在美国，每年有大约两百万名白内障患者做了外科手术。这些手 术通常是在患者眼睛的前晶体切开一个口，切去变浑浊的晶状体，然 后在其位置植入人工晶体。选择这种人工晶体(根据手术前对视力 (ocular lenghth)和角膜曲率的测量来选择)可以使患者在不用其 他矫正装置(例如眼镜或隐形眼镜)的情况下看东西。不幸的是，由 于测量错误和/或晶状体位置的变化，手术伤口愈合等的原因，大约有 一半的白内障患者在手术以后如果不经过矫正，就不会有最佳的视 力。[参考文献：Brandser等，Acta Ophthalmol Scand 75：162-165 (1997)；Oshika等，J.Cataract Refract Surg 24：509- 514(1998)]。由于以前人工晶体一旦被植入眼内就不能被矫正，患者 就必须用另一个具有不同功能的晶体来代替植入的人工晶体，或者用 如眼镜或隐形眼镜等其它矫正装置。由于前者的危险性通常超过其好 处，因此几乎不被采用。
最近，一种新的人工晶体被公布出来，这种新晶体的特征是在手 术后能够矫正其光学属性。这种术后矫正能够使患者获得最佳视力。 在外界刺激下(比如光)，晶体特定区域的可变组分(MC)聚合，实 现术后矫正。通过特定区域MC聚合，晶体的光学性能可调整到期望的 光学性能。然而，为了防止光学属性进一步改变，晶体的剩余MC也都 聚合，从而使其光学属性被“锁定”。
不幸的是，这阻止了在以后时间里晶体的进一步调节。例如，当 晶体植入给孩子，晶体没法重新调解来补偿由于年龄增加等原因引起 的视力的改变。这种情况下，患者需要在更换晶体手术和使用其他矫 正工具(如眼镜)之间进行选择。
因此，需要一种能够多次调解其光学性能的人工晶体。
发明概要
本发明涉及一种光学元件，它的光学性能在生产出来以后能够改 变，并且可以多次调节。在一个具体实施方案中，提供的人工晶体的 光学性能在植入后能够多次调节。
这种元件光学性质的调节是通过局部刺激分散在光学元件中可变 成份(“MC”)的聚合实现的。当MC在特定区域聚合时，元件的光学 性质改变，其实现是由于聚合发生的地方元件反射率的改变，或元件 形状的改变，或两者都有。本发明关键的一个方面就是元件光学性能 的改变是通过元件物质的增加或减少实现的。
如上所述，MC的聚合是受刺激引发的。通常的，这是指光聚合； 然而，其他的外部刺激也可以使用。刺激引发的聚合是在一种或多种 引发剂存在时产生的，当处在适当的刺激下时，引发剂诱导或引发MC 的聚合。
本发明涉及引发剂引发MC聚合的条件控制。已经发现通过使用不 同的刺激吸收物质和引发剂化合物，聚合反应产生的条件是可以控制 的。因此，可以控制在通常的环境中元件碰到的任何外部刺激条件下 都不产生MC的聚合。
附图说明
图1是光强与波长的关系图，给出了自然光水平和美国国家准标 学会最大允许暴露值(ANSIMPE)的水平。
图2是紫外吸收与本发明实际应用中紫外吸收剂和引发物对应波 长的关系图。
图3是本发明中部分光学元件的横截面。
图4是本发明中的光学元件在紫外光照射下的横截面。
图5是本发明的光学元件的一部分在紫外光下照射以后的一个横 截面。
发明详述
本发明涉及的光学元件，在使用寿命以内，其光学性能可以连续 改变或调节。这种调节是通过自身带有的系统实现的，不需要对元件 增加或减少物质。
发明范围内的典型光学元件包括：数据存储元件，包括压缩盘、 数字视频盘；晶体，包括但不限于柔性焦距晶体；隐形眼镜，人工晶 体；玻璃，棱镜等等。在优选实施方案中，光学元件是一种人工晶体。
光学元件的准备通常是从第一种聚合物基质开始的。这个聚合物 基质提供了元件的形状以及它的物理性质，如硬度、弹性等。
光学元件也含有一种分散在其中的MC。这种MC可能是单一的化合 物或化合物的组合，能够在诱导引发下聚合，优选光聚合。
第一种聚合物和MC的性质将根据光学元件的最终用途改变。然 而，作为一般规律，第一种聚合物基质和MC的选择要使包含MC的组 分能够分散在第一种聚合物基质内。另一种方法是，松散的第一种聚 合物基质倾向于配以较大的MC组分补偿，而紧密的第一种聚合物基质 倾向于配以较小的MC组分补偿。
在适当能量照射下(如，热和光)，光学元件被照射部分的MC通常 形成第二种聚合物基质。光学元件中第二种聚合物基质的存在能改变 光学元件该部分的材料性质，以调整它的折射能力。通常，第二种聚 合物基质的形成总会增加光学元件受影响那部分的折射率。照射后， 没有照射部分的MV会随时间的变化而移动到照射的部分。MC迁移到照 射部分的量是依赖于时间的，可以精确控制。如果时间总够长，MC组 分会在整个光学元件(如包括照射部分的第一种聚合物基质)内重新 达到平衡并重新分布。当被照射的部分重新在能量源下照射，来已经 迁移到这部分的MC(可能少于MC达到重新平衡时的量)会聚合，进一 步增加第二种聚合物基质的形成。这个过程(照射后间歇适当时间进 行扩散)可能需要重复，直到光学元件被照射部分达到了期望的性能 (如，能量，折射率，或形状)。此时，因为有紫外吸收物质的存在， 不会再发生进一步的聚合，直到光学元件在特殊的波长和光强下照射 聚合才会发生。因此，对于人工晶体，在自然光及相似光照下照射， 晶体不会有进一步的改变。如果需要调节，例如年龄增加或病人健康 变化，晶体可以在适当能源下照射得到调节。
第一种聚合物基质是一种具有光学元件功能的共价或物理连接的 结构，是由第一种聚合物基质组分(FPMC)形成的。通常，第一种聚 合物基质组分包含一种或多种单体，通过聚合形成第一种聚合物基 质。第一种聚合物基质组分任选包括大量的辅助组分，可以调节聚合 反应或改善光学元件的性能。合适的FPMC单体的例子包括：丙烯酸系、 甲基丙烯酸酯类、磷腈、硅氧烷、乙烯基化合物及其均聚物和共聚物。 这里使用的“单体”指任何单元(本身可能是均聚物或共聚物)，能够 连接在一起形成同一重复单元的聚合物。如果FPMC单体是个共聚物， 它可能由同一类型的单体组成(如，两种不同的硅氧烷)，也可能由 不同类型的单体组成(如，硅氧烷和丙烯酸)。
在一个具体实施方案中，在MC存在时，一种或多种单体聚合并交 叉连接形成第一种聚合物基质。另一个具体实施方案中，在MC存在时， 聚合原料交联形成第一种聚合物基质。这两种情况下，MC组分必须适 合于第一种聚合物基质的形成，而不能有明显的干涉。类似地，第二 种聚合物基质的形成也要适合于已存在的第一种聚合物基质。换而言 之，第一种聚合物基质和第二种聚合物基质不能处在不同相，光学元 件的光传导不能受到影响。
如前所述，MC可以是单一组分和多种组分，只要符合：(i)适合 第一种聚合物基质的形成；(ii)第一种聚合物基质形成后，还能够 在刺激诱导下聚合；(iii)在第一种聚合物基质中自由分散。在优选 实施方案中，刺激诱导聚合是光诱导聚合。
通常，有两种类型的人工晶体(“IOLs”)。第一种类型的人工晶 体取代眼睛的自然晶体。采取这种方式的最普遍的原因是白内障。第 二种类型的人工晶体是修补已存在的晶体及其功能，成为永久的矫正 晶体。这种晶体(有时更倾向于成为晶状体人工晶体)被植入眼睛前 室或后室来矫正眼睛的任何折射错误。理论上讲，这两种人工晶体达 到正常眼所需的强度(即，远处的光线能够很好的聚焦在视网膜上) 都能够精确的计算出来。但实际上，由于角膜曲率计算的失误和/或晶 体位置及伤口愈合的不同，估计在所有接受IOL移植的病人中只有大 约一半人能够享受可能的最好视觉，而不需要手术后另外的矫正。因 为前现有技术的IOLS通常不能调节手术后的视力，剩下的病人必须采 取其他的视力矫正办法，如外部晶体(如眼镜或隐形眼镜)或角膜手 术。使用本发明的人工晶体就能够避免需要这些另外的矫正方法。
本发明的人工晶体包括第一种聚合物基质和分散在其中的MC。以 上详述的第一种聚合物基质和MC还有另一个要求，即它们得到的晶体 要具有生物适应性。
举例说明，第一种聚合物基质包括如下物质：聚丙烯酸酯，如聚 烷基丙烯酸酯和聚羟烷基丙烯酸酯；聚甲基丙烯酸酯，如聚甲基丙烯 酸甲酯(PMMA)，聚羟基乙基甲基丙烯酸酯(PHEMA)和聚羟丙基甲基 丙烯酸酯(HPMA)；聚乙烯化合物，如聚苯乙烯和聚乙烯吡咯烷酮 (NVP)；聚硅氧烷，如聚二甲基硅氧烷；聚磷腈和其共聚物。美国专 利4,260,725和其文中引证的专利和文献(在此一并参考)提供了较 多详细的适合用于形成第一种聚合物基质的聚合物。
在优选的实施方案中，第一种聚合物基质通常具有较低的玻璃转 变温度(Tg)，这样会使结果得到的IOL具有类似于流体和/或人造橡 胶的性能。实际应用中，当弹性重要时(如，人工晶体或隐形眼镜)， Tg通常要求低于25℃，优选低于20℃。当硬度重要时，Tg要求很高， 如25-50℃。
第一种聚合物基质通常是由一种或多种聚合引发物质交联形成 的，每个聚合原料包括至少一个能交联基团。举例说明，适合的交联 基团包括但不限于以下基团：氢化物、乙酰氧基、烷氧基、氨基、酸 酐、芳氧基、羧基、ENOXY、环氧基、卤素、异氰基、烯基和8-羟基 喹啉。在优选实施方案中，每个聚合原料都包括终端单体(也被成为 封端物)，与组成聚合原料的一个或多个单体或者相同，或者不同， 但都至少包括一个交联的基团。换言之，终端单体开始并结束聚合原 料，包括至少一个交联基团作为其结构的一部分。虽然对于本发明的 实际应用不是必须的，但本发明中聚合原料的交联的机理优选不同于 包含MC组分受刺激引发聚合的机理。例如，如果MC受光引发聚合， 那么具有交联基团的聚合原料优选通过除了光诱导聚合以外的其他机 理聚合。
聚硅氧烷(也称为硅树酯)是一类特别优选的用于形成第一种聚 合基质的聚合原料，封端的终端单体包括交联基团，从以下基团中选 择：乙酰氧基、氨基、烷氧基、卤素、羟基和巯基。因为硅树酯IOLS 比较柔软，可折叠，通常在IOL移植过程中可以采用更小的切口。特 别优选的聚合原料是双(二乙酰氧基甲基甲硅烷基)-聚二甲基硅氧 烷(它是由二乙酰氧基甲基甲硅烷基终端单体封端的聚二甲基硅氧 烷)。
用于制造IOLs的MC除了如上所述的特点，还要求其具有生物适 应性。MC能够在刺激下引发聚合，可以是单组分或多组分，只要：(i) 它能够适应第一种聚合物基质形成；(ii)在第一种聚合物基质形成 后，它仍能够受刺激引发聚合；如(iii)它能够在第一种聚合物基质 中自由分散。通常，用于形成第一种聚合物基质的同一类型单体可以 作为MC的组分。然而，由于要求MC单体必须能够分散到第一种聚合 物基质中，MC单体通常比形成第一种聚合物基质的单体小(即，具有 较低的分子量)。除了一种或多种单体，MC可能包括其他组分，如引 发剂和感光剂，用于形成第二种聚合物基质。
因为优先选择具有弹性和可折叠的IOLs，特别优先选择的MC单体 是聚硅氧烷，以具有光聚合基团的硅氧烷为终端。用于说明这个单体 的一个代表是：
X-Y-X1
其中，Y是硅氧烷，可以是单体，均聚物或共聚物，由大量的硅氧烷单 元构成，X和X1可以相同或不同，每个都独立地是具有光聚合基团的 终端硅氧烷结构。
说明Y的例子包括：

和

其中，m和n是彼此独立的整数，R1，R2，R3，R4各自独立地，是氢、 烷基(一级，二级，三级，环状)，芳基或杂芳基。在优选实施方案 中，R1，R2，R3，R4是C1-C10的烷基或苯基。因为发现当MC单体具有相 对高的芳基含量时，晶体的折射率变化较大，通常优选R1，R2，R3，R4 至少有一个是芳基，特别是苯基。在更优选的实施方案中，R1，R2，R3 相同，为甲基、乙基或丙基，而R4为苯基。
X和X1(或X1和X，根据MC聚合物的书写)分别举例说明如下：
和
其中，R5和R6彼此独立的是氢、烷基、芳基或杂芳基；Z是光聚合基团。
在优选实施方案中，R1和R6各自独立地是C1-C10的烷基或苯基，Z 是包含选自从以下基团的部分的光聚合基团：丙烯酸酯、烯丙氧基、 肉桂酰基、甲基丙烯酸酯、对乙酰氨苯(STIBENYL)和乙烯基。在更 优选实施方案中，R5和R6是甲基、乙基或丙基，Z是光聚合基团，包括 丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯部分。
在特别优选实施方案中，MC单体具有以下分子式：

其中，X和X1是相同的，R1，R2，R3和R4定义如前所述。这种MC单体 的例子包括：二甲基硅氧烷-二苯基硅氧烷共聚物，以乙烯基二甲基 硅烷为终端；二甲基硅氧烷-甲基苯基硅氧烷共聚物，以甲丙烯酰氧 基丙基二甲基硅烷为终端；虽然有许多合适的方法可以应用，但发现 在有三氟甲磺(TRIFLIC)酸存在时，具有一个或多个环状硅氧烷的开环反 应是生产一类MC单体最有效的方法。简单的说，这个方法包括在三氟 甲磺酸存在条件下，一个环状硅氧烷与以下分子式连接：
和
其中R5，R6和Z定义如前所述。环状硅氧烷可以是环状硅氧烷单体、 均聚物或共聚物。或者，可以使用多种环状硅氧烷。例如，环状二甲 基硅氧烷四聚物和环状甲基苯基硅氧烷三聚物与双甲基丙烯酰氧基丙 基四甲基二硅氧烷连接，在有三氟甲磺酸存在条件下形成二甲基-硅氧 烷甲基-苯基硅氧烷共聚物，以甲基丙烯酰氧基丙基二甲基硅烷为终 端，是特别优选的MC单体。
如上讨论，刺激引发聚合需要有引发剂存在。引发剂暴露在特殊 刺激下时，诱导或引发MC聚合。在优选实施方案中，引发剂是光引发 剂。光引发剂也可以和感光剂联用。在实际发明应用中，适合的光引 发剂是苯乙酮(如取代的卤代苯乙酮和二乙氧基苯乙酮)；2，4-二氯 甲基-1，3，5-三嗪；安息香甲醚；和对苯酰肟酮。
合适的感光剂包括p-(二烷基氨基醛)；n-灶基二氢(-1，1-) 亚吲哚；和双[p-(二烷基氨基)亚苄基]丙酮。
可以选择地，本发明的MC可包含基于具有下式的单体的多功能的 丙烯酸酯，通常具有以下分子式：
X—(A)m—Q—(A)m—X1
X-(A)n-(A1)m-Q-(A)m-(A1)n-X1
其中，Q是基于丙烯酸酯化合物，用来生成丙烯酸酯单体；A和A1相同 或不同，通常具有以下结构

其中，R7和R8是烷基、卤代烷基、芳基、卤代芳基，X和X1包含能够 刺激引发聚合迁移的部分，优选光聚合基团，N和M是整数。
在具体实施方案中，大分子单体具有以下的通式结构：

其中，R9，R10和R11独立地选自，从以下基团：烷基、卤代烷基、芳基 和卤代芳基，n和m是整数；X和X1定义如前所述。
发明的另一个关键组分是吸收刺激化合物。这些化合物决定了引 发MC聚合的外部刺激的水平。
在优选实施方案中，吸收刺激的化合物是一种吸收光的物质，更 优选紫外吸收剂。本发明中使用的紫外吸收剂包括具有以下结构的苯 并三唑化合物，及其混合物：

其中X选自H、优选含1-大约6个碳原子的烷氧基和卤素。R1选自H 和烃基基团，优选含1-约8个碳原子的基团，条件是X和R1至少有 一个不是H；R2是有机基团，优选有末端双键的烯基。烷氧基优选甲基 和含4-约6个碳原子的t-烷基。本发明的组分含有共价键的紫外吸收 组分，能够吸收大约300-400nm的紫外线。
对于光吸收剂，本发明中实际应用的优选光引发剂是紫外敏感的 光引发剂。特别优选的光引发剂是x-烷基/安息香，通常具有以下分 子式或结构：

其中，R1是H，烷基，芳基，取代烷基或取代芳基；R2是H，烷基，芳 基，取代烷基或取代芳基；R3和R4是苯基或取代苯基。R4和R2的具体 例子包括甲基，苯基三氟丙基，乙基和氰丙基。R3和R4基团中苯基取 代基包括烷基、烷氧基、卤素、烷基芳基、氰烷基，卤代烷基和N，N- 二烷基氨基。发明中实际应用的光引发剂包括：Irgacure819， Irgacure184，Irgacure369和Irgacure651，Ciba Specialty Chemicals Inc.都有出售。由于光学元件要求透明，因此Irgacure651 是优选的。
发明中实际使用的光引发剂具有两个由短的聚合骨架连接的引发 剂。这样的化合物是安息香聚二甲基硅氧烷安息香(B-pdm-B)，其中 两个安息香基由二甲基硅氧烷桥连接。化合物的通式为：

这些化合物的合成在美国专利No.4,477,326中详细描述，它们的 合成参考美国实际合成经验。
紫外吸收剂和引发剂的相对含量根据特定应用对吸收程度的要求 而定。通常，光引发剂与紫外吸收剂的比例为约6:1到约25:1。通 常，光引发剂与紫外吸收剂的相对含量可通过以下公式计算：
cosT＝A＝∈1b1c1+∈2b2c2
其中，T为能见度，A为吸光率，∈为紫外吸收剂的消光系数，b1为光 的通路长度，c1为紫外吸收剂的浓度。∈2，b2，c2是光引发剂的相 应定义。实际应用中发现，实际的吸收通常比期望值低，因此使用量 通常至少为计算量的1.5倍。
光引发剂和紫外吸收剂与聚合物、单体或大分子单体通过聚合或 交联在一起。一个方案是，光引发剂与大分子单体结合。另一个方案 是光引发剂在混合物中保持自由。
以上的说明是以紫外为基础的引发剂和吸收剂，同样的规律也可 以应用到其他引发剂/吸收剂的结合中。例如，引发剂可以由红外辐射 激发。这种情况下，必须用吸收红外的化合物来控制激发。对于其他 的刺激源也如此，如光。
本发明光学元件的一个最大优点是在生产以后可以调节元件的性 能。例如，对于IOL调节可以在移植入眼内以后进行。例如，由于角 膜计算的缺陷和/或晶状体位置的变化和伤口愈合等原因引起的强度 计算上的错误，可以在门诊病人手术后进行调节。另外，对于病人随 时间产生的身体变化的矫正也可以进行。
除了改变元件折射率外，现已发现第二种聚合物刺激引发的形 成，会以预知的方式通过改变元件形状影响元件强度。例如，一个实 施方案中，第二种聚合物基质的形成改变了这个光学元件的热力学平 衡。这种改变反过来促进了MC迁移，它又反过来引起晶体曲率的改变。 结果说明，这两种机理都可以用来调节移植入眼睛后IOL的性能，如 强度。通常，发明一个具有第一种聚合物基质和分散在其中MC的光学 元件，包括以下方面：
(a)至少有一部分光学元件在刺激下能引发MC聚合。如果元件具 有期望的最初性能，这一步可以跳过；
(b)确定所需或期望的光学性能的改变；
(c)至少有一部分光学元件在刺激下能引发MC聚合，改变元件的 光学性能；
(d)等待一段时间；
(e)评估元件的性能。
在外部刺激之后，元件需要再次接受刺激，直到得到期望的光学 性能。
在另一种实施方案中，光学元件性能需要调节，调节元件的方法 包括：
(a)光学元件的第一部分接受刺激，引发MC聚合；
(b)将晶体的第二部分暴露在刺激下。
虽然可能交叉，但第一个元件部分和第二个元件部分代表晶体的 不同部分。本方法可以任选在第一元件部分和第二元件部分照射之间 停留一段时间。另外，本方法可以进一步包括再次照射第一元件部分 和/或第二元件部分任意次数(有或没有在照射之间的间隔时间)或进 一步刺激元件其他部分(如，第三元件部分，第四元件部分等)。
通常，一部分或多部分照射部分的定位根据需矫正的折射误差类 型确定。例如，在一个方案中，IOL接受刺激部分是晶体中心部分的光 区(例如，在直径约4mm和5mm之间)。或者，一部分和或部分晶体接 受刺激可以沿着IOL外边缘或沿着顶点。在另一个方案中，眼镜晶体 的不同部分能在刺激下产生双焦点的眼镜晶体。在优选实施方案中， 刺激是光。在更优选实施方案中，光源来自激光。
只要得到了期望的矫正，不需要进一步刺激以“锁定”形状和性 能。吸收化合物的存在会阻止元件的进一步改变，直到元件受到适当 频率和强度的刺激。这就使光学元件在最初调整完成后可以使用，如 果需要，光学性能可以在原处再次调节。对于人工晶体，这意味着在 最初调节后，由于年龄等原因，病人可以在晶体寿命内回来进一步调 节。在另一个实施方案中，生产的眼镜其矫正性质可以重复调节，避 免了因为病人视力改变而需要新晶体。
通过如紫外线外部刺激的定点使用，MC能够在光学元件特定部分 聚合迁移。这包括第二种基质深度的控制和基质相对于元件中心位置 的定位。图3和图5说明了这个内容。
图3显示了本发明的光学元件的交叉区域的一部分，显示了第一 种聚合基质11和分散在其中的可改变组分12。
图4反映了在预设方式、时间和强度下光学元件在紫外光下的照 射。照射部分的紫外吸收剂阻止了MC的聚合，直到超过紫外吸收剂的 吸收水平。然后，抑制剂被引发，MC聚合形成第二种聚合物基质。然 而，基质的形成只有超过了紫外吸收剂吸收能力时才产生。通过限制 紫外光下照射的时间和强度能够限制第二种聚合物基质的深度。图5 代表了这样一个受限基质的形成。第二种聚合物基质的扩散只有通过 光学元件的光学性能与未改变部分不同实现。光学元件进一步在紫外 光下照射就可以进一步改变光学性能。
如上面说明的，这些调节可以在最初调节，也可以在几个星期或 几年后调节。因此，当使用者在一段时间后需要调节时，光学性能的 调节不需要手术或类似方式。
光学元件可再次调节的性质也能产生新的数据存储设备。通过控 制发现的第二种聚合基质的区域，就能记录三维数据，在以后时间里 增加或改变储存的数据。
虽然已经详述了本发明及其优点，应当理解这里可以做许多变 化、取代和更改，而不偏离下面权利要求中定义的本发明的实质和范 围。而且，本发明应用的范围不应当被限制在具体说明的特别实施方 案中，如过程、机械、生产、物质组成、工具、方法或步骤。因为本 领域的普通技术人员从本发明公开的内容可很快领会现有的过程、机 械、生产、物质组成、工具、方法或步骤或以后发展，根据这里描述 的相应实施方案，可以获得非常一致的功能或非常一致的结果。因此， 下述权利要求期望在它的范围内包括过程、机械、生产、物质组成、 工具、方法或步骤。
实施例
下面以举例的方式列举本发明的实施例，但这些例子并没有以任 何方式限制本发明的范围。
在下表中准备一系列硅氧烷板作为反射用。在对照试验中，A部分 包括硅酮聚合物硅酮MED6820。B部分则由硅酮6820与催化剂铂-二 乙烯基四甲基二硅氧烷络合物的混合物组成。A和B部分在分别脱气除 去任何气体后混合在一起，然后再将混合物脱气并且放入一个1毫米 厚的模板里，反应条件为压力1000psi和温度40度的情况下保持大约 48小时。
试验部分除了改进组分的混合外，其它步骤和对照试验都一样， 首先准备紫外吸收剂和紫外引发剂，然后加入A部分。表1列出了各 组分的比例。改进成份(如表1所列的CalAdd)是甲基丙烯酸酯封端 的二甲基硅氧烷和联苯硅氧烷的共聚物，数均分子量为700到1000之 间。
在下面所列的表里，所用的引发剂通常包括下面的化合物： Irganox651(市售的紫外引发剂，由Ciba Specialty Chemicals公 司生产)；引发剂B-pdms-B是一种具有双安息香结构的混合物，它具 有下面的结构通式：

其中n的范围为2-28之间，而B-L4-B具有相同的通式结构，除n＝2 的情况。这些引发剂优选用在那些透明度非常重要的情况，例如光学 元件。而在透明度不是非常重要的情况下，使用别的引发剂如 Irgacure369就可以。另外，引发剂使用的关键在于其在期望的波长 范围内引发，并且不会超过安全规定的标准强度。
在下表描述的实验中，所用的紫外线吸收化合物是紫外线吸收材 料(UVAM)，这是一种市售的吸收剂。优选使用UVAM，其它紫外吸收剂 也可以使用。
在表1所列的实验中，聚合板如上所述制备后，把它照射在波长 为365纳米的光下，时间为30-120分钟，强度为0-8毫瓦/平方厘米。 通过聚合板部分的紫外线传递和吸收由差示光热分析仪确定，并且在 表中列出10％的透光度和ΔH(聚合反应热)。



本申请提出要求优先权，本优先权根据2001.10.28提出的美国申 请第60/344,182号及2002.12.19日提出的美国申请第______号。
发明概要