一种液晶显示装置及其制备方法 |
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| 申请号 | CN201510085533.9 | 申请日 | 2015-02-16 | 公开(公告)号 | CN104597642B | 公开(公告)日 | 2017-09-22 |
| 申请人 | 合肥京东方光电科技有限公司; 京东方科技集团股份有限公司; | 发明人 | 王辉; 郭远辉; 王春; 陈俊生; 李小和; 车春城; | ||||
| 摘要 | 本 发明 实施例 提供了一种 液晶 显示装置及其制备方法，涉及显示技术领域，可有效提升检测偏光片贴附的效率以及 精度 。该液晶显示装置包括：彩膜 基板 、阵列基板、上偏光片和下偏光片；彩膜基板包括第一刻度标尺和第二刻度标尺；阵列基板包括第三刻度标尺和第四刻度标尺，且均位于非显示区域；第一刻度标尺用于测量上偏光片中相互平行的至少一个第一边到靠近的彩膜基板边缘的距离，第二刻度标尺用于测量上偏光片中相互平行的至少一个第二边到靠近的彩膜基板边缘的距离；第三刻度标尺用于测量下偏光片中相互平行的至少一个第三边到靠近的阵列基板边缘的距离，第四刻度标尺用于测量下偏光片中相互平行的至少一个第四边到靠近的阵列基板边缘的距离。 | ||||||
| 权利要求 | 1.一种液晶显示装置，包括：彩膜基板、阵列基板、位于所述彩膜基板一侧的上偏光片和位于所述阵列基板一侧的下偏光片；其特征在于， |
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| 说明书全文 | 一种液晶显示装置及其制备方法技术领域[0001] 本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种液晶显示装置及其制备方法。 背景技术[0002] 液晶显示器包括显示面板和上、下偏光片；所述显示面板包括阵列基板、彩膜基板、以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层；所述下偏光片位于所述阵列基板远离所述液晶层的一侧，所述上偏光片位于所述彩膜基板远离所述液晶层的一侧。其中，液晶显示器的制作过程为：先形成阵列基板和彩膜基板，然后将阵列基板和彩膜基板对盒形成显示面板，之后再制作上偏光片和下偏光片。 [0003] 为了防止边缘漏光，上偏光片和下偏光片的面积需大于显示区域的面积且贴附位置是一定的，其中由于受到工艺上的限制，在显示面板上贴附上偏光片和下偏光片时，如图1和图2所示，上偏光片01距离彩膜基板02的边缘、下偏光片03距离阵列基板04的边缘均会具有一定的距离。 [0004] 当上偏光片01和下偏光片03贴附好后，需要检测贴附精度，方法为：操作员用具有一定精度的直尺手动测量图1中的a、b和图2中的c、d的值，以判断上偏光片01和下偏光片03是否按照设计值贴附。然而上偏光片01和下偏光片03的边距离彩膜基板02和阵列基板04边缘的距离通常都很小，因此，用直尺测试对准很困难，从而导致测试精度较差，效率也很低。 发明内容[0005] 本发明的实施例提供一种液晶显示装置及其制备方法，可有效提升检测偏光片贴附的效率以及精度。 [0006] 为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案： [0007] 一方面，提供了一种液晶显示装置，包括：彩膜基板、阵列基板、位于所述彩膜基板一侧的上偏光片和位于所述阵列基板一侧的下偏光片；所述彩膜基板包括第一刻度标尺和第二刻度标尺；所述阵列基板包括第三刻度标尺和第四刻度标尺； [0008] 其中，所述第一刻度标尺、第二刻度标尺、第三刻度标尺和第四刻度标尺均位于非显示区域； [0009] 所述第一刻度标尺用于测量所述上偏光片中相互平行的第一边中至少一个第一边到靠近的所述彩膜基板边缘的距离，所述第二刻度标尺用于测量所述上偏光片中相互平行的第二边中至少一个第二边到靠近的所述彩膜基板边缘的距离； [0010] 所述第三刻度标尺用于测量所述下偏光片中相互平行的第三边中至少一个第三边到靠近的所述阵列基板边缘的距离，所述第四刻度标尺用于测量所述下偏光片中相互平行的第四边中至少一个第四边到靠近的所述阵列基板边缘的距离。 [0011] 另一方面，提供了一种液晶显示装置的制备方法，包括：形成对盒成型的彩膜基板和阵列基板、位于所述彩膜基板一侧的上偏光片和位于所述阵列基板一侧的下偏光片；形成所述彩膜基板包括：形成包括第一刻度标尺和第二刻度标尺的所述彩膜基板；形成所述阵列基板包括：形成包括第三刻度标尺和第四刻度标尺的所述阵列基板； [0012] 其中，所述第一刻度标尺、第二刻度标尺、第三刻度标尺和第四刻度标尺均位于非显示区域； [0013] 所述第一刻度标尺用于测量所述上偏光片中相互平行的第一边中至少一个第一边到靠近的所述彩膜基板边缘的距离，所述第二刻度标尺用于测量所述上偏光片中相互平行的第二边中至少一个第二边到靠近的所述彩膜基板边缘的距离； [0014] 所述第三刻度标尺用于测量所述下偏光片中相互平行的第三边中至少一个第三边到靠近的所述阵列基板边缘的距离，所述第四刻度标尺用于测量所述下偏光片中相互平行的第四边中至少一个第四边到靠近的所述彩膜基板边缘的距离。 [0015] 本发明实施例提供了一种液晶显示装置及其制备方法，通过设置在所述彩膜基板上的第一刻度标尺和第二刻度标尺可以直接读取或在直接读取的基础上再计算得到上偏光片各边到相应的彩膜基板边缘的距离，通过设置在阵列基板上的第三刻度标尺和第四刻度标尺可以直接读取或在直接读取的基础上再计算得到下偏光片各边到相应的阵列基板边缘的距离，从而得到上偏光片贴附在彩膜基板上的精度以及下偏光片贴附在阵列基板上的精度；相比现有技术中通过手动拿直尺测量偏光片贴附精度，本发明实施例可以避免手拿直尺导致偏差的产生，从而可以提升检测偏光片的精度，此外，由于不再需要借助直尺而可以直接读取，有效提高了生产效率。附图说明 [0016] 为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。 [0017] 图1为现有技术提供的在彩膜基板上贴附上偏光片的示意图； [0018] 图2为现有技术提供的在阵列基板上贴附下偏光片的示意图； [0019] 图3为本发明实施例提供的一种液晶显示装置的结构示意图； [0020] 图4a为本发明实施例提供的彩膜基板的结构示意图一； [0021] 图4b为本发明实施例提供的彩膜基板的结构示意图二； [0022] 图5a为本发明实施例提供的阵列基板的结构示意图一； [0023] 图5b为本发明实施例提供的阵列基板的结构示意图二； [0024] 图6为本发明实施例提供的第一刻度标尺的示意图。 [0025] 附图标记： [0026] 01-上偏光片；02-彩膜基板；03-下偏光片；04-阵列基板；11-上偏光片的第一边；12-上偏光片的第二边；21-第一刻度标尺；22-第二刻度标尺；31-下偏光片的第三边；32-下偏光片的第四边；41-第三刻度标尺；42-第四刻度标尺。 具体实施方式[0027] 下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。 [0028] 本发明实施例提供了一种液晶显示装置，如图3所示，该液晶显示装置包括：彩膜基板02、阵列基板04、位于所述彩膜基板02一侧的上偏光片01和位于所述阵列基板04一侧的下偏光片03。 [0029] 所述彩膜基板02包括第一刻度标尺21和第二刻度标尺22；所述阵列基板04包括第三刻度标尺41和第四刻度标尺42。 [0030] 其中，所述第一刻度标尺21、第二刻度标尺22、第三刻度标尺41和第四刻度标尺42均位于非显示区域。 [0031] 所述第一刻度标尺21用于测量所述上偏光片01中相互平行的第一边11中至少一个第一边11到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离，所述第二刻度标尺22用于测量所述上偏光片01中相互平行的第二边12中至少一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离。 [0032] 所述第三刻度标尺41用于测量所述下偏光片03中相互平行的第三边31中至少一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离，所述第四刻度标尺42用于测量所述下偏光片03中相互平行的第四边32中至少一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离。 [0033] 具体的，对于所述彩膜基板02，所述第一刻度标尺21可以用于测量所述上偏光片01中一个第一边11到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离，即，如图4a所示，所述第一刻度标尺21可以为一个，其可以位于与该一个第一边11对应的非显示区域中，在此情况下，另一个第一边11到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离便可通过计算得到，即：在已知两个第一边 11之间的距离、彩膜基板02的与该第一边平行的两个边之间的距离、一个第一边11到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离的基础上，便可以计算出另一个第一边11到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离。 [0034] 当然，所述第一刻度标尺21也可以用于测量所述上偏光片01中两个第一边11到分别靠近的所述彩膜基板02边缘的距离，即，如图4b所示，所述第一刻度标尺21可以为两个，其分别位于与每个第一边11对应的非显示区域中。 [0035] 相应的，所述第二刻度标尺22可以用于测量所述上偏光片01中一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离，即，如图4a所示，所述第二刻度标尺22可以为一个，其可以位于与该一个第二边12对应的非显示区域中，在此情况下，另一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离便可通过计算得到，即：在已知两个第二边12之间的距离、彩膜基板02的与该第二边平行的两个边之间的距离、一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离的基础上，便可以计算出另一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离。 [0036] 当然，所述第二刻度标尺22也可以用于测量所述上偏光片01中两个第二边12到分别靠近的所述彩膜基板02边缘的距离，即，如图4b所示，所述第二刻度标尺22可以为两个，其分别位于与每个第二边12对应的非显示区域中。 [0037] 对于所述阵列基板04，所述第三刻度标尺41可以用于测量所述下偏光片03中一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离，即，如图5a所示，所述第三刻度标尺41可以为一个，其可以位于与该一个第三边31对应的非显示区域中，在此情况下，另一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离便可通过计算得到，即：在已知两个第三边31之间的距离、阵列基板04的与该第三边平行的两个边之间的距离、一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离的基础上，便可以计算出另一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离。 [0038] 当然，所述第三刻度标尺41也可以用于测量所述下偏光片03中两个第三边31到分别靠近的所述阵列基板04边缘的距离，即，如图5b所示，所述第三刻度标尺41可以为两个，其分别位于与每个第三边31对应的非显示区域中。 [0039] 相应的，所述第四刻度标尺42可以用于测量所述下偏光片03中一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离，即，如图5a和5b所示，所述第四刻度标尺42可以为一个，其可以位于与该一个第四边32对应的非显示区域中，在此情况下，另一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离便可通过计算得到，即：在已知两个第四边32之间的距离、阵列基板04的与该第四边平行的两个边之间的距离、一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离的基础上，便可以计算出另一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离。 [0040] 当然，所述第四刻度标尺42可以用于测量所述下偏光片03中两个第四边32到分别靠近的所述阵列基板04边缘的距离，即，所述第四刻度标尺42可以为两个，其分别位于与每个第四边32对应的非显示区域中。 [0041] 需要说明的是，第一，根据上述对彩膜基板02和阵列基板04中相应刻度标尺的说明，在将所述彩膜基板02和阵列基板04对盒形成液晶显示面板时，可以将所述彩膜基板的几种结构和阵列基板04的几种结构自由进行组合，只要能通过设置在所述彩膜基板02和阵列基板04中相应的刻度标尺得到上偏光片01中每一边到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离，下偏光片03中每一边到靠近的所述阵列基板04边缘的距离即可。 [0042] 第二，在彩膜基板02上，不对所述第一刻度标尺21和第二刻度标尺22具体位于哪一层进行限定，只要能通过其测得上偏光片01中至少一个第一边11到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离以及至少一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离即可。 [0043] 同理，在阵列基板04上，不对所述第三刻度标尺41和第四刻度标尺42具体位于哪一层进行限定，只要能通过其测得下偏光片03中至少一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离以及至少一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离即可。 [0044] 第三，不对所述刻度标尺的长度以及每个刻度进行限定，只要通过其能测得希望的偏光片的精度偏差即可。 [0045] 第四，不对所述彩膜基板02和所述阵列基板04的具体结构进行限定。 [0046] 本发明实施例提供了一种液晶显示装置，通过设置在所述彩膜基板02上的第一刻度标尺21和第二刻度标尺22可以直接读取或在直接读取的基础上再计算得到上偏光片01各边到相应的彩膜基板02边缘的距离，通过设置在阵列基板04上的第三刻度标尺41和第四刻度标尺42可以直接读取或在直接读取的基础上再计算得到下偏光片03各边到相应的阵列基板04边缘的距离，从而得到上偏光片01贴附在彩膜基板02上的精度以及下偏光片03贴附在阵列基板04上的精度；相比现有技术中通过手动拿直尺测量偏光片贴附精度，本发明实施例可以避免手拿直尺导致偏差的产生，从而可以提升检测偏光片的精度，此外，由于不再需要借助直尺而可以直接读取，有效提高了生产效率。 [0047] 通过上述描述可知，在通过一个所述第一刻度标尺21测得上偏光片01的一个第一边11到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离，通过一个所述第二刻度标尺22测得上偏光片01的一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离的情况下，通过计算便可得到另一个第一边11到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离以及另一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离，因而，如图4a所示，优选在彩膜基板02上设置一个所述第一刻度标尺21，一个所述第二刻度标尺22。这样可以减少制作工艺的复杂度。 [0048] 同理，在通过一个所述第三刻度标尺41测得下偏光片03的一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离，通过一个所述第四刻度标尺42测得下偏光片03的一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离的情况下，通过计算便可得到另一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离以及另一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离，因而，如图5a所示，优选在阵列基板04上设置一个所述第三刻度标尺41，一个所述第四刻度标尺42。这样可以减少制作工艺的复杂度。 [0049] 这里需要说明的是，由于阵列基板04上设置有pad(焊盘)，因此，优选将所述第三刻度标尺41和第四刻度标尺42设置在非显示区域的不设置pad的区域。 [0050] 优选的，所述第一刻度标尺21和所述第二刻度标尺22与设置在彩膜基板02上的黑矩阵层同层设置，即可以通过一次构图工艺既形成黑矩阵层又形成所述第一刻度标尺21和所述第二刻度标尺22，从而可以避免构图工艺次数的增加，节省成本。 [0051] 优选的，所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42与设置在阵列基板04上的金属层同层设置且绝缘，即可以通过一次构图工艺既形成金属层又形成所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42，从而可以避免构图工艺次数的增加，节省成本。 [0052] 其中，所述金属层可以是包括栅极的栅金属层，包括源极和漏极的源漏金属层，或是其他金属层，具体不做限定。 [0053] 进一步优选的，在所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42所在的区域，除所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42外，均为透明材料。 [0054] 这样，由于在所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42所在的区域，只有所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42是不透明的，因而可以很容易读取相应的数值，不会由于该区域还设置有其他金属图案而影响读数，进一步提升了检测下偏光片03的精度。 [0055] 基于上述，优选的，如图4a所示，沿刻度方向，所述第一刻度标尺21和所述第二刻度标尺22的一边与所述彩膜基板02的边缘齐平；如图5a所示，沿刻度方向，所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42的一边与所述阵列基板04的边缘齐平。 [0056] 这样可以降低制作刻度标尺的复杂度，且可以保证刻度标尺本身与相应彩膜基板02和阵列基板04边缘之间的精度。 [0057] 进一步优选的，所述第一刻度标尺21、所述第二刻度标尺22、所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42的中心刻度均处于刻度标尺的中间位置。 [0058] 其中，所述第一刻度标尺21的中心刻度与所述第一边11的预定位置重合，所述第二刻度标尺22的中心刻度与所述第二边12的预定位置重合，所述第三刻度标尺41的中心刻度与所述第三边31的预定位置重合，所述第四刻度标尺42的中心刻度与所述第四边32的预定位置重合。 [0059] 需要说明的是，以所述第一刻度标尺21为例，所述第一刻度标尺21的中心刻度处于第一刻度标尺21的中间位置，即为：如图6所示，所述第一刻度标尺21的起始刻度0处于所述第一刻度标尺21的中间位置，并且以该起始刻度0为起点，向左向右对称的进行刻度设置。 [0060] 这里，还是以所述第一刻度标尺21为例，通过将所述第一刻度标尺21的中心刻度与所述第一边11的预定位置重合，可以很方便且直观的读取贴附后上偏光片01的第一边11偏离了预定位置多少。 [0061] 上述图6仅示意的绘示了一些刻度，具体可根据实际情况进行设定。 [0062] 进一步优选的，所述第一刻度标尺21、所述第二刻度标尺22、所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42的长度为100-400μm之间。 [0063] 其中，所述第一刻度标尺21、所述第二刻度标尺22、所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42的长度可以相同，也可不同，在此不做限定。 [0064] 对于每个刻度标尺的精度可以根据实际的精度需求进行设置，例如可以设置为20μm-50μm。 [0065] 由于目前上偏光片01距离彩膜基板02边缘，下偏光片03距离阵列基板04边缘一般都小于200μm，因此优选采用刻度标尺的长度为200μm，刻度精度为20μm对偏光片精度的测量。 [0066] 本发明实施例还提供了一种液晶显示装置的制备方法，包括：形成对盒成型的彩膜基板02和阵列基板04、位于所述彩膜基板02一侧的上偏光片01和位于所述阵列基板04一侧的下偏光片03；形成所述彩膜基板02包括：形成包括第一刻度标尺21和第二刻度标尺22的所述彩膜基板02；形成所述阵列基板04包括：形成包括第三刻度标尺41和第四刻度标尺42的所述阵列基板04。 [0067] 其中，所述第一刻度标尺21、第二刻度标尺22、第三刻度标尺43和第四刻度标尺44均位于非显示区域。 [0068] 所述第一刻度标尺21用于测量所述上偏光片01中相互平行的第一边11中至少一个第一边11到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离，所述第二刻度标尺22用于测量所述上偏光片01中相互平行的第二边12中至少一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离。 [0069] 所述第三刻度标尺41用于测量所述下偏光片03中相互平行的第三边31中至少一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离，所述第四刻度标尺42用于测量所述下偏光片03中相互平行的第四边32中至少一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离。 [0070] 具体的，对于所述彩膜基板02，如图4a所示，所述第一刻度标尺21可以为一个，其可以形成在与该一个第一边11对应的非显示区域中，在此情况下，另一个第一边11到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离可被计算。 [0071] 如图4b所示，所述第一刻度标尺21也可以为两个，其分别形成在与每个第一边11对应的非显示区域中。 [0072] 如图4a所示，所述第二刻度标尺22可以为一个，其可以形成在与该一个第二边12对应的非显示区域中，在此情况下，另一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离可被计算。 [0073] 如图4b所示，所述第二刻度标尺22也可以为两个，其分别形成在与每个第二边12对应的非显示区域中。 [0074] 对于所述阵列基板04，如图5a所示，所述第三刻度标尺41可以为一个，其可以位于与该一个第三边31对应的非显示区域中，在此情况下，另一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离可被计算。 [0075] 如图5b所示，所述第三刻度标尺41也可以为两个，其分别位于与每个第三边31对应的非显示区域中。 [0076] 如图5a和5b所示，所述第四刻度标尺42可以为一个，其可以位于与该一个第四边32对应的非显示区域中，在此情况下，另一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离可被计算。 [0077] 当然，所述第四刻度标尺42也可以为两个，其分别位于与每个第四边32对应的非显示区域中。 [0078] 需要说明的是，第一，根据上述对彩膜基板02和阵列基板04中相应刻度标尺的说明，在将所述彩膜基板02和阵列基板04对盒形成液晶显示面板时，可以将所述彩膜基板的几种结构和阵列基板04的几种结构自由进行组合，只要能通过形成在所述彩膜基板02和阵列基板04中相应的刻度标尺得到上偏光片01中每一边到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离，下偏光片03中每一边到靠近的所述阵列基板04边缘的距离即可。 [0079] 第二，在彩膜基板02上，不对所述第一刻度标尺21和第二刻度标尺22具体形成在哪一层进行限定，只要能通过其测得上偏光片01中至少一个第一边11到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离以及至少一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离即可。 [0080] 同理，在阵列基板04上，不对所述第三刻度标尺41和第四刻度标尺42具体形成在哪一层进行限定，只要能通过其测得下偏光片03中至少一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离以及至少一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离即可。 [0081] 第三，不对所述刻度标尺的长度以及每个刻度进行限定，只要通过其能测得希望的偏光片的精度偏差即可。 [0082] 第四，不对所述彩膜基板02和所述阵列基板04的除刻度标尺之外的图案层的形成顺序进行限定。 [0083] 本发明实施例提供了一种液晶显示装置，通过形成在所述彩膜基板02上的第一刻度标尺21和第二刻度标尺22可以直接读取或在直接读取的基础上再计算得到上偏光片01各边到相应的彩膜基板02边缘的距离，通过形成在阵列基板04上的第三刻度标尺41和第四刻度标尺42可以直接读取或在直接读取的基础上再计算得到下偏光片03各边到相应的阵列基板04边缘的距离，从而得到上偏光片01贴附在彩膜基板02上的精度以及下偏光片03贴附在阵列基板04上的精度；相比现有技术中通过手动拿直尺测量偏光片贴附精度，本发明实施例可以避免手拿直尺导致偏差的产生，从而可以提升检测偏光片的精度，此外，由于不再需要借助直尺而可以直接读取，有效提高了生产效率。 [0084] 如图4a所示，对于所述彩膜基板02，优选形成在其上的所述第一刻度标尺21为一个，所述第二刻度标尺22为一个。 [0085] 如图5a所示，对于阵列基板04，优选形成在其上的所述第三刻度标尺41为一个，所述第四刻度标尺42为一个。 [0086] 这样，可以减少制作工艺的复杂度。 [0087] 这里需要说明的是，由于阵列基板04上设置有pad，因此，优选将所述第三刻度标尺41和第四刻度标尺42设置在非显示区域的不设置pad的区域。 [0088] 为了避免构图工艺次数的增加，优选所述第一刻度标尺21和所述第二刻度标尺22与所述彩膜基板02中的黑矩阵层通过一次构图工艺形成；优选所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42与所述阵列基板04中的金属电极通过一次构图工艺形成，且所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42与所述金属电极绝缘。 [0089] 所述金属电极可以是栅极，或者源极和漏极等，具体不做限定。 [0090] 进一步优选的，在所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42所在的区域，除所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42外，均为透明材料。 [0091] 这样，由于在所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42所在的区域，只有所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42是不透明的，因而可以很容易读取相应的数值，不会由于该区域还设置有其他金属图案而影响读数，进一步提升了检测下偏光片03的精度。 [0092] 基于上述，优选的，如图4a所示，沿刻度方向，所述第一刻度标尺21和所述第二刻度标尺22的一边与所述彩膜基板02的衬底基板边缘齐平；如图5a所示，沿刻度方向，所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42的一边与所述阵列基板04的衬底基板边缘齐平。 [0093] 这样可以降低制作刻度标尺的复杂度，且可以保证刻度标尺本身与相应彩膜基板02和阵列基板04边缘之间的精度。 [0094] 进一步优选的，所述第一刻度标尺21、所述第二刻度标尺22、所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42的中心刻度均处于刻度标尺的中间位置。其中，所述第一刻度标尺21的中心刻度与所述第一边11的预定位置重合，所述第二刻度标尺22的中心刻度与所述第二边12的预定位置重合，所述第三刻度标尺41的中心刻度与所述第三边31的预定位置重合，所述第四刻度标尺42的中心刻度与所述第四边32的预定位置重合。 [0095] 需要说明的是，以所述第一刻度标尺21为例，所述第一刻度标尺21的中心刻度处于第一刻度标尺21的中间位置，即为：如图6所示，所述第一刻度标尺21的起始刻度0处于所述第一刻度标尺21的中间位置，并且以该起始刻度0为起点，向左向右对称的进行刻度设置。 [0096] 上述图6仅示意的绘示了一些刻度，具体可根据实际情况进行设定。 [0097] 进一步优选的，所述第一刻度标尺21、所述第二刻度标尺22、所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42的长度为100-400μm之间。 [0098] 其中，所述第一刻度标尺21、所述第二刻度标尺22、所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42的长度可以相同，也可不同，在此不做限定。 [0099] 对于每个刻度标尺的精度可以根据实际的精度需求进行设置，例如可以设置为20μm-50μm。 [0100] 由于目前上偏光片01距离彩膜基板02边缘，下偏光片03距离阵列基板04边缘一般都小于200μm，因此优选采用刻度标尺的长度为200μm，刻度精度为20μm对偏光片精度的测量。 [0101] 以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。 |
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