1.一种光学装置，包括：
基底，透射入射光；以及
第一导电膜，形成在所述基底的一个表面上，并且包括形成在基底侧表面上的预定周期的凹凸图案，其中限定被所述入射光辐照的边缘部分的边部从所述入射光的入射侧看具有凸起形状或直线形状。
2.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述凹凸图案相对于所述边缘部分的端部同心。
3.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述凹凸图案的所述预定周期的基点是所述边缘部分的端部。
4.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述第一导电膜的与所述凹凸图案相反的表面是平坦的。
5.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述凹凸图案的所述预定周期设定为使得所述入射光入射在所述第一导电膜上时在所述凹凸图案的表面上产生的表面等离子体激元同相地交叠。
6.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述第一导电膜沿着在所述第一导电膜的所述边缘部分的端部的切线方向的正交方向的长度大于所述入射光在所述第一导电膜上的光斑半径。
7.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述凹凸图案的截面形状为矩形波、三角波、正弦波、弧形凸起和弧形槽中的任何一种，或者截面形状为矩形波、三角波、正弦波、弧形凸起和弧形槽中的两种或更多种的结合。
8.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述入射光在偏振方向上具有各向异性，并且其中所述入射光具有最大电场强度的偏振方向是在所述第一导电膜的所述边缘部分的端部的切线方向的正交方向。
9.根据权利要求1所述的光学装置，还包括：
第二导电膜，形成在所述基底的一个表面上，该第二导电膜包括以与所述第一导电膜相同的构造形成在基底侧表面上的凹凸图案，其中限定被所述入射光辐照的边缘部分的边部从所述入射光的入射侧看具有凸起形状或直线形状，并且其中所述边缘部分的端部面对所述第一导电膜的所述边缘部分的端部，其间具有预定的距离。
10.根据权利要求9所述的光学装置，其中所述第一导电膜的所述端部和所述第二导电膜的所述端部以距离g彼此分隔，并且当λ为所述入射光的波长时，满足关系g＜λ。
11.根据权利要求1所述的光学装置，
其中所述第一导电膜在提供有所述凹凸图案的表面上具有基本上为矩形的轮廓，并且其中所述第一导电膜的端部沿着提供有所述凹凸图案的表面的短边的宽度小于所述第一导电膜的其它区域沿着所述短边的宽度。
12.一种光学设备，包括：
光学装置，其包括
基底，透射入射光；以及
导电膜，形成在所述基底的一个表面上，该导电膜包括形成在基底侧表面上的预定周期的凹凸图案，其中限定被入射光辐照的边缘部分的边部从入射光的入射侧看具有凸起形状或直线形状；以及
光源，设置在所述光学装置的所述基底的与所述导电膜相反的表面上，并且发射所述入射光。
13.一种光学设备，包括：
光学装置，其包括
基底，透射入射光；以及
导电膜，形成在所述基底的一个表面上，该导电膜包括形成在基底侧表面上的预定周期的凹凸图案，其中限定被入射光辐照的边缘部分的边部从入射光的入射侧看具有凸起形状或直线形状；以及
光接受部，接收由所述光学装置出射的光。