隐形眼镜清洗装置

申请号 CN201610111331.1 申请日 2016-02-26 公开(公告)号 CN105527729A 公开(公告)日 2016-04-27
申请人 朱坚豪; 发明人 朱坚豪; 李丁; 闫明; 杨芝燕; 吴利文;
摘要 本 发明 所公开的一种隐形眼镜清洗装置,上 外壳 的一侧边与下外壳的一侧边相互铰接,清洗中座扣合于下外壳上的开口 位置 ,清洗中座与下外壳之间的内部形成容置室,容置室内设有 控制器 和电源,控制器与电源电连接,清洗中座的顶部设有清洗槽,清洗槽的内 侧壁 上嵌设有搅动机构和清洗发生器,搅动机构和清洗发生器的连接端贯穿清洗槽底部与控制器电连接。本发明的隐形眼镜清洗装置利用搅动机构、清洗发生器和清洗发生器上的若干凸点在清洗槽内与护理液进行配合工作,使得护理液中产生具有活性的 氧 化物,其中蛋白在 电场 环境中会向 电极 泳动,最后搅动机构搅动护理液,达到镜片与镜片上的杂质、 蛋白质 沉积、粘液、油渍等秽物进行分离并带走,提高使用效果。
权利要求

1.一种隐形眼镜清洗装置,包括上外壳(2)、下外壳(1)和清洗中座(3),其特征在于:所述上外壳(2)的一侧边与下外壳(1)的一侧边相互铰接,所述清洗中座(3)扣合于下外壳(1)上的开口位置,并且清洗中座(3)与下外壳(1)之间的内部形成容置室(13),该容置室(13)内设有控制器(9)和电源(6),该控制器(9)与电源(6)电连接,所述清洗中座(3)的顶部设有清洗槽(14),该清洗槽(14)的内侧壁上嵌设有搅动机构(5)和清洗发生器(4),并且搅动机构(5)和清洗发生器(4)的连接端贯穿清洗槽(14)底部与控制器(9)电连接。
2.根据权利要求1所述的隐形眼镜清洗装置,其特征在于:所述清洗发生器(4)以片为基体,该铜片上与隐形眼镜护理液直接接触的一侧面设有若干的凸点(41),并且带有凸点(41)的铜片上层。
3.根据权利要求2所述的隐形眼镜清洗装置,其特征在于:所述银层上镀有惰性金属层。
4.根据权利要求1所述的隐形眼镜清洗装置,其特征在于:所述控制器(9)包括控制芯片(15)、稳压单元(16)、搅动机构工作指示灯(10)、发生器工作指示灯(11)、开关控制器(12)、电源输出模(17)和发生器电源输出模块(18),所述电源(6)与控制芯片(15)连接,所述清洗发生器(4)与发生器电源输出模块(18)连接,所述搅动机构(5)与电源输出模块(17)连接,该稳压单元(16)与搅动机构工作指示灯(10)连接,该搅动机构工作指示灯(10)与发生器工作指示灯(11)连接,并且稳压单元(16)、搅动机构工作指示灯(10)和发生器工作指示灯(11)同时与控制芯片(15)连接,该电源输出模块(17)与搅动机构工作指示灯(10)连接,该发生器电源输出模块(18)与发生器工作指示灯(11)连接,该开关控制器(12)同时与稳压单元(16)、搅动机构工作指示灯(10)与电源输出模块(17)之间的连接线路、发生器工作指示灯(11)与发生器电源输出模块(18)之间的连接线路连接。
5.根据权利要求4所述的隐形眼镜清洗装置,其特征在于:所述搅动机构(5)包括搅动架(51)、螺旋桨(53)和电机(52),该电机固定于搅动架上,该螺旋桨(53)固定于电机(52)的转轴上,并且电机(52)与电源输出模块连接(17)。
6.根据权利要求5所述的隐形眼镜清洗装置,其特征在于:所述开关控制器(12)、搅动机构工作指示灯(10)和发生器工作指示灯(11)均贯穿并置于清洗中座(3)的顶部。
7.根据权利要求1所述的隐形眼镜清洗装置,其特征在于:所述下外壳(1)的底部设有向内部凸起的固定座(8),所述下外壳(1)的底部设有固定座(8)的开口,所述电源(6)置于固定座(8)内部,并且固定座(8)的开口位置盖合有底盖(7)。
8.根据权利要求1所述的隐形眼镜清洗装置,其特征在于:所述清洗中座(3)呈内嵌式固定于下外壳(1)的开口位置。

说明书全文

隐形眼镜清洗装置

技术领域

[0001] 本发明涉及一种用于洗净并还原隐形眼镜的隐形眼镜清洗装置。

背景技术

[0002] 有相当多近视的人们,为了美观或行动方便,选择使用隐形眼镜。然而,隐形眼镜长期使用后会造成蛋白沉积,使镜片失去透性能,配戴后会造成眼膜的损伤,因此,当隐形眼镜配戴一定时间后,必须加以清洗,以供再次使用。
[0003] 目前隐形眼镜最常使用的清洗方式,是将隐形眼镜的镜片分别放入隐形眼镜清洗盒的两个容器内,分别注入清洁药,再以手指揉搓,以清除隐形眼镜镜片上的灰尘、蛋白质沉积、粘液、油渍等秽物,维持镜片的透氧率。然而,上述清洗方式容易因手指的不洁而无法达到良好的效果,且在清洁的过程中,相当耗费时间。
[0004] 目前市面上还存在一些隐形眼镜清洗装置,采用声波、加热型电磁搅拌器、紫外线或臭氧等方式,然而:1)清洗隐形眼镜的超声波频率需高达100KHz以上,镜片易受物理破坏,且对电路与频率之间的匹配性要求较高,生产成本也较高;2)加热型电磁搅拌器利用电磁原理加热搅拌,添加清洁剂使该镜片的粘着物分离,加热温度高有误触烫伤及损伤镜片的可能性;3)紫外线对细菌有强大的杀伤,臭氧则是一种良好的氧化剂及消毒剂,但无法完全去除附着在镜片上的粘着物。
[0005] 现有技术中所研发出的隐形眼镜清洗装置有:专利公开号为CN102053390A的一种隐形眼镜清洗装置和专利公开号为CN204925539U的一种隐形眼镜还原仪,其上述中所公开的专利其结构均包括一个壳体、一个置放于该壳体内的电路板、两个分别电连接于该电路板的导电件及一个电连接于该电路板并用以启动所述导电件的电力启动件,其中,所述导电件会与位于壳体下方的清洗单元内的清洁剂接触导通形成通电回路而将隐形眼镜上的粘着物带走,以完成洗净作业。然而这种清洗装置在使用过程中仅通过导电件形成通电回路与清洗槽内的护理液配合工作,其存在多种问题:1)护理液产生氧化的反应较弱;2)护理液的活性较差;鉴于上述存在的问题,使得现有技术中的隐形眼镜清洗装置在将隐形眼镜镜片上的灰尘、蛋白质沉积、粘液、油渍等秽物分离并带走的效果较差,并且镜片清洗后镜片的透氧率较低,影响了使用效果。

发明内容

[0006] 本发明的目的是为了解决上述技术的不足而设计的一种与护理液能产生强烈的氧化反应,提高护理液活性和使用效果的隐形眼镜清洗装置。
[0007] 本发明所设计的隐形眼镜清洗装置,包括上外壳、下外壳和清洗中座,所述上外壳的一侧边与下外壳的一侧边相互铰接,所述清洗中座扣合于下外壳上的开口位置,并且清洗中座与下外壳之间的内部形成容置室,该容置室内设有控制器和电源,该控制器与电源电连接,所述清洗中座的顶部设有清洗槽,该清洗槽的内侧壁上嵌设有搅动机构和清洗发生器,并且搅动机构和清洗发生器的连接端贯穿清洗槽底部与控制器电连接。
[0008] 进一步,所述清洗发生器可以片为基体,该铜片上与隐形眼镜护理液直接接触的一侧面设有若干的凸点,并且带有凸点的铜片上可层,其中银离子具有高效的杀菌效果,灭菌率可达到百分之97.5。
[0009] 进一步,所述银层上镀有惰性金属层。
[0010] 进一步,所述控制器包括控制芯片、稳压单元、搅动机构工作指示灯、发生器工作指示灯、开关控制器、电源输出模和发生器电源输出模块,所述电源与控制芯片连接,所述清洗发生器与发生器电源输出模块连接,所述搅动机构与电源输出模块连接,该稳压单元与搅动机构工作指示灯连接,该搅动机构工作指示灯与发生器工作指示灯连接,并且稳压单元、搅动机构工作指示灯和发生器工作指示灯同时与控制芯片连接,该电源输出模块与搅动机构工作指示灯连接,该发生器电源输出模块与发生器工作指示灯连接,该开关控制器同时与稳压单元、搅动机构工作指示灯与电源输出模块之间的连接线路、发生器工作指示灯与发生器电源输出模块之间的连接线路连接。
[0011] 进一步,所述搅动机构包括搅动架、螺旋桨和电机,该电机固定于搅动架上,该螺旋桨固定于电机的转轴上,并且电机与电源输出模块连接。
[0012] 进一步,所述开关控制器、搅动机构工作指示灯和发生器工作指示灯均贯穿并置于清洗中座的顶部。
[0013] 进一步,所述下外壳的底部设有向内部凸起的固定座,所述下外壳的底部设有固定座的开口,所述电源置于固定座内部,并且固定座的开口位置盖合有底盖。
[0014] 进一步,所述清洗中座呈内嵌式固定于下外壳的开口位置。
[0015] 本发明所设计的隐形眼镜清洗装置利用搅动机构、清洗发生器和清洗发生器上的若干凸点在清洗槽内与护理液进行配合工作,首先,通电的清洗发生器和若干凸点作为护理液的催化剂,使得护理液中产生具有活性的氧化物,以致产生微量的过氧化氢、臭氧等氧化物,其中蛋白在电场环境中会向电极泳动,达到镜片上的杂质、蛋白质沉积、粘液、油渍等秽物与镜片进行分离;其次,搅动机构在护理液中进行搅动,通过搅动机构上的螺旋桨将镜片上的杂质、蛋白质沉积、粘液、油渍等秽物带走,进一步护理液在清洗发生器的作用下还可产生大量的氯化钠,并且护理液更具活性,提高了清除镜片上的杂质、蛋白质沉积、粘液、油渍等秽物的使用效果。附图说明
[0016] 图1是实施例1的整体结构示意图;
[0017] 图2是实施例1的控制器整体结构示意图;
[0018] 图3是实施例1的搅动机构结构示意图;
[0019] 图4是实施例1的清洗发生器结构示意图。
[0020] 图中:下外壳1、上外壳2、清洗中座3、清洗发生器4、搅动机构5、电源6、底盖7、固定座8、控制器9、搅动机构工作指示灯10、发生器工作指示灯11、开关控制器12、容置室13、清洗槽14、控制芯片15、稳压单元16、电源输出模块17、发生器电源输出模块18。

具体实施方式

[0021] 下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
[0022] 实施例1:
[0023] 如图1所示,本实施例所描述的隐形眼镜清洗装置,包括上外壳2、下外壳1和清洗中座3,所述上外壳2的一侧边与下外壳1的一侧边相互铰接,所述清洗中座3扣合于下外壳1上的开口位置,并且清洗中座3与下外壳1之间的内部形成容置室13,该容置室13内设有控制器9和电源6,该控制器9与电源6电连接,所述清洗中座3的顶部设有清洗槽14,该清洗槽14的内侧壁上嵌设有搅动机构5和清洗发生器4,并且搅动机构5和清洗发生器4的连接端贯穿清洗槽14底部与控制器9电连接;利用搅动机构5和清洗发生器4在清洗槽14内与护理液进行配合工作,首先,通过控制器9通电清洗发生器4形成通电回路,而通电的清洗发生器4作为护理液的催化剂,此时,电能分别输送给负极电极板和正极电极板,并且电荷会聚在各电极板上彼此相对的负极凸出物和正极凸出物上,因此负极凸出物和正极凸出物之间的电解剧烈地产生氧化物,使得护理液中产生具有活性的氧化物,如氢氧剂(OH-),通过电解导致的氧化物的形成和杀菌过程由下列步骤完成:(1)臭氧的产生:*2(O)ads→O2、(O)ads+O2→- -
O3,(2)2H2O+2e→H2+2OH ,(3)M(生物)→电吸附→失活、M(微生物)+OH·→失活,从而使得对隐形眼镜上的病毒和细菌进行清洗、消毒和杀菌,其中蛋白在电场环境中会向电极泳动达到镜片上的杂质、蛋白质沉积、粘液、油渍等秽物与镜片进行分离;其次,再通电启动搅动机构5在护理液中进行搅动,从而将镜片上的杂质、蛋白质沉积、粘液、油渍等秽物带走;
进一步护理液在清洗发生器通电的作用下还可产生微量的过氧化氢、臭氧等氧化物,并且护理液更具活性的作用。
[0024] 在本实施例中通过所述清洗发生器4以铜片为基体,该铜片上与隐形眼镜护理液直接接触的一侧面设有若干的凸点41,并且带有凸点41的铜片上可镀有银层,其银离子具有高效的杀菌效果,灭菌率可达到百分之97.5,达到了清洗发生器4通电与护理液反应后具有更加快速和强烈的清洗、消毒和杀菌作用;为了防止银层与水接触而导致银层极易氧化,所以银层上镀有惰性金属层,或者在铜片上以外包的形式进行包层后再镀上惰性金属层,其惰性金属层为层或铂层。
[0025] 在本实施例中通过所述控制器9包括控制芯片15、稳压单元16、搅动机构5工作指示灯、发生器工作指示灯11、开关控制器12、电源输出模块17和发生器电源输出模块18,所述电源6与控制芯片15连接,所述清洗发生器4与发生器电源输出模块18连接,所述搅动机构5与电源输出模块17连接,该稳压单元16与搅动机构工作指示灯10连接,该搅动机构工作指示灯10与发生器工作指示灯11连接,并且稳压单元16、搅动机构工作指示灯10和发生器工作指示灯11同时与控制芯片15连接,该电源输出模块17与搅动机构工作指示灯10连接,该发生器电源输出模块18与发生器工作指示灯11连接,该开关控制器129同时与稳压单元16、搅动机构工作指示灯10与电源输出模块17之间的连接线路、发生器工作指示灯11与发生器电源输出模块18之间的连接线路连接,起到控制清洗发生器4和搅动机构5之间先后通电启动的顺序的作用,并且当清洗发生器4启动工作时发生器工作指示灯11亮,当搅动机构
5启动工作时搅动机构工作指示灯10亮,同时控制器9中的控制电路使用稳压单元16使得电流电压更加稳定。
[0026] 在本实施例中通过所述搅动机构5包括搅动架51、螺旋桨53和电机52,该电机52固定于搅动架51上,该螺旋桨53固定于电机52的转轴上,并且电机52与电源输出模块17连接,搅动护理液时使用螺旋桨53能更方便的带走镜片上的杂质、蛋白质沉积、粘液、油渍等秽物,并且螺旋桨53的搅动力较为均匀。
[0027] 在本实施例中通过所述开关控制器12、搅动机构工作指示灯10和发生器工作指示灯11均贯穿并置于清洗中座3的顶部,便于使用者开启控制器9进行控制清洗发生器4和搅动机构5的工作,并且清洗发生器4和搅动机构5的工作时可直接在清洗中座3上得知清洗发生器4和搅动机构5工作状态,提高实用性能。
[0028] 在本实施例中通过所述下外壳1的底部设有向内部凸起的固定座8,所述下外壳1的底部设有固定座8的开口,所述电源6置于固定座8内部,并且固定座8的开口位置盖合有底盖7,使得整体清洗装置的结构较为小巧和紧凑,便于携带。
[0029] 在本实施例中通过所述清洗中座3呈内嵌式固定于下外壳1的开口位置,使得结构更具紧凑性,固定更牢固。
[0030] 本发明不局限于上述最佳实施方式,任何人在本发明的启示下都可得出其他各种形式的产品,但不论在其形状或结构上作任何变化,凡是具有与本申请相同或相近似的技术方案,均落在本发明的保护范围之内。
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