第二波长的辐射以相消的方式与从反射器内反射的第二波长的辐射干涉。
9.如权利要求7或8所述的反射器，其中反射器配置成使得反射器的第二波长的辐射的反射率随着碎片层厚度增加而通过最小反射率，其中最小反射率在当碎片层具有特定厚度时出现。
10.如权利要求7所述的反射器，其中在使用中碎片材料层的厚度将随时间而增大，并且其中反射器配置成使得包括多层反射镜结构在第二波长条件下的吸收率和折射系数、所述一个或更多个附加层在第二波长条件下的吸收率和折射系数、多层反射镜结构的厚度以及一个或更多个附加层的厚度的反射器的至少一个特性能够作为碎片层的厚度的函数随时间主动地改变，使得从反射器的表面反射的第二波长的辐射以相消方式与从反射器内部反射的第二波长的辐射干涉。
11.如权利要求10所述的反射器，其中反射器配置成使得反射器的温度能够被主动地改变以主动地改变反射器的所述至少一个特性。
12.如权利要求10或11所述的反射器，其中由在多层反射镜结构和所述一个或更多个附加层中的至少一个内的载流子浓度的改变引起反射器的所述至少一个特性的改变。
13.一种反射器，包括配置成反射第一波长的辐射的多层反射镜结构、配置成吸收第二波长的辐射的基底、以及多层反射镜结构和基底之间的抗反射层，所述抗反射层配置成促使第二波长的辐射从多层反射镜结构通至基底，
其中多层反射镜结构和抗反射层在第二波长条件下的吸收率和折射系数，以及多层反射镜结构和抗反射层的厚度配置成使得，当多层反射镜结构接收碎片材料层时，从反射器的表面反射的第二波长的辐射少于从没有碎片材料层的反射器的多层反射镜结构反射的辐射，所述碎片材料层限定反射器的表面。
14.一种光刻设备，具有配置成收集辐射的源收集器模块、配置成调节所述辐射的照射系统以及配置成将由所述辐射形成的辐射束投影到衬底上的投影系统，其中源收集器模块、照射系统和/或投影系统包括一个或更多个根据前述权利要求任一项所述的反射器。
15.一种光谱纯度滤光片，配置成反射极紫外辐射，所述光谱纯度滤光片包括：
基底；
在基底顶表面上的抗反射涂层，所述抗反射涂层配置成透射红外辐射；和多层叠层，配置成反射极紫外辐射和基本上透射红外辐射，所述多层叠层包括硅和类金刚石碳的交替层，其中所述硅是掺杂的硅和/或所述类金刚石碳是掺杂的类金刚石碳。