显示体、转印箔及带显示体的物品 |
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| 申请号 | CN201280060402.X | 申请日 | 2012-12-05 | 公开(公告)号 | CN103988100B | 公开(公告)日 | 2016-08-17 |
| 申请人 | 凸版印刷株式会社; | 发明人 | 久保章; 泽村力; 屋铺一寻; | ||||
| 摘要 | 本 发明 所涉及的显示体具备多个 像素 。多个像素中的至少1个具备起伏构造形成层、第1层和第2层，所述起伏构造形成层包含按照在从与显示体主面的法线交叉的斜方向上观察的条件下显示规定 颜色 的方式构成的第1区域、和与第1区域不同的第2区域；所述第1层由折射率与所述起伏构造形成层的材料不同的第1材料构成，且至少 覆盖 第1区域；所述第2层由与第1材料不同的第2材料构成，且覆盖第1层。显示体在从斜方向观察的条件下显示基于第1区域的分布的图像，并且在通过 透射光 观察所述显示体的条件下显示基于第2区域的分布的图像。 | ||||||
| 权利要求 | 1.一种显示体，其为具备多个像素的显示体， |
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| 说明书全文 | 显示体、转印箔及带显示体的物品技术领域[0001] 本发明涉及例如提供防伪造效果、装饰效果及/或美观效果的光学技术。 背景技术[0003] 这样的显示体大多含有衍射光栅、全息图及透镜阵列等微细构造。这些微细构造例如随着观察角度的变化而发生颜色的变化。另外，这些微细构造难以进行解析及伪造。因此，这样的显示体可发挥较高的防伪造效果。 [0005] 现有技术文献 [0007] 专利文献1:日本特开平8-211821号公报 发明内容[0008] 发明所要解决的问题 [0009] 但是，由于现在全息图制作技术得到普及，上述显示体的防伪造效果正在减小。 [0010] 因而，本发明的目的在于实现更高的防伪造效果。 [0011] 用于解决问题的手段 [0012] 根据本发明的第1方面，提供一种显示体，其为具备多个像素的显示体，所述多个像素中的至少1个具备起伏构造形成层、第1层和第2层，所述起伏构造形成层包含含有至少1个亚区域的由多个凹部或凸部构成的第1区域、和与所述第1区域不同的第2区域，所述第1区域按照在从与所述显示体主面的法线交叉的斜方向上观察的条件下显示规定颜色的方式构成；所述第1层由折射率与所述起伏构造形成层的材料不同的第1材料构成，且至少覆盖所述第1区域，对应于所述第1区域的部分具有与所述第1区域的表面形状相对应的表面形状，所述第2区域位置中的所述第1材料的量相对于所述第2区域表观面积的比为0，或者比所述第1区域位置中的所述第1材料的量相对于所述第1区域表观面积的比更小；所述第2层由与所述第1材料不同的第2材料构成，且覆盖所述第1层，所述第2区域位置中的所述第2材料的量相对于所述第2区域表观面积的比为0，或者比所述第1区域位置中的所述第2材料的量相对于所述第1区域表观面积的比更小；所述显示体在从所述斜方向观察的条件下显示基于所述第1区域的分布的图像，并且在通过透射光观察所述显示体的条件下显示基于所述第2区域的分布的图像。 [0013] 根据本发明的第2方面，提供一种转印箔，其具备第1方面所述的显示体、和以可剥离的方式支撑所述显示体的支撑体层。 [0014] 根据本发明的第3方面，提供一种带显示体的物品，其具备第1方面所述的显示体、和支撑该显示体的物品。 [0015] 发明效果 [0017] 图1是概略地表示本发明第1实施方式的显示体的俯视图。 [0018] 图2是放大表示图1所示显示体的一部分的俯视图。 [0019] 图3是表示构成图1及图2所示显示体的像素的一例的俯视图。 [0020] 图4是沿着图3所示像素的IV-IV线的剖视图。 [0021] 图5是概略地表示显示体100的制造方法的剖视图。 [0022] 图6是概略地表示显示体100的制造方法的剖视图。 [0023] 图7是概略地表示显示体100的制造方法的剖视图。 [0024] 图8是概略地表示显示体100的制造方法的剖视图。 [0025] 图9是放大表示可作为图3及图4所示的第2区域R2中设置的多个凹部或凸部而采用的构造的一例的立体图。 [0026] 图10是表示构成图1及图2所示显示体的像素的另一例子的俯视图。 [0027] 图11是表示构成图1及图2所示显示体的像素的另一例子的俯视图。 [0028] 图12是表示从斜方向上观察图1及图2所示显示体的状态的立体图。 [0029] 图13是放大表示本实施方式的转印箔的剖视图。 [0030] 图14是概略地表示本实施方式的带显示体的物品的俯视图。 [0031] 图15是放大表示本发明第2实施方式的显示体的一部分的俯视图。 [0032] 图16是表示构成图15所示显示体的像素的一例的俯视图。 [0033] 图17是表示构成图15所示显示体的像素的一例的俯视图。 [0034] 图18是沿着图2所示像素A-A线的剖视图。 [0035] 图19是概略地表示显示体200的制造方法的剖视图。 [0036] 图20是概略地表示显示体200的制造方法的剖视图。 [0037] 图21是概略地表示显示体200的制造方法的剖视图。 [0038] 图22是概略地表示显示体200的制造方法的剖视图。 [0039] 图23是表示构成图15所示显示体的像素的另一例子的俯视图。 [0040] 图24是表示构成图15所示显示体的像素的另一例子的俯视图。 [0041] 图25是表示本实施方式的显示体的一例的概略图。 [0042] 图26是表示本实施方式的显示体的一例的概略图。 [0043] 图27是表示本实施方式的显示体的一例的概略图。 [0044] 图28是概略地表示光散射区域的一例的俯视图。 具体实施方式[0045] 以下，一边参照附图一边详细地说明本发明的各实施方式。其中，各图中对发挥相同或类似功能的构成要素标记相同的参照符号，省略重复的说明。 [0046] (第1实施方式) [0047] 首先，对本发明的第1实施方式进行说明。图1是概略地表示本实施方式的显示体的俯视图。图2为放大表示图1所示显示体的一部分的俯视图。图1及图2中，将与显示体100的主面平行且相互垂直的轴规定为X轴及Y轴，将与显示体100的主面垂直的轴规定为Z轴。 [0048] 图1所示的显示体100如图2所示，含有多个像素PE。图2所示的例子中，这些像素PE沿着X轴及Y轴排列成矩形格子状。 [0049] 图3是表示构成图1及图2所示显示体的像素的一例的俯视图。图4是沿着图3所示像素的IV-IV线的剖视图。 [0050] 如图3所示，像素PE具备红色显示用像素PER、绿色显示用像素PEG和蓝色显示用像素PEB。这些像素PER、PEG及PEB典型地面积相互相等。 [0051] 红色显示用像素PER具备第1亚区域SR1和第2区域R2。其中，该第1亚区域SR1按照在从与显示体100主面的法线交叉的斜方向上观察的条件(以下仅表述为从斜方向上观察的条件)下显示红色的方式构成。即，第1亚区域SR1具备按照在从斜方向上观察的条件下射出对应于红色的波长的衍射光的方式构成的多个凹部或凸部。 [0052] 绿色显示用像素PEG具备第2亚区域SR2和第2区域R2。其中，该第2亚区域SR2按照在从斜方向上观察的条件下显示绿色的方式构成。即，第2亚区域SR2具备按照在从斜方向上观察的条件下射出对应于绿色的波长的衍射光的方式构成的多个凹部或凸部。 [0053] 蓝色显示用像素PEB具备第3亚区域SR3和第2区域R2。其中，该第3亚区域SR3按照在从斜方向上观察的条件下显示蓝色的方式构成。即，第3亚区域SR3具备按照在从斜方向上观察的条件下射出对应于蓝色的波长的衍射光的方式构成的多个凹部或凸部。 [0054] 此外，以下的说明中，将包含第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3的区域方便地称为第1区域。 [0055] 如图4所示，像素PE具备起伏构造形成层110、第1层120′和第2层130′。 [0056] 起伏构造形成层110的一个主面上设有起伏构造。第1层120′将起伏构造形成层110的上述的主面部分地覆盖。第2层130′将第1层120′覆盖。此外，对该像素PE的构造等在后面详细地进行说明。 [0057] 接着，一边参照图5～图8，一边对显示体100(构成显示体100的像素PE)的制造方法进行说明。 [0058] 图5～图8为概略地表示显示体100的制造方法的剖视图。该方法中首先如图5所示，准备具有含有相互邻接的第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2、第3亚区域SR3)及第2区域R2的主面的起伏构造形成层110。 [0059] 第1亚区域SR1、第2亚区域SR2、第3亚区域SR3设置成凹构造及/或凸构造。凹构造及凸构造分别由多个凹部及多个凸部构成。这些凹部或凸部例如配置成条纹状。这些凹部或凸部典型地在用白色光进行照明时形成射出衍射光的衍射光栅或全息图。 [0060] 垂直于这些多个凹部或凸部的长度方向的截面的形状例如设定为V字形状及U字形状等逐渐变细形状或者设定为矩形形状。图5作为一例描述了上述截面形状为V字形状的情况。 [0061] 设置于第1亚区域SR1的多个凹部或凸部的中心间距离设定为860nm～880nm的范围内。设置于第2亚区域SR2的多个凹部或凸部的中心间距离设定为755nm～775nm的范围内。设置于第3亚区域SR3的多个凹部或凸部的中心间距离设定为735nm～755nm的范围内。 [0062] 另外，这些多个凹部或凸部的深度或高度相对于中心间距离之比的平均值例如设定为0.5以下，典型地设定为0.05～0.3的范围内。 [0063] 其中，这里所谓“中心间距离”是指相邻凹部间的距离或相邻凸部间的距离。 [0064] 第2区域R2设有凹构造及/或凸构造。这些凹构造及凸构造分别由多个凹部及多个凸部构成。这些多个凹部或凸部具备被二维地配置、并且分别具有正锥形形状的多个凹部或凸部。 [0065] 第2区域R2与第1区域R1相比，表面积相对于表观面积之比更大。其中，区域的“表观面积”是指该区域在平行于该区域的平面上的正投影的面积，即忽略凹构造及凸构造的该区域的面积。另外，区域的“表面积”是指考虑了凹构造及凸构造的该区域的面积。 [0066] 第2区域R2的多个凹部或凸部典型地与第1区域的多个凹部或凸部相比，凹部或凸部的深度或高度相对于凹部或凸部的中心间距离之比的平均值更大。图5所示的例子中，第2区域R2中设置的多个凹部或凸部与第1亚区域SR1、第2亚区域SR2、第3亚区域SR3中设置的多个凹部或凸部相比，深度或高度相对于中心间距离之比更大。 [0067] 第2区域R2中设置的凹部或凸部的中心间距离设定为100nm～500nm的范围内。 [0068] 另外，第2区域R2中设置的多个凹部或凸部的深度或高度相对于凹部或凸部的中心间距离之比的平均值与第1区域中设置的多个凹部或凸部的深度或高度相对于凹部或凸部的中心间距离之比的平均值相比，更大。第2区域R2中设置的多个凹部或凸部的深度或高度相对于凹部或凸部的中心间距离之比的平均值例如为0.8～2.0的范围内、典型地为0.8～1.2的范围内。该值过大时，有时起伏构造形成层110的生产率降低。 [0069] 起伏构造形成层110例如可通过将设有微细凸部的模具按压至树脂来形成。此时，这些凸部的形状设定为与设置于第1区域及第2区域R2两者的凹部的形状相对应的形状。 [0070] 起伏构造形成层110例如通过以下方法形成：在基材上涂布热塑性树脂，一边施加热一边在其上按压设有上述凸部的原版的方法。此时，作为上述热塑性树脂，例如使用丙烯酸系树脂、环氧系树脂、纤维素系树脂、乙烯基系树脂、它们的混合物或它们的共聚物。 [0071] 或者，起伏构造形成层110还可通过以下方法形成：在基材上涂布热固性树脂层，在其上一边按压设有上述凸部的原版一边施加热，之后将原版去除的方法。此时，作为热固性树脂，例如使用聚氨酯树脂、三聚氰胺系树脂、环氧树脂、酚醛系树脂、它们的混合物或它们的共聚物。其中，该聚氨酯树脂例如通过在具有反应性羟基的丙烯酸多元醇及聚酯多元醇等中添加聚异氰酸酯作为交联剂，使它们交联，从而获得。 [0072] 或者，起伏构造形成层110还可通过以下方法形成：在基材上涂布放射线固化树脂，在其上一边按压原版一边照射紫外线等放射线，使上述材料固化，之后将原版去除的方法。或者，起伏构造形成层110还可通过以下方法形成：在基材与原版之间流入上述组合物，照射放射线，使上述材料固化，之后将原版去除的方法。 [0073] 放射线固化树脂典型地含有聚合性化合物和引发剂。 [0074] 作为聚合性化合物，例如使用能够光自由基聚合的化合物。作为能够光自由基聚合的化合物，例如使用具有烯键式不饱和键或烯键式不饱和基团的单体、低聚物或聚合物。或者，作为能够光自由基聚合的化合物，还可使用1，6-己二醇、新戊二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇五丙烯酸酯及二季戊四醇六丙烯酸酯等单体，环氧丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯及聚酯丙烯酸酯等低聚物或氨基甲酸酯改性丙烯酸树脂及环氧改性丙烯酸树脂等聚合物。 [0075] 作为聚合性化合物使用能够光自由基聚合的化合物时，作为引发剂使用光自由基聚合引发剂。作为该光自由基聚合引发剂，例如使用苯偶姻、苯偶姻甲基醚及苯偶姻乙基醚等苯偶姻系化合物，蒽醌及甲基蒽醌等蒽醌系化合物，苯乙酮、二乙氧基苯乙酮、苯甲酮、羟基苯乙酮、1-羟基环己基苯基酮、α-氨基苯乙酮及2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-吗啉代丙烷-1-酮等苯基酮系化合物，苄基二甲基缩酮、噻吨酮、酰基氧化膦或米蚩酮。 [0077] 作为聚合性化合物使用能够光阳离子聚合的化合物时，作为引发剂使用光阳离子聚合引发剂。作为该光阳离子聚合引发剂，例如使用芳香族重氮鎓盐、芳香族碘鎓盐、芳香族锍盐、芳香族鏻盐或混合配位基金属盐。 [0078] 或者，作为聚合性化合物还可使用能够光自由基聚合的化合物与能够光阳离子聚合的化合物的混合物。此时，作为引发剂例如使用光自由基聚合引发剂和光阳离子聚合引发剂的混合物。或者，此时还可使用能够作为光自由基聚合及光阳离子聚合的两者的引发剂发挥作用的聚合引发剂。作为这样的引发剂，例如使用芳香族碘鎓盐或芳香族锍盐。 [0079] 此外，引发剂占放射线固化树脂的比例例如设定为0.1～15质量％的范围内。 [0080] 放射线固化树脂还可进一步含有增感色素、染料、颜料、聚合抑制剂、流平剂、消泡剂、防下垂剂、附着提高剂、涂面改性剂、增塑剂、含氮化合物、环氧树脂等交联剂、脱模剂或它们的组合。另外，放射线固化树脂中为了提高其成型性，还可进一步含有非反应性的树脂。作为该非反应性的树脂，可以使用上述热塑性树脂及/或热固性树脂。 [0081] 起伏构造形成层110的形成中使用的上述原版例如使用电子束描绘装置或纳米压印装置进行制造。这样，能够以高精度形成上述多个凹部或凸部。此外，通常将原版的凹凸构造转印来制造反转版，将该反转版的凹凸构造转印来制造复制版。然后，根据需要将复制版用作原版来制造反转版，将该反转版的凹凸构造转印，进一步制造复制版。在实际的制造中，通常使用如此获得的复制版。 [0082] 起伏构造形成层110典型地含有基材和形成于其上的树脂层。作为该基材，典型地使用膜基材。作为该膜基材，例如使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)膜及聚丙烯(PP)膜等塑料膜。或者，作为基材，还可使用纸、合成纸、塑料复层纸或树脂含浸纸。此外，基材还可省略。 [0083] 树脂层例如通过上述方法来形成。树脂层的厚度例如设定为0.1μm～10μm的范围内。该厚度过大时，容易发生因加工时的加压等所导致的树脂的渗出及/或皱褶的形成。该厚度过小时，有时难以形成所需的凹构造及/或凸构造。另外，树脂层的厚度与要设置于其主面的凹部或凸部的深度或高度相等或比其大。该厚度例如设定为凹部或凸部的深度或高度的1～10倍的范围内、典型地设定为其3～5倍的范围内。 [0084] 此外，起伏构造形成层110的形成例如可使用日本专利第4194073号公报所公开的“压接法”、日本实用新型注册第2524092号公报所公开的“流延法”或日本特开2007-118563号公报所公开的“光聚合物法”进行。 [0085] 接着，如图6所示，将折射率与起伏构造形成层110的材料不同的第1材料相对于第1区域及第2区域R2的整体进行气相沉积。由此，在起伏构造形成层110的包含第1亚区域SR1、第2亚区域SR2、第3亚区域SR3及第2区域R2的主面上形成反射材料层120。 [0086] 作为该第1材料，例如使用折射率与起伏构造形成层110的材料的折射率之差为0.2以上的材料。该差很小时，有时起伏构造形成层110与后述第1层120′的界面上的反射难以发生。另外，可以使用金属材料。 [0087] 作为第1材料，典型地使用从Al、Sn、Cr、Ni、Cu、Au、Ag及它们的合金中选择的至少1种金属材料。 [0088] 或者，作为透明性较高的第1材料，还可使用以下所列举的陶瓷材料或有机聚合物材料。其中，以下所示的化学式或化合物名后面记载的括号内的数值是指各材料的折射率。 [0089] 即，作为陶瓷材料，例如可使用Sb2O3(3.0)、Fe2O3(2.7)、TiO2(2.6)、CdS(2.6)、CeO2(2.3)、ZnS(2.3)、PbCl2(2.3)、CdO(2.2)、Sb2O3(5)、WO3(5)、SiO(5)、Si2O3(2.5)、In2O3(2.0)、PbO(2.6)、Ta2O3(2.4)、ZnO(2.1)、ZrO2(5)、MgO(1)、SiO2(1.45)、Si2O2(10)、MgF2(4)、CeF3(1)、CaF2(1.3～1.4)、AlF3(1)、Al2O3(1)或GaO(2)。 [0090] 作为有机聚合物材料，例如可使用聚乙烯(1.51)、聚丙烯(1.49)、聚四氟乙烯(1.35)、聚甲基丙烯酸甲酯(1.49)或聚苯乙烯(1.60)。 [0092] 该气相沉积对于与起伏构造形成层110的主面平行的面内方向以均匀的密度进行。具体地说，该气相沉积按照第1区域位置中的第1材料的量相对于第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)的表观面积的比与第2区域R2位置中的第1材料的量相对于第2区域R2的表观面积的比相互相等的方式进行。 [0093] 另外，该气相沉积中，典型地将假设当起伏构造形成层110的主面仅由平坦面构成时的膜厚(以下称作设定膜厚)规定如下。即，该设定膜厚按照反射材料层120满足以下要件的方式来规定。 [0094] 第1，反射材料层120中对应于第1区域的部分设定为具有与第1区域表面形状相对应的表面形状。图6所示的例子中，该部分形成具有与第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3中设置的多个凹部或凸部相对应的表面形状的连续膜。 [0095] 第2，反射材料层120中对应于第2区域R2的部分设定为具有与第2区域R2表面形状相对应的表面形状，或者设定为对应于第2区域R2中设置的多个凹部或凸部的配置而部分地开口。图6中作为一例描绘了前者的情况。即，在图6所示的例子中，该部分形成具有与第2区域R2中设置的多个凹部或凸部相对应的表面形状的连续膜。 [0096] 此外，如上所述，第2区域R2与第1区域相比，表面积相对于表观面积之比更大。因此，按照反射材料层120具有与第1亚区域SR1、第2亚区域SR2、第3亚区域SR3及第2区域R2的表面形状相对应的表面形状的方式来规定上述设定膜厚时，反射材料层120中对应于第2区域R2的部分与对应于第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3的部分相比，平均膜厚变得更小。 [0097] 其中，这里层的“平均膜厚”是指该层的一个面上的各点与垂至该层另一个面的垂线的垂足之间的距离的平均值。 [0098] 另外，通过将上述的设定膜厚规定为更小的值，可以形成在对应于第1区域的部分中具有与第1区域的表面形状相对应的表面形状、且在对应于第2区域R2的部分中对应多个凹部或凸部的配置而部分地开口的反射材料层120。 [0099] 反射材料层120的设定膜厚典型地与第2区域R2中设置的多个凹部或凸部的深度或高度相比设定为更小。另外，该设定膜厚典型地与第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)中设置的多个凹部或凸部的深度或高度相比设定为更小。 [0100] 具体地说，反射材料层120的设定膜厚例如设定为5nm～500nm的范围内、典型地设定为30nm～300nm的范围内。该设定膜厚过小时，有时起伏构造形成层110与后述第1层120′的界面上的反射难以发生。该设定膜厚过大时，有时难以按照满足上述要件的方式形成反射材料层120。 [0101] 反射材料层120中对应于第1区域的部分的平均膜厚例如设定为5nm～500nm的范围内、典型地设定为30nm～300nm的范围内。该平均膜厚过小时，有时起伏构造形成层110与后述第1层120′的界面上的反射难以发生。该平均膜厚过大时，有时显示体100的生产率降低。 [0102] 接着，如图7所示，将与反射材料层120的材料不同的第2材料相对于反射材料层120气相沉积。由此，以中间夹持反射材料层120的方式形成与起伏构造形成层110相面对的掩模层130。 [0103] 作为该第2材料，典型地使用无机物。作为该无机物，例如可举出MgF2、Sn、Cr、ZnS、ZnO、Ni、Cu、Au、Ag、TiO2、MgO、SiO2及Al2O3。特别是作为第2材料使用MgF2时，可以进一步提高掩模层130及第2层130′对基材的弯曲或冲击的随动性及耐擦伤性。 [0104] 或者，作为该第2材料还可使用有机物。作为该有机物，例如使用重均分子量为1500以下的有机物。作为这样的有机物，例如还可使用将丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯等聚合性化合物与引发剂混合、与放射线固化树脂气相沉积之后，通过放射线照射使其聚合而成的有机物。 [0105] 或者，作为第2材料还可使用金属烷氧化物。或者，作为第2材料还可使用将金属烷氧化物气相沉积之后使其聚合而成的材料。此时，在气相沉积之后、使其聚合之前，还可进行干燥处理。 [0106] 第2材料的气相沉积例如使用真空蒸镀法、溅射法或CVD法进行。 [0107] 该气相沉积对于平行于起伏构造形成层110主面的面内方向以均匀的密度进行。具体地说，该气相沉积按照第1区域位置中的第2材料的量相对于第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)表观面积的比与第2区域R2位置中的第2材料的量相对于第 2区域R2表观面积的比相互相等的方式进行。 [0108] 另外，该气相沉积中，如下规定掩模层130的设定膜厚。即，该设定膜厚按照掩模层130满足以下要件的方式来规定。 [0109] 第1，掩模层130中对应于第1区域的部分设定为具有与第1区域表面形状相对应的表面形状。图7所示的例子中，该部分形成具有与第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3中设置的多个凹部或凸部相对应的表面形状的连续膜。 [0110] 第2，掩模层130中对应于第2区域R2的部分设定为具有与第2区域R2表面形状相对应的表面形状，或者设定为对应于第2区域R2中设置的多个凹部或凸部的配置而部分地开口。图7中作为一例描绘了后者的情况。即，在图7所示的例子中，该部分在反射材料层120上形成对应于第2区域R2中设置的多个凹部或凸部的配置而部分地开口的不连续膜。 [0111] 此外，如上所述，第2区域R2与第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)相比，表面积相对于表观面积之比更大。因此，按照掩模层130具有与第1亚区域SR1、第2亚区域SR2、第3亚区域SR3及第2区域R2的表面形状相对应的表面形状的方式来规定上述设定膜厚时，掩模层130中对应于第2区域R2的部分与对应于第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)的部分相比，平均膜厚变得更小。 [0112] 另外，通过将上述的设定膜厚规定为更小的值，可以形成在对应于第1区域的部分中具有与第1区域的表面形状相对应的表面形状，且在对应于第2区域R2的部分中对应多个凹部或凸部的配置而部分地开口的掩模层130。 [0113] 掩模层130的设定膜厚典型地与第2区域R2中设置的多个凹部或凸部的深度或高度相比设定为更小。另外，该设定膜厚典型地与第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)中设置的多个凹部或凸部的深度或高度相比设定为更小。而且，掩模层130的设定膜厚典型地与反射材料层120的设定膜厚相比设定为更小。 [0114] 具体地说，掩模层130的设定膜厚例如设定为0.3nm～200nm的范围内、典型地设定为3nm～80nm的范围内。该设定膜厚过小时，有时掩模层130中对应于第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)的部分的平均膜厚变得过小、反射材料层120中对应于第1区域的部分通过掩模层130产生的保护变得不足。该设定膜厚过大时，有时反射材料层120中对应于第2区域R2的部分通过掩模层130产生的保护变得过剩。 [0115] 掩模层130中对应于第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)的部分的平均膜厚典型地与反射材料层120中对应于第1区域的部分的平均膜厚相比设定为更小。 [0116] 掩模层130中对应于第1区域的部分的平均膜厚例如设定为0.3nm～200nm的范围内、典型地设定为3nm～80nm的范围内。当该平均膜厚过小时，有时反射材料层120中对应于第1区域的部分通过掩模层130产生的保护变得不足，在后述第1层120′中对应于第1区域的部分的平均膜厚变得过小。该设定膜厚过大时，有时反射材料层120中对应于第2区域R2的部分通过掩模层130产生的保护变得过剩。 [0117] 接着，将掩模层130暴露于能够与反射材料层120的材料发生反应的反应性气体或液体。然后，在至少第2区域R2的位置上，发生与反射材料层120的材料的上述反应。 [0118] 这里，作为反应性气体或液体，对使用能够溶解反射材料层120的材料的腐蚀液的情况进行说明。作为该腐蚀液，典型地使用氢氧化钠溶液、碳酸钠溶液及氢氧化钾溶液等碱性溶液。或者，作为腐蚀液，还可使用盐酸、硝酸、硫酸及醋酸等酸性溶液。 [0119] 如图7所示，掩模层130中对应于第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)的部分形成连续膜，与此相对，对应于第2区域R2的部分形成部分开口的不连续膜。反射材料层120中未被掩模层130覆盖的部分与反射材料层120中被掩模层130覆盖的部分相比，更易于与反应性气体或液体相接触。因此，前者与后者相比，更易于被腐蚀。 [0120] 另外，当将反射材料层120中未被掩模层130覆盖的部分除去时，反射材料层120中产生与掩模层130的开口相对应的开口。进一步继续进行腐蚀时，反射材料层120的腐蚀在各开口的位置上向面内方向进行。结果，在第2区域R2上，反射材料层120中支撑掩模层130的部分与其上的掩模层130一起被除去。 [0121] 因此，通过调整腐蚀液的浓度及温度以及腐蚀的处理时间等，如图8所示，可以仅将反射材料层120中对应于第2区域R2的部分除去。由此，可获得仅将第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3覆盖的第1层120′。 [0122] 如上所述，可获得由图3及图4所示像素PE构成的显示体100。通过上述方法获得的显示体100具有以下特征。 [0123] 第1层120′是反射层，典型地由上述第1材料构成。第1层120′在第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)及第2区域R2中，仅将第1区域覆盖。即，第1层120′仅设置在对应于第1区域的位置上。另外，第2区域R2位置中的第1材料的量相对于第2区域R2的表观面积的比为0。 [0124] 第1层120′具有与第1区域的表面形状相对应的表面形状。图3及图4所示的例子中，第1层120′具有与设置于第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3的多个凹部或凸部相对应的表面形状。这些第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3中设置的多个凹部或凸部典型地在用白色光进行照明时，在第1层120′的表面上形成射出衍射光的衍射光栅或全息图。此时，显示体100可以显示与在第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3中射出的衍射光相对应的颜色。 [0125] 具体地说，上述第1亚区域SR1按照在从斜方向上观察的条件下射出与红色相对应的波长的衍射光的方式来构成。第2亚区域SR2按照从斜方向上观察的条件下射出与绿色相对应的波长的衍射光的方式来构成。第3亚区域SR3按照从斜方向上观察的条件下射出与蓝色相对应的波长的衍射光的方式来构成。即，本实施方式所涉及的显示体100在从斜方向观察该显示体100的条件下，显示基于第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3(即第1区域)的分布的图像(全彩色正像)。因此，此时可以达成更为优异的防伪造效果及装饰效果。 [0126] 第1层120′的轮廓起伏构造形成层110在主面上的正投影的整体与第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)的轮廓重叠。即，第1层120′对应第1区域的形状进行图案形成。因此，通过以很高的位置精度预先形成第1区域及第2区域R2，可以获得以优异的位置精度形成的第1层120′。 [0127] 此外，在参照图5～图8的同时进行说明的方法中，反射材料层120中对应于第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)的部分被掩模层130覆盖。因此，即便是进行上述腐蚀处理时，该部分的膜厚也几乎不会减少或者完全不会减少。因此，第1层120′中对应于第1区域的部分的平均膜厚典型地与反射材料层120中对应于第1区域的部分的平均膜厚相等。即，该平均膜厚例如为5nm～500nm的范围内、典型地为30nm～300nm的范围内。 [0128] 此外，第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3与第2区域R2的边界距第1层120′轮廓的最短距离的最大值例如低于20μm、优选低于10μm、更优选低于3μm。 [0129] 第2层130′例如是利用气相沉积法形成的层。第2层130′将第1层120′覆盖。第2层130′在中间夹持第1层120′、仅与第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)及第2区域R2中的第1区域整体相面对。即，第1层120′的轮廓在起伏构造形成层110主面上的正投影的整体与第2层130′的轮廓在上述主面上的正投影重叠。另外，第2区域R2位置中的第2材料的量相对于第2区域R2表观面积的比为0。 [0130] 第2层130′中对应于第1区域的部分的平均膜厚与掩模层130中对应于第1区域的部分的平均膜厚相等或更小。该平均膜厚例如为0.3nm～200nm的范围内、典型地为3nm～80nm的范围内。 [0131] 第2层130′例如起到保护第1层120′的作用。另外，当设置第2层130′时，与第2层130′不存在的情况相比，可以使显示体100的伪造更为困难。 [0132] 如上所述本实施方式的显示体100中，通过对第2区域R2(即表现RGB的衍射元件以外的部分)进行腐蚀，将反射层除去。由此，在通过透射光观察显示体100的条件下，显示基于第2区域R2的分布的图像(负像)。 [0133] 即，通过本实施方式的显示体100，可以在不损害全彩色所产生的表现力的情况下，在利用透射光进行的观察中显示负像，因此可以实现更高的防伪造效果。 [0134] 此外，上述中对反射材料层120具有与第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)及第2区域R2的表面形状相对应的表面形状、掩模层130中对应于第1区域的部分具有与该第1区域的表面形状相对应的表面形状、掩模层130中对应于第2区域R2的部分以对应于第2区域R2中设置的多个凹部或凸部的配置的方式部分地开口的构成进行了说明，但这些层的构成并非限定于此。 [0135] 例如，反射材料层120和掩模层130两者还可以采用具有与第1区域及第2区域R2的表面形状相对应的表面形状的构成。此时，如上所述，反射材料层120及掩模层130中对应于第2区域R2的部分分别与这些层中对应于第1区域的部分相比，平均膜厚更小。 [0136] 一般来说，掩模层130中平均膜厚更小的部分与平均膜厚更大的部分相比，更易于使反应性气体或液体透过。另外，反应性气体或液体与第2材料发生反应，该反应的产物立即从掩模层130上被除去时，可以仅在第2区域R2上使掩模层130开口。 [0137] 因此，此时通过调整腐蚀液的浓度及温度以及腐蚀的处理时间等，可以制造图1～图4所示的显示体100。 [0138] 或者，反射材料层120和掩模层130两者还可采用下述构成：对应于第1区域的部分具有与第1区域的表面形状相对应的表面形状，对应于第2区域R2的部分以对应第2区域R2中设置的多个凹部或凸部的配置的方式部分地开口的构成。此时，通过调整腐蚀液的浓度及温度以及腐蚀的处理时间等，可以制造图1～图4所示的显示体100。 [0139] 另外，在上述中对将反射材料层120及掩模层130中对应于第2区域R2的部分完全地除去的情况进行了说明，但这些部分的一部分也可残存。例如，通过进一步缩短供至腐蚀处理的时间，可以使第2区域R2位置中的第1材料的量相对于第2区域R2表观面积的比大于0，且与第1区域位置中的第1材料的量相对于第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)表观面积的比相比更小。或者，同样地操作，可以使第2区域R2位置中的第2材料的量相对于第2区域R2表观面积的比大于0，且与第1区域位置中的第2材料的量相对于第1区域表观面积的比相比更小。 [0141] 或者作为反应性气体或液体，还可使用通过与第1材料的反应、能够使反射材料层120的一部分变化成由不同于第1材料的材料形成的层的气体或液体。此时，例如还可代替将反射材料层120中对应于第2区域R2的部分除去，使该部分变化成由不同于第1材料的材料形成的层。 [0142] 作为这样的反应性气体或液体，例如可以使用能够使第1材料氧化的氧化剂。作为该氧化剂，例如使用氧、臭氧，或卤素或者二氧化氯、次亚卤酸、亚卤酸、次卤酸、高卤酸、及其盐等卤化物，过氧化氢、过硫酸盐类、过氧碳酸盐类、过氧硫酸盐类及过氧磷酸盐类等无机过氧化物，过氧化苯甲酰、叔丁基过氧化氢、异丙苯过氧化氢、二异丙基苯过氧化氢，过甲酸、过乙酸及过苯甲酸等有机过氧化物，铈盐、Mn(III)、Mn(IV)及Mn(VI)盐、银盐、铜盐、铬盐、钴盐、重铬酸盐、铬酸盐、高锰酸盐、邻羧基过苯甲酸镁、氯化铁及氯化铜等金属或金属化合物，或者硝酸、硝酸盐、溴酸盐、高碘酸盐及碘酸盐等无机酸或无机酸盐。 [0143] 例如，使用Cu作为反射材料层120′的材料时，通过使反射材料层120′中至少对应于第2区域R2的部分与氧化剂反应，从而可以使该部分变化成由Cu氧化物构成的层。或者，使用Al作为反射材料层120′的材料时，通过使反射材料层120′中至少对应于第2区域R2的部分与氧化剂反应，从而可以使该部分变化成由勃姆石等Al氧化物构成的层。 [0144] 或者，作为上述反应性气体或液体，还可以使用能够使反射材料层120′的材料还原的还原剂。作为该还原剂，例如使用硫化氢、二氧化硫、氟化氢、醇、羧酸、氢气、氢等离子体、远程氢等离子体、二乙基硅烷、乙基硅烷、二甲基硅烷、苯基硅烷、硅烷、乙硅烷、氨基硅烷、硼烷、乙硼烷、铝烷、锗烷、肼、氨、肼、甲基肼、1，1-二甲基肼、1，2-二甲基肼、叔丁基肼、苄基肼、2-肼基乙醇、1-正丁基-1-苯基肼、苯基肼、1-萘基肼、4-氯苯基肼、1，1-二苯基肼、对肼基苯磺酸、1，2-二苯基肼、对肼基苯磺酸、1，2-二苯基肼、乙酰基肼或苯甲酰基肼。 [0145] 此外，在参照图5～图8的同时进行说明的方法中，还可通过腐蚀处理等形成第1层120′之后，将第2层130′除去。该第2层130′的除去例如在担心基于第1材料与第2材料的离子化倾向差异的第1材料离子化的情况中是有效的。 [0146] 这里，图9是放大表示可作为图3及图4所示的第2区域R2中设置的多个凹部或凸部而采用的构造的一例的立体图。 [0147] 在图9所示的例子中，在第2区域R2中设置被二维地配置、并且分别具有正锥形形状的多个凸部。 [0148] 此外，第2区域R2中设置的多个凹部或凸部的中心间距离如上所述为100nm～500nm的范围内。即，本实施方式中，在第2区域R2的部分(即被腐蚀的部分)形成表面积大的交叉光栅，如上所述仅将该交叉光栅部分的金属反射层除去。 [0149] 此外，具备参照图3的同时说明的像素PE的显示体100还可进一步具备将亚区域SR1～SR3的一部分或全部省略的像素PE。 [0150] 图10及图11是表示构成图1及图2所示显示体的像素的另一例子的俯视图。 [0151] 图10所示的像素PE中，红色显示用像素PER仅由第1亚区域SR1构成。另外，绿色显示用像素PEG及蓝色显示用像素PEB仅由第2区域构成。因此，图10所示的像素PE在从斜方向上观察的条件下有助于红色的显示。 [0152] 图11所示的像素PE中，像素PER、PEG及PEB仅由第2区域R2构成。此时，图11所示的像素PE中，整体地如上所述成为去除了金属反射层的状态。 [0153] 如此，采用以上的构成时，根据第1亚区域SR1与第2亚区域SR2与第3亚区域SR3的面积比，可以使像素PE显示任意的颜色。即，当采用这样的构成时，在从斜方向上观察的条件下，可以显示全彩色的图像，并且在利用透射光进行观察的条件下，可以显示单色负像。 [0154] 图12是表示从斜方向上观察图1及图2所示显示体的状态的立体图。如图12所示，显示体100在从斜方向上观察的条件下，以全彩色显示图像。即，通过将观察条件从法线方向改变至斜方向，显示体100能够显示全彩色正像。 [0155] 此外，虽未图示，但在利用透射光观察显示体100的条件下，如上所述呈现对应第2区域R2的分布的图像(单色负像)。 [0156] 由此，本实施方式的显示体100可获得更高的防伪造效果。 [0157] 显示体100可以进行各种变形。 [0158] 例如，图9描绘了第2区域R2具备分别由圆锥形状构成的多个凸部的情况，但该第2区域R2中设置的多个凹部或凸部的构成并非限定于此。 [0159] 例如，第2区域R2中设置的多个凹部或凸部还可具有四角锥形状或三角锥形状。另外，这些多个凹部或凸部还可具有切头锥形状。或者，这些多个凹部或凸部还可具有将底面积不同的多个四角柱从其底面积大者开始依次层叠而成的构造。此外，还可代替四角柱，层叠圆柱或三角柱等四角柱以外的柱状体。 [0160] 另外，图9描绘了多个凸部排列成正方格子状的情况，但多个凹部或凸部的排列方式并非限定于此。例如，还可将这些多个凹部或凸部排列成矩形格子状或三角格子状。 [0161] 另外，图2描绘了多个像素PE排列成矩形格子状的情况，但多个像素PE的排列方式并非限定于此。例如，这些多个像素PE还可排列成三角格子状。 [0162] 以上说明过的显示体100例如还可作为自粘标签、转印箔或细线的一部分使用。或者，该显示体100还可作为撕条的一部分使用。 [0163] 图13是放大表示本实施方式的转印箔的剖视图。图13所示的转印箔200具备之前说明的显示体100、以能够剥离显示体100的方式支撑显示体100的支撑体层50。图13作为一例描绘了在显示体100的前面与支撑体层50之间设置有剥离层52、在显示体100的背面上设置有粘接层54的情况。 [0164] 支撑体层50例如是由树脂形成的膜或片材。作为支撑体层50的材料，例如使用聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯树脂、聚酰亚胺树脂、聚乙烯树脂、聚丙烯树脂或氯乙烯树脂。 [0165] 剥离层52起到使转印箔200转印至被转印体时的支撑体层50的剥离易于进行的作用。作为剥离层52的材料，例如使用树脂。剥离层52还可进一步含有石蜡、巴西棕榈蜡、聚乙烯蜡及有机硅等添加剂。其中，剥离层52的厚度例如设定为0.5μm～5μm的范围内。 [0166] 作为粘接层54的材料，例如使用反应固化型粘接剂、溶剂挥散型粘接剂、热熔型粘接剂、电子束固化型粘接剂及热敏粘接剂等粘接剂。 [0167] 作为反应固化性粘接剂，例如使用聚酯型聚氨酯、聚醚型聚氨酯及丙烯酸氨基甲酸酯等聚氨酯系树脂或环氧树脂。 [0168] 作为溶剂挥散型粘接剂，例如使用乙酸乙烯酯树脂、丙烯酸酯共聚树脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚树脂、含有离聚物树脂及聚氨酯树脂等的水性乳液型粘接剂、天然橡胶、含有苯乙烯-丁二烯共聚树脂及丙烯腈-丁二烯共聚树脂等的胶乳型粘接剂。 [0169] 做为热熔型粘接剂，例如使用含有乙烯-乙酸乙烯酯共聚树脂、乙烯-丙烯酸乙酯共聚树脂、聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚乙烯基醚树脂及聚氨酯树脂等作为基础树脂的粘接剂。 [0170] 作为电子束固化型粘接剂，例如使用含有具有1个或多个丙烯酰基、烯丙基及乙烯基等乙烯基系官能团的低聚物作为主成分的粘接剂。例如作为电子束固化型粘接剂，可以使用聚酯丙烯酸酯、聚酯甲基丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、环氧甲基丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯、氨基甲酸酯甲基丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯或聚醚甲基丙烯酸酯和粘接赋予剂的混合物。作为该粘接赋予剂，例如使用含磷的丙烯酸酯或其衍生物、或含羧基的丙烯酸酯或其衍生物。 [0171] 作为热敏粘接剂，例如使用聚酯树脂、丙烯酸树脂、氯乙烯树脂、聚酰胺树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、橡胶系树脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚树脂或氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚树脂。 [0172] 粘接层54例如通过使用凹版涂布机、微凹版涂布机及辊涂机等涂布机将上述树脂涂覆至显示体100的背面上来获得。 [0173] 该转印箔200例如通过辊转印机或烫印转印至被转印体。此时，在剥离层52中发生剥离的同时，将显示体100经由粘接层54贴附在被转印体上。 [0174] 图14是概略地表示带显示体的物品之一例的俯视图。图14中作为带显示体的物品之一例描绘了印刷物300。该印刷物300是磁卡，含有基材301。基材301例如由塑料形成。 [0175] 在基材301上形成印刷层302。上述显示体100例如经由粘合层固定在基材301的形成有印刷层302的面上。显示体100例如预先作为自粘标签或转印箔进行准备，将其贴附在印刷层302上，从而固定在基材301上。 [0176] 该印刷物300含有上述显示体100。因此，该印刷物300的防伪造效果优异。该印刷物300除了显示体100之外，进一步含有印刷层302。因此，通过将显示体100的光学效果与印刷层302的光学效果相比，可以使显示体100的光学效果变得显著。 [0177] 图14中作为含有显示体100的印刷物例示了磁卡，但含有显示体100的印刷物并非限定于此。例如，含有显示体100的印刷物还可以是IC(integrated circuit，集成电路)卡、无线卡及ID(identification，标识)卡等其他卡。或者，含有显示体100的印刷物还可以是商品券及股票等有价证劵。或者，含有显示体100的印刷物还可以是应该安装在应该确认是正品的物品上的标签。或者，含有显示体100的印刷物还可以是收纳应该确认是正品的物品的包装体或其一部分。 [0178] 另外，在图14所示的印刷物300中，将显示体100贴附在基材301上，但显示体100还可利用其他的方法被基材支撑。例如，使用纸作为基材时，可以将显示体100抄入到纸中、在对应于显示体10的位置上使纸开口。 [0179] 此外，如上所述通过本实施方式的显示体100，由于是在利用透射光进行观察的条件下显示单色负像的构成，因此作为基材优选使用透光性的材料。此时，还可在其内部埋入显示体100，还可在基材的背面、即与显示面相反侧的面上固定显示体100。 [0180] 另外，带标签的物品也可以不是印刷物。即，还可使不含印刷层的物品支撑显示体100。例如，显示体100还可被美术品等高级品支撑。 [0181] 显示体100还能够以防伪以外的目的进行使用。例如，显示体100还可作为玩具、学习教材及装饰品等进行利用。 [0182] (实施例) [0183] 如下所述，制造具备参照图3、图10及图11的同时说明的像素PE的转印箔200。然后，使用其制造支撑有具备这些像素PE的显示体100的带显示体的物品。 [0184] 首先，制作在从斜方向上观察的条件及利用透射光进行观察的条件的各种条件下能够显示所需图像的描绘数据。此外，对于表现RGB的衍射构造以外的部分(即第2区域R2)，制作以2000根/mm的交叉光栅进行描绘的数据。然后，在电子束抗蚀剂上使用电子束描绘对应于上述数据的形状。对该抗蚀剂进行显影，形成所需的凹部或凸部。之后，利用气相沉积法对导电层进行成膜，通过镍溅射导通至各凹部或凸部的表面，利用镍电铸制作模具。如此制作印版。 [0185] 接着，在由聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂形成的起伏构造形成层110上涂覆由丙烯酸树脂形成的剥离层52。该剥离层52的厚度为1μm。接着，在其上涂覆由成型加工用的树脂形成的层。该层的厚度为1μm。如此制作卷筒料。 [0186] 接着，在上述卷筒料的由树脂形成的层一侧的面上，例如一边以100℃的热及1MPa的压力进行加热及加压，一边按压印版。如此，获得在一侧主面上具备多个凹部或凸部的起伏构造形成层110。 [0187] 此外，在对应于第1亚区域SR1的部分中，使多个凹部或凸部的中心间距离为870nm。在对应于第2亚区域SR2的部分中，使多个凹部或凸部的中心间距离为765nm。在对应于第3亚区域SR3的部分中，使多个凹部或凸部的中心间距离为745nm。然后，在对应于第2区域R2的部分中，使多个凹部或凸部的中心间距离为250nm。 [0188] 接着，使铝蒸镀在起伏构造形成层110上。如此，获得反射材料层120。该反射材料层120的厚度为50nm。 [0189] 接着，使MgF2蒸镀在反射材料层120上。如此，获得掩模层130。该掩模层130的厚度为20nm。 [0190] 接着，浸渍于NaOH(5％、50℃)溶液中，进行腐蚀。如此，获得第1层120′及第2层130′。 [0191] 之后，用凹版涂布法以2μm的厚度将由丙烯酸系树脂构成的粘接剂涂覆在铝的蒸镀面上。如此，形成粘接层54。如上所述，获得转印箔200。 [0192] 接着，使用该转印箔200进行显示体100向被转印体的转印。作为该被转印体，使用具有透光性的被转印用纸。另外，转印在150℃的温度及10MPa的压力下进行。如此，作为带显示体的物品，获得粘贴有显示体100的纸。 [0193] 对于该纸，从斜方向上进行了观察。结果，通过来自第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3的衍射光，观察到照片画质的全彩色全息图图像。接着，对于该纸，进行了利用透射光的观察。结果，观察到基于第2区域R2的分布的单色负像。 [0194] 即，使用该显示体100时，在从斜方向进行观察的条件下可以观察到全彩色全息图图像，并且在利用透射光进行观察的条件下可以观察到单色负像，因此实现了更高的防伪造效果。 [0195] (第2实施方式) [0196] 接着，对本发明的第2实施方式进行说明。图15是放大表示本实施方式的显示体之一例的一部分的俯视图。图15中，将平行于显示体200的主面且相互垂直的轴规定为X轴及Y轴，将垂直于显示体200主面的轴规定为Z轴。 [0197] 本实施方式的显示体200如图15所示，含有多个像素PE。在图15所示的例子中，这些像素PE沿着X轴及Y轴排列成矩形格子状。 [0198] 图16及图17是表示构成本实施方式的显示体200的像素的一例的俯视图。图18是沿着图16所示像素的A-A线的剖视图。 [0199] 像素PE在至少从与显示体200主面的法线交叉的斜方向上观察的条件(以下仅表述为从斜方向上观察的条件)下，具有含有显示1种规定颜色的像素的亚区域。具体地说，例如如图16、图17所示，像素PE作为亚像素具备红色显示用像素PER、绿色显示用像素PEG和蓝色显示用像素PEB。这些像素PER、PEG及PEB典型地面积相互相等。 [0200] 红色显示用像素PER具备第1亚区域SR1和第2区域R2。其中，该第1亚区域SR1按照在从斜方向上观察的条件下显示红色的方式构成。即，第1亚区域SR1具备按照在从斜方向上观察的条件下射出对应于红色的波长的衍射光的方式构成的多个凹部或凸部。 [0201] 绿色显示用像素PEG具备第2亚区域SR2和第2区域R2。其中，该第2亚区域SR2按照在从斜方向上观察的条件下显示绿色的方式构成。即，第2亚区域SR2具备按照在从斜方向上观察的条件下射出对应于绿色的波长的衍射光的方式构成的多个凹部或凸部。 [0202] 蓝色显示用像素PEB具备第3亚区域SR3和第2区域R2。其中，该第3亚区域SR3按照在从斜方向上观察的条件下显示蓝色的方式构成。即，第3亚区域SR3具备按照在从斜方向上观察的条件下射出对应于蓝色的波长的衍射光的方式构成的多个凹部或凸部。 [0203] 此外，在以下的说明中，将含有第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3的区域方便地称作第1区域。另外，将含有透光区域SRW的区域方便地称作第3区域。 [0204] 如图18所示，像素PE具备起伏构造形成层110、第1层120′和第2层130′。 [0205] 起伏构造形成层110的一个主面上设有起伏构造。第1层120′将起伏构造形成层110的上述主面部分地覆盖。第2层130′将第1层120′覆盖。此外，对该像素PE的构造等在后详细地说明。 [0206] 接着，一边参照图19～图22一边对显示体200(构成显示体200的像素PE)的制造方法进行说明。 [0207] 图19～图22是概略地表示显示体200的制造方法的剖视图。该方法中首先如图19所示，准备具有含有相互间邻接的第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2、第3亚区域SR3)及第2区域R2及第3区域R3(SRW)的主面的起伏构造形成层110。 [0208] 第1亚区域SR1、第2亚区域SR2、第3亚区域SR3设有凹构造及/或凸构造。凹构造及凸构造分别由多个凹部及多个凸部形成。这些凹部或凸部例如配置成条纹状。这些凹部或凸部典型地在用白色光进行照明时形成射出衍射光的衍射光栅或全息图。 [0209] 垂直于这些多个凹部或凸部的长度方向的截面的形状例如设定为V字形状及U字形状等逐渐变细形状或者设定为矩形形状。图19作为一例描绘了上述截面形状为V字形状的情况。 [0210] 亚区域的凹部或凸部的中心间距离可以根据所需衍射光的颜色，在500～1000nm的范围内适当设定。 [0211] 具体地说，例如设置于第1亚区域SR1的多个凹部或凸部的中心间距离设定为860nm～880nm的范围内。设置于第2亚区域SR2的多个凹部或凸部的中心间距离设定为 755nm～775nm的范围内。设置于第3亚区域SR3的多个凹部或凸部的中心间距离设定为 735nm～755nm的范围内。 [0212] 另外，这些多个凹部或凸部的深度或高度相对于中心间距离之比的平均值例如设定为0.5以下，典型地设定为0.05～0.3的范围内。 [0213] 其中，这里所谓“中心间距离”是指相邻凹部间的距离或相邻凸部间的距离。 [0214] 第2区域R2并非是凹构造及/或凸构造，是平坦的构造。 [0215] 第3区域R3设有凹构造及/或凸构造。这些凹构造及凸构造分别由多个凹部及多个凸部构成。这些多个凹部或凸部具备被二维地配置、并且分别具有正锥形形状的多个凹部或凸部。 [0216] 第3区域R3与第1区域R1相比，表面积相对于表观面积的比更大。其中，区域的“表观面积”是指该区域在平行于该区域的平面上的正投影的面积，即忽略凹构造及凸构造的该区域的面积。另外，区域的“表面积”是指考虑了凹构造及凸构造的该区域的面积。 [0217] 第3区域R3的多个凹部或凸部典型地与第1区域的多个凹部或凸部相比，凹部或凸部的深度或高度与凹部或凸部的中心间距离之比的平均值更大。在图5所示的例子中，第3区域R3中设置的多个凹部或凸部与第1亚区域SR1、第2亚区域SR2、第3亚区域SR3中设置的多个凹部或凸部相比，深度或高度相对于中心间距离之比更大。 [0218] 第3区域R3中设置的凹部或凸部的中心间距离设定为100～500nm的范围内。 [0219] 另外，第3区域R3中设置的多个凹部或凸部的深度或高度与凹部或凸部的中心间距离之比的平均值与第1区域中设置的多个凹部或凸部的深度或高度与凹部或凸部的中心间距离之比的平均值相比，更大。第3区域R3中设置的多个凹部或凸部的深度或高度与凹部或凸部的中心间距离之比的平均值例如为0.8～2.0的范围内、典型地为0.8～1.2的范围内。该值过大时，有时起伏构造形成层110的生产率降低。 [0220] 起伏构造形成层110例如可通过将设有微细凸部的模具按压在树脂上来形成。此时，这些凸部的形状设定为与设置在第1区域及第3区域R3两者中的凹部形状相对应的形状。 [0221] 起伏构造形成层110例如通过以下方法形成：在基材上涂布热塑性树脂，一边施加热一边在其上按压设有上述凸部的原版的方法。此时，作为上述热塑性树脂，例如使用丙烯酸系树脂、环氧系树脂、纤维素系树脂、乙烯基系树脂、它们的混合物或它们的共聚物。 [0222] 或者，起伏构造形成层110还可通过以下方法形成：在基材上涂布热固性树脂层，在其上一边按压设有上述凸部的原版一边施加热，之后将原版去除的方法。此时，作为热固性树脂，例如使用聚氨酯树脂、三聚氰胺系树脂、环氧树脂、酚醛系树脂、它们的混合物或它们的共聚物。其中，该聚氨酯树脂例如通过在具有反应性羟基的丙烯酸多元醇及聚酯多元醇等中添加聚异氰酸酯作为交联剂，使它们交联，从而获得。 [0223] 或者，起伏构造形成层110还可通过以下方法形成：在基材上涂布放射线固化树脂，在其上一边按压原版一边照射紫外线等放射线，使上述材料固化，之后将原版去除的方法。或者，起伏构造形成层110还可通过以下方法形成：在基材与原版之间流入上述组合物，照射放射线，使上述材料固化，之后将原版去除的方法。 [0224] 放射线固化树脂典型地含有聚合性化合物和引发剂。 [0225] 作为聚合性化合物，例如使用能够光自由基聚合的化合物。作为能够光自由基聚合的化合物，例如使用具有烯键式不饱和键或烯键式不饱和基团的单体、低聚物或聚合物。或者，作为能够光自由基聚合的化合物，还可使用1，6-己二醇、新戊二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇五丙烯酸酯及二季戊四醇六丙烯酸酯等单体，环氧丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯及聚酯丙烯酸酯等低聚物或氨基甲酸酯改性丙烯酸树脂及环氧改性丙烯酸树脂等聚合物。 [0226] 作为聚合性化合物使用能够光自由基聚合的化合物时，作为引发剂使用光自由基聚合引发剂。作为该光自由基聚合引发剂，例如使用苯偶姻、苯偶姻甲基醚及苯偶姻乙基醚等苯偶姻系化合物，蒽醌及甲基蒽醌等蒽醌系化合物，苯乙酮、二乙氧基苯乙酮、苯甲酮、羟基苯乙酮、1-羟基环己基苯基酮、α-氨基苯乙酮及2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-吗啉代丙烷-1-酮等苯基酮系化合物，苄基二甲基缩酮、噻吨酮、酰基氧化膦或米蚩酮。 [0227] 或者，作为聚合化合物还可使用能够光阳离子聚合的化合物。作为能够光阳离子聚合的化合物，例如使用具备环氧基的单体、低聚物或聚合物、含氧杂环丁烷骨架的化合物或乙烯基醚类。 [0228] 作为聚合性化合物使用能够光阳离子聚合的化合物时，作为引发剂使用光阳离子聚合引发剂。作为该光阳离子聚合引发剂，例如使用芳香族重氮鎓盐、芳香族碘鎓盐、芳香族锍盐、芳香族鏻盐或混合配位基金属盐。 [0229] 或者，作为聚合性化合物还可使用能够光自由基聚合的化合物与能够光阳离子聚合的化合物的混合物。此时，作为引发剂例如使用光自由基聚合引发剂和光阳离子聚合引发剂的混合物。或者，此时还可使用能够作为光自由基聚合及光阳离子聚合的两者的引发剂发挥作用的聚合引发剂。作为这样的引发剂，例如使用芳香族碘鎓盐或芳香族锍盐。 [0230] 此外，引发剂占放射线固化树脂的比例例如设定为0.1～15质量％的范围内。 [0231] 放射线固化树脂还可进一步含有增感色素、染料、颜料、聚合抑制剂、流平剂、消泡剂、防下垂剂、附着提高剂、涂面改性剂、增塑剂、含氮化合物、环氧树脂等交联剂、脱模剂或它们的组合。另外，放射线固化树脂中为了提高其成型性，还可进一步含有非反应性的树脂。作为该非反应性的树脂，可以使用上述热塑性树脂及/或热固性树脂。 [0232] 起伏构造形成层110的形成中使用的上述原版例如使用电子束描绘装置或纳米压印装置进行制造。这样，能够以高精度形成上述多个凹部或凸部。此外，通常将原版的凹凸构造转印来制造反转版，将该反转版的凹凸构造转印来制造复制版。然后，根据需要将复制版用作原版来制造反转版，将该反转版的凹凸构造转印，进一步制造复制版。在实际的制造中，通常使用如此获得的复制版。 [0233] 起伏构造形成层110典型地含有基材和形成于其上的树脂层。作为该基材，典型地使用膜基材。作为该膜基材，例如使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)膜及聚丙烯(PP)膜等塑料膜。或者，作为基材，还可使用纸、合成纸、塑料复层纸或树脂含浸纸。此外，基材还可省略。 [0234] 树脂层例如通过上述方法来形成。树脂层的厚度例如设定为0.1μm～10μm的范围内。该厚度过大时，容易发生因加工时的加压等所导致的树脂的渗出及/或皱褶的形成。该厚度过小时，有时难以形成所需的凹构造及/或凸构造。另外，树脂层的厚度与要设置于其主面的凹部或凸部的深度或高度相等或比其大。该厚度例如设定为凹部或凸部的深度或高度的1～10倍的范围内、典型地设定为其3～5倍的范围内。 [0235] 此外，起伏构造形成层110的形成例如可使用日本专利第4194073号公报所公开的“压接法”、日本实用新型注册第2524092号公报所公开的“流延法”或日本特开2007-118563号公报所公开的“光聚合物法”进行。 [0236] 接着，如图20所示，将折射率与起伏构造形成层110的材料不同的第1材料相对于第1区域及第2区域R2及第3区域R3的整体进行气相沉积。由此，在起伏构造形成层110的包含第1亚区域SR1、第2亚区域SR2、第3亚区域SR3及第2区域R2及第3区域R3的主面上形成反射材料层120。 [0237] 作为该第1材料，例如使用折射率与起伏构造形成层110的材料不同的材料。具体地说，只要是在与起伏构造形成层110的界面上能够反射光的材料即可，使用金属材料。另外，使用折射率的实数部分之差为0.2以上的材料。该差较小时，有时起伏构造形成层110与后述第1层120的界面中的反射难以发生。 [0238] 作为第1材料，典型地使用选自Al、Sn、Cr、Ni、Cu、Au、Ag及它们的合金中的至少1个金属材料。 [0239] 或者，作为透明性较高的第1材料，还可使用以下所列举的陶瓷材料或有机聚合物材料。其中，以下所示的化学式或化合物名后面记载的括号内的数值是指各材料的折射率。 [0240] 即，作为陶瓷材料例如可使用Sb2O3(3.0)、Fe2O3(2.7)、TiO2(2.6)、CdS(2.6)、CeO2(2.3)、ZnS(2.3)、PbCl2(2.3)、CdO(2.2)、WO3(2.2)、SiO2(1.45)、Si2O3(2.5)、In2O3(2.0)、PbO(2.6)、Ta2O3(2.4)、ZnO(2.1)、ZrO2(2.4)、MgO(1.72)、MgF2(1.37)或Al2O3(1.6～1.8)等。 [0241] 作为有机聚合物材料，例如可使用聚乙烯(1.51)、聚丙烯(1.49)、聚四氟乙烯(1.35)、聚甲基丙烯酸甲酯(1.49)或聚苯乙烯(1.60)。 [0242] 第1材料的气相沉积例如使用真空蒸镀法、溅射法或化学蒸镀法(CVD法)进行。 [0243] 该气相沉积对于与起伏构造形成层110的主面平行的面内方向，以均匀的密度进行。具体地说，该气相沉积按照第1区域位置中的第1材料的量相对于第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)表观面积的比与第3区域R3位置中的第1材料的量相对于第3区域R3表观面积的比相互相等的方式来规定。 [0244] 另外，该气相沉积中，典型地将假设当起伏构造形成层110的主面仅由平坦面构成时的膜厚(以下称作设定膜厚)规定如下。即，该设定膜厚按照反射材料层120满足以下要件的方式来规定。 [0245] 第1，反射材料层120中对应于第1区域的部分设定为具有与第1区域表面形状相对应的表面形状。图20所示的例子中，该部分形成具有与第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3中设置的多个凹部或凸部相对应的表面形状的连续膜。 [0246] 第2，反射材料层120中对应于第2区域R2的部分设定为具有与平坦的第2区域R2表面形状相对应的表面形状。 [0247] 第3，反射材料层120中对应于第3区域R3的部分设定为具有与第3区域R3表面形状相对应的表面形状，或者设定为对应于第3区域R3中设置的多个凹部或凸部的配置而部分地开口。图20中作为一例描绘了前者的情况。即，在图20所示的例子中，该部分形成具有与第3区域R3中设置的多个凹部或凸部相对应的表面形状的连续膜。 [0248] 此外，如上所述，第3区域R3与第1区域相比，表面积相对于表观面积的比更大。因此，当按照反射材料层120具有与第1亚区域SR1、第2亚区域SR2、第3亚区域SR3及第3区域R3的表面形状相对应的表面形状的方式来设定上述的设定膜厚时，反射材料层120中对应于第3区域R3的部分与对应于第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3的部分相比，平均膜厚变得更小。 [0249] 其中，这里层的“平均膜厚”是指该层的一个面上的各点与垂至该层另一个面的垂线的垂足之间的距离的平均值。 [0250] 另外，通过将上述的设定膜厚规定为更小的值，可以形成在对应于第1区域的部分中具有与第1区域的表面形状相对应的表面形状、且在对应于第3区域R3的部分中对应多个凹部或凸部的配置而部分地开口的反射材料层120。 [0251] 反射材料层120的设定膜厚典型地与第3区域R3中设置的多个凹部或凸部的深度或高度相比设定为更小。另外，该设定膜厚典型地与第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)中设置的多个凹部或凸部的深度或高度相比设定为更小。 [0252] 具体地说，反射材料层120的设定膜厚例如设定为5nm～500nm的范围内、典型地设定为30nm～300nm的范围内。该设定膜厚过小时，有时起伏构造形成层110与后述第1层120′的界面上的反射难以发生。该设定膜厚过大时，有时难以按照满足上述要件的方式形成反射材料层120。 [0253] 反射材料层120中对应于第1区域的部分的平均膜厚例如设定为5nm～500nm的范围内、典型地设定为30nm～300nm的范围内。该平均膜厚过小时，有时起伏构造形成层110与后述第1层120′的界面上的反射难以发生。该平均膜厚过大时，有时显示体100的生产率降低。 [0254] 接着，如图21所示，将与反射材料层120的材料不同的第2材料相对于反射材料层120进行气相沉积。由此，以中间夹持反射材料层120的方式形成作为与起伏构造形成层110面对的掩模层的第2层130。 [0255] 作为该第2材料，典型地使用无机物。作为该无机物，例如可举出MgF2、Sn、Cr、ZnS、ZnO、Ni、Cu、Au、Ag、TiO2、MgO、SiO2及Al2O3。特别是作为第2材料使用MgF2时，可以进一步提高第2层(掩模层)130对基材的弯曲或冲击的随动性及耐擦伤性。 [0256] 或者，作为该第2材料还可使用有机物。作为该有机物，例如使用重均分子量为1500以下的有机物。作为这样的有机物，例如还可使用将丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯等聚合性化合物与引发剂混合、与放射线固化树脂气相沉积之后，通过放射线照射使其聚合而成的有机物。 [0257] 或者，作为第2材料还可使用金属烷氧化物。或者，作为第2材料还可使用将金属烷氧化物气相沉积之后使其聚合而成的材料。此时，在气相沉积之后、使其聚合之前，还可进行干燥处理。 [0258] 第2材料的气相沉积例如使用真空蒸镀法、溅射法或CVD法进行。 [0259] 该气相沉积对于平行于起伏构造形成层110主面的面内方向以均匀的密度进行。具体地说，该气相沉积按照第1区域位置中的第2材料的量相对于第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)表观面积的比与第3区域R3位置中的第2材料的量相对于第 3区域R3表观面积的比相互相等的方式进行。 [0260] 另外，该气相沉积中，如下规定掩模层130的设定膜厚。即，该设定膜厚按照掩模层130满足以下要件的方式来规定。 [0261] 第1，掩模层130中对应于第1区域的部分设定为具有与第1区域表面形状相对应的表面形状。图21所示的例子中，该部分形成具有与第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3中设置的多个凹部或凸部相对应的表面形状的连续膜。 [0262] 第2，掩模层130中对应于第2区域R2的部分设定为具有与平坦的第2区域R2表面形状相对应的表面形状。 [0263] 第3，掩模层130中对应于第3区域R3的部分设定为具有与第3区域R3表面形状相对应的表面形状，或者设定为对应于第3区域R3中设置的多个凹部或凸部的配置而部分地开口。图21中作为一例描绘了后者的情况。即，在图21所示的例子中，该部分在反射材料层120上形成对应于第3区域R3中设置的多个凹部或凸部的配置而部分地开口的不连续膜。 [0264] 此外，如上所述，第3区域R3与第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)相比，表面积相对于表观面积之比更大。因此，按照掩模层130具有与第1亚区域SR1、第2亚区域SR2、第3亚区域SR3及第3区域R3的表面形状相对应的表面形状的方式来规定上述设定膜厚时，掩模层130中对应于第3区域R3的部分与对应于第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)的部分相比，平均膜厚变得更小。 [0265] 另外，通过将上述的设定膜厚规定为更小的值，可以形成在对应于第1区域的部分中具有与第1区域的表面形状相对应的表面形状，且在对应于第3区域R3的部分中对应多个凹部或凸部的配置而部分地开口的掩模层130。 [0266] 掩模层130的设定膜厚典型地与第3区域R3中设置的多个凹部或凸部的深度或高度相比设定为更小。另外，该设定膜厚典型地与第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)中设置的多个凹部或凸部的深度或高度相比设定为更小。而且，掩模层130的设定膜厚典型地与反射材料层120的设定膜厚相比设定为更小。 [0267] 具体地说，掩模层130的设定膜厚例如设定为0.3nm～200nm的范围内、典型地设定为3nm～80nm的范围内。该设定膜厚过小时，有时掩模层130中对应于第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)的部分的平均膜厚变得过小、反射材料层120中对应于第1区域的部分通过掩模层130产生的保护变得不足。该设定膜厚过大时，有时反射材料层120中对应于第3区域R3的部分通过掩模层130产生的保护变得过剩。 [0268] 掩模层130中对应于第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)的部分的平均膜厚典型地与反射材料层120中对应于第1区域的部分的平均膜厚相比设定为更小。 [0269] 掩模层130中对应于第1区域的部分的平均膜厚例如设定为0.3nm～200nm的范围内、典型地设定为3nm～80nm的范围内。当该平均膜厚过小时，有时反射材料层120中对应于第1区域的部分通过掩模层130产生的保护变得不足，在后述第1层120′中对应于第1区域的部分的平均膜厚变得过小。该设定膜厚过大时，有时反射材料层120中对应于第2区域R2的部分通过掩模层130产生的保护变得过剩。 [0270] 接着，将掩模层130暴露于能够与反射材料层120的材料发生反应的反应性气体或液体。然后，在至少第3区域R3的位置上，发生与反射材料层120的材料的上述反应。 [0271] 这里，作为反应性气体或液体，对使用能够溶解反射材料层120的材料的腐蚀液的情况进行说明。作为该腐蚀液，典型地使用氢氧化钠溶液、碳酸钠溶液及氢氧化钾溶液等碱性溶液。或者，作为腐蚀液，还可使用盐酸、硝酸、硫酸及醋酸等酸性溶液。 [0272] 如图21所示，掩模层130中对应于第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)及第1区域R2的部分形成连续膜，与此相对，对应于第3区域R3的部分形成部分开口的不连续膜。反射材料层120中未被掩模层130覆盖的部分与反射材料层120中被掩模层130覆盖的部分相比，更易于与反应性气体或液体相接触。因此，前者与后者相比，更易于被腐蚀。 [0273] 另外，当将反射材料层120中未被掩模层130覆盖的部分除去时，反射材料层120中产生与掩模层130的开口相对应的开口。进一步继续进行腐蚀时，反射材料层120的腐蚀在各开口的位置上向面内方向进行。结果，在第3区域R3上，反射材料层120中支撑掩模层130的部分与其上的掩模层130一起被除去。 [0274] 因此，通过调整腐蚀液的浓度及温度以及腐蚀的处理时间等，如图22所示，可以仅将反射材料层120中对应于第3区域R3的部分除去。由此，可获得仅将第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3及R2覆盖的第1层120′。 [0275] 如上所述，可获得由图16、图17及图18所示像素PE构成的显示体200。通过上述方法获得的显示体200具有以下特征。 [0276] 第1层120′是反射层，典型地由上述第1材料构成。第1层120′在第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)及第2区域R2及第3区域R3中，仅将第1区域及第2区域覆盖。即，第1层120′仅设置在对应于第1区域及第2区域的位置上。另外，第3区域R3位置中的第1材料的量相对于第3区域R3的表观面积的比为0。 [0277] 第1层120′具有与第1区域及第2区域的表面形状相对应的表面形状。图16、图17及图18所示的例子中，第1层120′具有与设置于第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3的多个凹部或凸部相对应的表面形状及对应于平坦的R2的表面形状。这些第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3中设置的多个凹部或凸部典型地在用白色光进行照明时，在第1层120′的表面上形成射出衍射光的衍射光栅或全息图。此时，显示体200可以显示与在第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3中射出的衍射光相对应的颜色。 [0278] 具体地说，上述第1亚区域SR1按照在从斜方向上观察的条件下射出与红色相对应的波长的衍射光的方式构成。第2亚区域SR2按照从斜方向上观察的条件下射出与绿色相对应的波长的衍射光的方式构成。第3亚区域SR3按照从斜方向上观察的条件下射出与蓝色相对应的波长的衍射光的方式构成。即，本实施方式所涉及的显示体200在从斜方向上观察该显示体200的条件下，显示基于第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3(即第1区域)的分布的图像(全彩色正像)。因此，此时可以达成更为优异的防伪造效果及装饰效果。 [0279] 第1层120′的轮廓起伏构造形成层110在主面上的正投影的整体与第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)的轮廓重叠。即，第1层120′对应第1区域的形状进行图案形成。因此，通过以很高的位置精度预先形成第1区域及第2区域R2及第3区域R3，可以获得以优异的位置精度形成的第1层120′。 [0280] 此外，在参照图19～图22的同时进行说明的方法中，反射材料层120中对应于第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)及第2区域的部分被掩模层130覆盖。因此，即便是进行上述腐蚀处理时，该部分的膜厚也几乎不会减少或者完全不会减少。即，该平均膜厚例如为5nm～500nm的范围内、典型地为30nm～300nm的范围内。 [0281] 此外，第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3与第2区域R2的边界距第1层120′轮廓的最短距离的最大值例如低于20μm、优选低于10μm、更优选低于3μm。 [0282] 第2层130′例如是利用气相沉积法形成的层。第2层130′将第1层120′覆盖。第2层130′在中间夹持第1层120′、仅与第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)及第2区域R2及第3区域R3中的第1区域及第2区域的整体相面对。即，第1层120′的轮廓在起伏构造形成层110主面上的正投影的整体与第2层130′的轮廓在上述主面上的正投影重叠。 另外，第3区域R3位置中的第2材料的量相对于第3区域R3表观面积的比为0。 [0283] 第2层130′中对应于第1区域及第2区域的部分的平均膜厚与掩模层130中对应于第1区域及第2区域的部分的平均膜厚相等或更小。该平均膜厚例如为0.3nm～200nm的范围内、典型地为3nm～80nm的范围内。 [0284] 第2层130′例如起到保护第1层120′的作用。另外，当设置第2层130′时，与第2层130′不存在的情况相比，可以使显示体200的伪造更为困难。 [0285] 如上所述本实施方式的显示体200中，通过对第3区域R3进行腐蚀，将反射层除去。即，在利用透射光观察显示体200的条件下，通过具有反射层的部分和除去了反射层的部分，显示水印图像(Watermark picture)。另外，用于显示水印图像的第3区域R3能够按照显示与用于显示全彩色图像的第1区域分别不同的图像的方式形成，因此可以制成能够通过利用衍射光形成的全彩色画像和利用水印形成的透射图像来显示不同图像的显示体，可以实现更高的防伪造效果。 [0286] 作为更具体的例子，图16、图17中，像素PE具有以下亚像素：含有显示红色衍射光的SR1的红色显示用像素PER、含有显示绿色衍射光的SR2的绿色显示用像素PEG、含有显示蓝色衍射光的SR1的蓝色显示用像素PEB及具有透光区域SRW(R2)的水印显示用像素PEW。即，通过1像素PE中的SR1、SR2、SR3的比例决定该像素的衍射光的色泽，另外通过SRW的比例决定该像素的透过光的量。 [0287] 像素PE的各亚像素的亚区域SR1、SR2、SR3、SRW能够分别以任意的面积形成，还可部分省略或全部省略。 [0288] 例如，在某个像素中如图23所示在红色显示用像素PER上形成SR1，当绿色显示用像素PEG、蓝色显示用像素PEB、透光区域SRW中仅为R2时，该像素在从斜方向上观察的条件下，在显示红色衍射光的同时变得不透光。图24的例子中，在红色显示用像素PER、绿色显示用像素PEG、蓝色显示用像素PEB上分别以SR1、SR2、SR3大致相等的面积在整个面上形成，在水印显示用像素PEW的整个面上形成透光区域SRW，该像素在从斜方向上观察的条件下显示最大亮度的白色衍射光，同时透过较多的光。 [0289] 通过这样做，例如在图25的显示中，由于可以独立控制SR1、SR2、SR3和SRW，因此可以通过图26所示的利用衍射光形成的图像和图27所示的利用水印形成的图像来显示不同的图像。其中，在形成有图26的图像的部分的像素PE上形成对应于图像的由SR1、SR2、SR3形成的衍射构造，在除此之外的部分的像素PE上不会形成SR1、SR2、SR3。而且，形成了图27的图像的部分的像素PE上未形成SRW，由于在除此之外的部分的像素PE上形成SRW，因此在进行水印时，可以确认由光被遮挡的像素所形成的图像。 [0290] 此外，上述中对反射材料层120具有与第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)及第2区域R2及第3区域R3的表面形状相对应的表面形状，掩模层130中对应于第1区域的部分具有与该第1区域及第2区域的表面形状相对应的表面形状，掩模层130中对应于第3区域R3的部分以对应第3区域R3中设置的多个凹部或凸部的配置的方式部分地开口的构成进行了说明，但这些层的构成并非限定于此。 [0291] 例如，反射材料层120和掩模层130两者还可以采用具有与第1区域及第2区域R2及第3区域R3的表面形状相对应的表面形状的构成。此时，如上所述，反射材料层120及掩模层130中对应于第3区域R3的部分分别与这些层中对应于第1区域的部分相比，平均膜厚更小。 [0292] 一般来说，掩模层130中平均膜厚更小的部分与平均膜厚更大的部分相比，更易于使反应性气体或液体透过。另外，反应性气体或液体与第2材料发生反应，当该反应的产物立即从掩模层130上被除去时，可以仅在第3区域R2上使掩模层130开口。 [0293] 因此，此时通过调整腐蚀液的浓度及温度以及腐蚀的处理时间等，可以制造图16～图18所示的显示体200。 [0294] 或者，反射材料层120和掩模层130两者还可采用下述构成：对应于第1区域及第2区域R2的部分具有与第1区域及第2区域R2的表面形状相对应的表面形状，对应于第3区域R3的部分以对应第3区域R3中设置的多个凹部或凸部的配置的方式部分地开口的构成。此时，通过调整腐蚀液的浓度及温度以及腐蚀的处理时间等，可以制造图16～图18所示的显示体200。 [0295] 另外，在上述中对将反射材料层120及掩模层130中对应于第3区域R3的部分完全地除去的情况进行了说明，但这些部分的一部分也可残存。例如，通过进一步缩短供至腐蚀处理的时间，可以使第3区域R3位置中的第1材料的量相对于第3区域R3表观面积的比大于0，且与第1区域位置中的第1材料的量相对于第1区域(第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3)表观面积的比相比更小。或者，同样地操作，可以使第3区域R3位置中的第2材料的量相对于第3区域R3表观面积的比大于0，且与第1区域位置中的第2材料的量相对于第1区域表观面积的比相比更小。 [0296] 另外，上述中对作为反应性气体或液体使用腐蚀液的情况进行了说明，但反应性气体或液体并非限定于此。例如作为反应性气体或液体，还可使用能够使反射材料层120的材料气化的腐蚀气体。 [0297] 或者作为反应性气体或液体，还可使用通过与第1材料的反应、能够使反射材料层120的一部分变化成由不同于第1材料的材料形成的层的气体或液体。此时，例如还可代替将反射材料层120中对应于第3区域R3的部分除去，使该部分变化成由不同于第1材料的材料形成的层。 [0298] 作为这样的反应性气体或液体，例如可以使用能够使第1材料氧化的氧化剂。作为该氧化剂，例如使用氧、臭氧，或卤素或者二氧化氯、次亚卤酸、亚卤酸、次卤酸、高卤酸、及其盐等卤化物，过氧化氢、过硫酸盐类、过氧碳酸盐类、过氧硫酸盐类及过氧磷酸盐类等无机过氧化物，过氧化苯甲酰、叔丁基过氧化氢、异丙苯过氧化氢、二异丙基苯过氧化氢，过甲酸、过乙酸及过苯甲酸等有机过氧化物，铈盐、Mn(III)、Mn(IV)及Mn(VI)盐、银盐、铜盐、铬盐、钴盐、重铬酸盐、铬酸盐、高锰酸盐、邻羧基过苯甲酸镁、氯化铁及氯化铜等金属或金属化合物，或者硝酸、硝酸盐、溴酸盐、高碘酸盐及碘酸盐等无机酸或无机酸盐。 [0299] 例如，使用Cu作为反射材料层120′的材料时，通过使反射材料层120′中至少对应于第3区域R3的部分与氧化剂反应，从而可以使该部分变化成由Cu氧化物构成的层。或者，使用Al作为反射材料层120′的材料时，通过使反射材料层120′中至少对应于第3区域R3的部分与氧化剂反应，从而可以使该部分变化成由勃姆石等Al氧化物构成的层。 [0300] 或者，作为上述反应性气体或液体，还可以使用能够使反射材料层120′的材料还原的还原剂。作为该还原剂，例如使用硫化氢、二氧化硫、氟化氢、醇、羧酸、氢气、氢等离子体、远程氢等离子体、二乙基硅烷、乙基硅烷、二甲基硅烷、苯基硅烷、硅烷、乙硅烷、氨基硅烷、硼烷、乙硼烷、铝烷、锗烷、肼、氨、肼、甲基肼、1，1-二甲基肼、1，2-二甲基肼、叔丁基肼、苄基肼、2-肼基乙醇、1-正丁基-1-苯基肼、苯基肼、1-萘基肼、4-氯苯基肼、1，1-二苯基肼、对肼基苯磺酸、1，2-二苯基肼、对肼基苯磺酸、1，2-二苯基肼、乙酰基肼或苯甲酰基肼。 [0301] 此外，在参照图9～图22的同时进行说明的方法中，还可通过腐蚀处理等形成第1层120′之后，将第2层130′除去。该第2层130′的除去例如在担心基于第1材料与第2材料的离子化倾向差异的第1材料离子化的情况中是有效的。 [0302] 这里，作为图16、图17及图18所示第3区域R3中设置的多个凹部或凸部可采用的构造，与上述第1实施方式中说明过的图9所示的构造相同。 [0303] 即，第3区域R3设有被二维地配置、并且分别具有正锥形形状的多个凸部。 [0304] 此外，第3区域R3中设置的多个凹部或凸部的中心间距离如上所述为100～500nm的范围内。即，本实施方式中，在第3区域R3的部分(即被腐蚀的部分)上形成表面积大的交叉光栅，如上所述仅将该交叉光栅部分的金属反射层除去。 [0305] 显示体200可以进行各种变形。 [0306] 例如，图9描绘了第3区域R3具备分别由圆锥形状形成的多个凸部的情况，但该第3区域R3中设置的多个凹部或凸部的构成并非限定于此。 [0307] 例如，第3区域R3中设置的多个凹部或凸部还可具有四角锥形状或三角锥形状。另外，这些多个凹部或凸部还可具有切头锥形状。或者，这些多个凹部或凸部还可具有将底面积不同的多个四角柱从其底面积大者开始依次层叠而成的构造。此外，还可代替四角柱，层叠圆柱或三角柱等四角柱以外的柱状体。 [0308] 另外，图9描绘了多个凸部排列成正方格子状的情况，但多个凹部或凸部的排列方式并非限定于此。例如，还可将这些多个凹部或凸部排列成矩形格子状或三角格子状。 [0309] 另外，图15描绘了多个像素PE排列成矩形格子状的情况，但多个像素PE的排列方式并非限定于此。例如，这些多个像素PE还可排列成三角格子状。 [0310] 以上说明过的显示体200例如还可作为自粘标签、转印箔或细线的一部分使用。或者，该显示体200还可作为撕条的一部分使用。 [0311] 作为转印箔，例如具备能够以剥离显示体200的方式支撑显示体200的支撑体层。作为一例，可举出在显示体200的前面与支撑体层之间设置有剥离层，在显示体200的背面上设置有粘接层。 [0312] 支撑体层例如是由树脂形成的膜或片材。作为支撑体层的材料，例如使用聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯树脂、聚酰亚胺树脂、聚乙烯树脂、聚丙烯树脂或氯乙烯树脂。 [0313] 剥离层起到使转印箔转印至被转印体时的支撑体层的剥离易于进行的作用。作为剥离层的材料，例如使用树脂。剥离层还可进一步含有石蜡、巴西棕榈蜡、聚乙烯蜡及有机硅等添加剂。其中，剥离层的厚度例如设定为0.5μm～5μm的范围内。 [0314] 作为粘接层的材料，例如使用反应固化型粘接剂、溶剂挥散型粘接剂、热熔型粘接剂、电子束固化型粘接剂及热敏粘接剂等粘接剂。 [0315] 作为反应固化性粘接剂，例如使用聚酯型聚氨酯、聚醚型聚氨酯及丙烯酸氨基甲酸酯等聚氨酯系树脂或环氧树脂。 [0316] 作为溶剂挥散型粘接剂，例如使用乙酸乙烯酯树脂、丙烯酸酯共聚树脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚树脂、含有离聚物树脂及聚氨酯树脂等的水性乳液型粘接剂、天然橡胶、含有苯乙烯-丁二烯共聚树脂及丙烯腈-丁二烯共聚树脂等的胶乳型粘接剂。 [0317] 做为热熔型粘接剂，例如使用含有乙烯-乙酸乙烯酯共聚树脂、乙烯-丙烯酸乙酯共聚树脂、聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚乙烯基醚树脂及聚氨酯树脂等作为基础树脂的粘接剂。 [0318] 作为电子束固化型粘接剂，例如使用含有具有1个或多个丙烯酰基、烯丙基及乙烯基等乙烯基系官能团的低聚物作为主成分的粘接剂。例如作为电子束固化型粘接剂，可以使用聚酯丙烯酸酯、聚酯甲基丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、环氧甲基丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯、氨基甲酸酯甲基丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯或聚醚甲基丙烯酸酯和粘接赋予剂的混合物。作为该粘接赋予剂，例如使用含磷的丙烯酸酯或其衍生物、或含羧基的丙烯酸酯或其衍生物。 [0319] 作为热敏粘接剂，例如使用聚酯树脂、丙烯酸树脂、氯乙烯树脂、聚酰胺树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、橡胶系树脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚树脂或氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚树脂。 [0320] 粘接层例如通过使用凹版涂布机、微凹版涂布机及辊涂机等涂布机将上述树脂涂覆至显示体200的背面上来获得。 [0321] 该转印箔例如通过辊转印机或烫印转印至被转印体。此时，在剥离层中发生剥离的同时，将显示体200经由粘接层贴附在被转印体上。 [0322] 另外，本实施方式的显示体200还可组装到物品中作为带显示体的物品进行使用。例如作为带显示体的物品的一例，有包含卡基材的卡。 [0323] 基材例如由塑料或纸基材构成，但本实施方式中由于还利用透射光进行观察，因此优选至少一部分或全部使用透光性的基材。 [0324] 在基材上形成印刷层。上述显示体200例如经由粘合层固定在基材的形成有印刷层的面上。显示体200例如预先作为自粘标签或转印箔进行准备，将其贴附在印刷层上，从而固定在基材上。 [0325] 该卡含有上述显示体200。因此，该卡的防伪造效果优异。该卡除了显示体200之外，进一步含有印刷层。因此，通过将显示体200的光学效果与印刷层的光学效果相比较，可以使显示体200的光学效果变得显著。 [0326] 作为卡还可以是磁卡、IC(integrated circuit，集成电路)卡、无线卡及ID(identification，标识)卡等其他卡。 [0327] 或者，还可以是由卡以外的商品券及股票等有价证劵形成的带显示体的物品。或者，还可以是应该安装在应该确认是正品的物品上的标记、标签。或者，还可以是收纳应该确认是正品的物品的包装体或其一部分。 [0328] 另外，显示体200还可以贴附在基材上，例如使用纸作为基材时，可以将显示体200抄入到纸中，在对应于显示体200的位置上使纸开口。 [0329] 此外，本实施方式中由于还利用透射光进行观察，因此作为基材优选使用透光性的材料。此时，还可在其内部埋入显示体200，还可在基材的背面、即与显示面相反侧的面上固定显示体200。 [0330] 显示体200还可以以防伪以外的目的进行使用。例如，显示体200还可作为玩具、学习教材及装饰品等进行利用。 [0331] (实施例) [0332] 首先，制作在从斜方向上观察的条件及利用透射光进行观察的条件的各种条件下能够显示所需图像的描绘数据。此外，对于水印部分(即第3区域R3)，制作以2000根/mm的交叉光栅进行描绘的数据。然后，在电子束抗蚀剂上使用电子束描绘对应于上述数据的形状。对该抗蚀剂进行显影，形成所需的凹部或凸部。之后，利用气相沉积法对导电层进行成膜，通过镍溅射导通至各凹部或凸部的表面，利用镍电铸制作模具。如此制作印版。 [0333] 接着，在由聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂形成的起伏构造形成层110上涂覆由丙烯酸树脂形成的剥离层。该剥离层的厚度为1μm。接着，在其上涂覆由成型加工用的树脂形成的层。该层的厚度为1μm。如此制作卷筒料。 [0334] 接着，在上述卷筒料的由树脂形成的层一侧的面上，例如一边以100℃的热及1MPa的压力进行加热及加压，一边按压印版。如此，获得在一侧主面上具备多个凹部或凸部的起伏构造形成层110。 [0335] 此外，在对应于第1亚区域SR1的部分中，使多个凹部或凸部的中心间距离为870nm。在对应于第2亚区域SR2的部分中，使多个凹部或凸部的中心间距离为765nm。在对应于第3亚区域SR3的部分中，使多个凹部或凸部的中心间距离为745nm。另外，对应于第2区域R2的部分设定为平坦的形状。然后，在对应于第3区域R3的部分中，使多个凹部或凸部的中心间距离为250nm。 [0336] 接着，使铝蒸镀在起伏构造形成层110上。如此，获得反射材料层120。该反射材料层120的厚度为50nm。 [0337] 接着，使MgF2蒸镀在反射材料层120上。如此，获得掩模层130。该掩模层130的厚度为20nm。 [0338] 接着，浸渍于NaOH(5％、50℃)溶液中，进行腐蚀。如此，获得第1层120′及第2层130′。 [0339] 之后，用凹版涂布法以2μm的厚度将由丙烯酸系树脂构成的粘接剂涂覆在铝的蒸镀面上。如此，形成粘接层54。如上所述，获得转印箔。 [0340] 接着，使用该转印箔进行显示体200向被转印体的转印。作为该被转印体，使用具有透光性的被转印用纸。另外，转印在150℃的温度及10MPa的压力下进行。如此，作为带显示体的物品，获得粘贴有显示体200的纸。 [0341] 对于该纸，从斜方向上进行了观察。结果，通过来自第1亚区域SR1、第2亚区域SR2及第3亚区域SR3的衍射光，观察到照片画质的全彩色全息图图像。接着，对于该纸，进行了利用透射光的观察。结果，观察到基于第3区域R3的分布的水印图像。 [0342] 即，使用该显示体200时，在从斜方向进行观察的条件下可以观察到全彩色全息图图像，并且在利用透射光进行观察的条件下可以观察到另外的水印图像，因此实现了更高的防伪造效果。 [0343] 此外，在上述第1及第2实施方式的显示体中，还可以是在同一个面上进一步形成其他图案的构成。具体地说，可以进一步形成由起伏型的衍射光栅形成的衍射光栅图案。该衍射光栅图案是通过照射照明光产生衍射波的构造。 [0344] 另外，还可以进一步形成利用光散射显示图像的图案(以下表述为光散射图案)。该光散射图案中，在起伏构造形成层110与反射材料层120的界面上分别形成方向一致的多个直线状的凸部及/或凹部，形成含有该方向互不相同的多个区域(以下表述为光散射区域)的图案。从法线方向照射该多个区域时，该区域在垂直于直线状凸部及/或凹部的长度方向的面内以最广的射出范围射出散射光，在平行于直线状凸部及/或凹部的长度方向且垂直于之前区域的主面的面内以最窄的射出范围射出散射光。 [0345] 这里，参照图28对在多个光散射区域中获得的视觉效果进行说明。图28是概略地表示光散射区域之一例的俯视图。图28所示的光散射区域300含有多个光散射构造310。这些光散射构造310分别为直线状，是在各光散射区域300内方向一致的多个凸部及/或凹部。即，各光散射区域300中光散射构造310大致平行地排列。 [0346] 此外，各光散射区域30中光散射构造310也可不完全平行地排列。光散射区域300只要具有充分的光散射能量各向异性，则在该光散射区域300中，例如可以是一部分光散射构造310的长度方向与另外一部分光散射构造310的长度方向交叉。以下将平行于光散射区域300主面的方向中、光散射区域300显示最小光散射能量的方向称作“取向方向”，光散射区域300显示最大光散射能量的方向称作“光散射轴”。 [0347] 图28所示的光散射区域300中，箭头320所示的方向为取向方向，箭头330所示的方向为光散射轴。例如，从垂直于取向方向320的斜方向照明光散射区域300、从正面观察光散射区域300时，光散射区域300由于其较高的光散射能量，能较明亮地观察到。另一方面，从垂直于光散射轴330的斜方向照明光散射区域300、从正面观察光散射区域300时，光散射区域300由于其较低的光散射能量，能较暗地观察到。 [0348] 由此可知，例如从斜方向照明光散射区域300、从正面对其进行观察时，在其法线方向的周围旋转光散射区域300时，其亮度发生变化。因此，例如当上述多个光散射区域(例如2个光散射区域)采用相同的构造、在这些区域间仅使光散射轴330的方向不同时，当一个区域可最明亮地观察到时，另一个区域可较暗地观察到，当该一个区域可最暗地观察到时，该另一个区域可较明亮地观察到。 [0349] 即，通过在2个光散射区域内使光散射轴330不同，可以在它们之间产生亮度的差异。因此，由此可以显示图像。特别是，通过使2个光散射区域的光散射轴330的角度差变得充分(例如30°以上)或者使各个光散射各向异性变得充分大，可以在分别不同的观察条件下观察各个区域中显示的图像。 [0350] 此外，这里进行了简单的说明，但作为上述光散射图案，可使用在日本特开2008-107472号公报中公开的图案。 [0351] 进而，还可进一步形成配置有顶面与基材面大致平行的多个凸部、或底面与基材面大致平行的多个凹部、与基材面大致平行的平坦部而构成的图案(以下表述为构造色OVD图案)。通过该图案，对应于照明光的入射可以显示由多个波长的光构成的颜色。即，不会像起伏型的衍射光栅图案那样随着照明的位置或观察者的位置变化，颜色变化成彩色，而是能够实现与利用了该衍射光栅的防伪介质不同的视觉效果。 [0352] 这里，显示体的印刷层由油墨或调色剂形成，油墨或调色剂形成固有的色调、明度、彩度的发色，随着照明光的入射角度或观察角度的不同，其配色也不会发生大的变化。另一方面，形成了构造色OVD图案的区域在通常的照明条件下可以显示固有的颜色，在条件发生变化时可以呈现颜色变化。通过在显示体内形成功能不同的这2个层，可以赋予仅靠通常的印刷层不可能实现的特有视觉效果。 [0353] 此外，这里简单地进行了说明，但作为上述构造色OVD图案可以使用日本特开2011-218648号公报所公开的图案。 [0354] 进而，还可进一步形成上述交叉光栅。通过该交叉光栅，从其法线方向观察显示体时可见黑色，但在很深的角度时，则射出衍射光。因此，能够赋予下述特有的视觉效果，即随着观察角度逐渐改变，通常显示为黑色的图像突然发光而可见。此外，作为交叉光栅可以使用日本特开2009-086648号公报中公开的交叉光栅。 [0355] 如此，通过在上述第1及第2实施方式的显示体中组合上述其他的图案，可以实现较高的防伪造效果。 [0356] 符号说明 [0357] 50树脂层、52剥离层、54粘接层、100，200显示体、110起伏构造形成层、120反射材料层、120′第1层、130掩模层、130′第2层、200转印箔、300印刷物、301基材、302印刷层、PE像素、PEB蓝色显示用像素、PEG绿色显示用像素、PER红色显示用像素、R2第2区域、SR1第1亚区域、SR2第2亚区域、SR3第3亚区域。 |
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