1.一种具有结构化表面的制品，所述结构化表面限定具有平面内轴的参考平面，所述结构化表面包括被布置到多个瓦中的多个立体角阵列，所述制品包括：
由各自的第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列限定的第一瓦、第二瓦和第三瓦，所述第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列具有各自的第一入射倾斜度初级平面、第二入射倾斜度初级平面和第三入射倾斜度初级平面，每个所述入射倾斜度初级平面相对于所述平面内轴的取向不同，其中所述入射倾斜度初级平面是指以取向角ω进行限定的入射面，在所述入射面中等亮度轮廓图表现出最大程度的瓣；
其中所述第一瓦、第二瓦和第三瓦各自包括一个平行于所述平面内轴的瓦边缘；并且其中每个所述第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列包括一个平行于所述平面内轴的给定的沟槽。
2.根据权利要求1所述的制品，其中所述第一瓦、第二瓦和第三瓦在平行于所述平面内轴的方向上都是细长的。
3.根据权利要求1所述的制品，其中对于每个所述第一瓦、第二瓦和第三瓦来说，所述给定的沟槽是限定纵向沟槽间距的多个纵向沟槽中的一个纵向沟槽，并且每个所述第一瓦、第二瓦和第三瓦具有与所述各自的纵向沟槽间距的整数倍相等的宽度。
4.根据权利要求3所述的制品，其中所述第一瓦、第二瓦和第三瓦的宽度各自在0.2mm到5mm的范围内。
5.根据权利要求3所述的制品，其中所述第一瓦、第二瓦和第三瓦的宽度各自在0.2mm到1mm的范围内。
6.根据权利要求3所述的制品，其中所述第一瓦、第二瓦和第三瓦的宽度各自在0.5mm到1mm的范围内。
7.根据权利要求1所述的制品，其中所述多个瓦包括除了所述第一瓦、第二瓦和第三瓦之外的额外的瓦，所述额外的瓦具有对应的额外的立体角阵列，所有的所述额外的立体角阵列包括一个平行于所述平面内轴的给定的沟槽。
8.根据权利要求1所述的制品，其中每个所述第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列中的立体角是倾斜的且特征在于具有一组有序基本角的基三角形，并且其中所述第一立体角阵列和第二立体角阵列的所述两组有序基本角是彼此相等的，并且所述第一立体角阵列和第三立体角阵列的所述两组有序基本角是彼此的重排。
9.根据权利要求1所述的制品，其中每个所述第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列中的立体角是倾斜的且特征在于具有一组有序基本角的基三角形，并且其中所述第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列的所述三组有序基本角是彼此相等的。
10.根据权利要求9所述的制品，其中所述多个瓦还包括由第四立体角阵列限定的第四瓦，所述第四立体角阵列具有不平行于所述第一入射倾斜度初级平面、第二入射倾斜度初级平面或第三入射倾斜度初级平面中的任一个的第四入射倾斜度初级平面，并且其中所述第四立体角阵列中的立体角是倾斜的且特征在于具有一组有序基本角的基三角形，所述一组有序基本角是所述第一立体角阵列的所述一组有序基本角的重排。
11.根据权利要求10所述的制品，其中所述第四瓦在平行于所述平面内轴的方向上是细长的，并且所述第四立体角阵列包括一个平行于所述平面内轴的纵向沟槽。
12.根据权利要求1所述的制品，其中所述多个立体角阵列中的所有立体角阵列具有各自的入射倾斜度初级平面，所述入射倾斜度初级平面限定相对于所述平面内轴的至少4个独特的取向。
13.根据权利要求12所述的制品，其中与所述至少4个独特的取向相关的所述立体角阵列各自包括一个平行于所述平面内轴的纵向沟槽且特征在于各自的多组有序基本角，此多组有序基本角中的每两组有序基本角或者是彼此相等的或者是彼此的重排。
14.根据权利要求12所述的制品，其中所述入射倾斜度初级平面限定相对于所述平面内轴的至少5个独特的取向。
15.根据权利要求14所述的制品，其中与所述至少5个独特的取向相关的所述立体角阵列特征在于各自的多组有序基本角，此多组有序基本角中的每两组有序基本角或者是彼此相等的或者是彼此的重排。
16.根据权利要求14所述的制品，其中所述入射倾斜度初级平面限定相对于所述平面内轴的至少6个独特的取向。
17.根据权利要求16所述的制品，其中与所述至少6个独特的取向相关的所述立体角阵列特征在于各自的多组有序基本角，此多组有序基本角中的每两组有序基本角或者是彼此相等的或者是彼此的重排。
18.根据权利要求1所述的制品，其中所述第一瓦和第二瓦具有沿边界会合的瓦边缘，并且其中所述第一瓦上的靠近所述边界的一排立体角的面和所述第二瓦上的靠近所述边界的一排立体角的面共同地形成复合沟槽，所述复合沟槽平行于所述平面内轴。
19.根据权利要求18所述的制品，其中所述复合沟槽具有复合沟槽角，所述复合沟槽角与所述第一立体角阵列的所述给定的沟槽的沟槽角不同，并且也与所述第二立体角阵列的所述给定的沟槽的沟槽角不同。
20.根据权利要求1所述的制品，其中所述结构化表面提供至少4的在30°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为所述取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
21.根据权利要求1所述的制品，其中所述结构化表面提供至少5的在30°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为所述取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
22.根据权利要求1所述的制品，其中所述结构化表面提供至少6的在30°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为所述取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
23.根据权利要求1所述的制品，其中所述结构化表面提供至少2的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为所述取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
24.根据权利要求1所述的制品，其中所述结构化表面提供至少3的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为所述取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
25.根据权利要求1所述的制品，其中所述结构化表面提供至少4的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为所述取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
26.根据权利要求1所述的制品，其中所述结构化表面提供至少5的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为所述取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
27.一种具有结构化表面的制品，所述结构化表面包括被布置到对应的多个瓦中的多个立体角阵列，所述结构化表面限定具有平面内轴的参考平面，所述多个瓦中的每个瓦的立体角阵列具有给定的沟槽组，所述给定的沟槽组的沟槽平行于所述平面内轴延伸，所述多个瓦中的每个瓦的立体角阵列具有与其相关的倾斜平面和入射倾斜度初级平面，并且其中所述多个瓦的入射倾斜度初级平面中的独特的入射倾斜度初级平面与所述倾斜平面中的独特的倾斜平面相比更均匀地分布在方位角中。
28.根据权利要求27所述的制品，其中所述入射倾斜度初级平面中的独特的入射倾斜度初级平面具有最小角距PhiMin1，并且所述倾斜平面中的独特的倾斜平面具有最小角距PhiMin2，并且其中PhiMin1大于PhiMin2。
29.根据权利要求27所述的制品，其中PhiMin1是PhiMin2的至少2倍。
30.根据权利要求27所述的制品，其中所述瓦具有各自的宽度，所述各自的宽度在
0.2mm到5mm的范围内。
31.根据权利要求27所述的制品，其中每个瓦的所述给定的沟槽组是此瓦的纵向沟槽组。
32.根据权利要求27所述的制品，其中所述结构化表面具有分别与所述立体角阵列中的N个独特的立体角阵列相关的N个独特的入射倾斜度初级平面，并且其中N是4、5或6。
33.根据权利要求27所述的制品，其中所述多个瓦包括第一瓦、第二瓦和第三瓦，所述第一瓦、第二瓦和第三瓦包括各自的第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列，所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列具有与其相关的各自的第一倾斜平面、第二倾斜平面和第三倾斜平面，所述第一倾斜平面、第二倾斜平面和第三倾斜平面中没有哪两个是彼此平行的。
34.根据权利要求33所述的制品，其中对于所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列中的每个倾斜立体角阵列来说，所述给定的沟槽组是限定纵向沟槽间距的纵向沟槽组，并且所述第一瓦、第二瓦和第三瓦中的每个瓦具有与所述各自的纵向沟槽间距的整数倍相等的宽度。
35.根据权利要求27所述的制品，其中所述结构化表面提供至少4的在30°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
36.根据权利要求27所述的制品，其中所述结构化表面提供至少5的在30°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
37.根据权利要求27所述的制品，其中所述结构化表面提供至少6的在30°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
38.根据权利要求27所述的制品，其中所述结构化表面提供至少2的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
39.根据权利要求27所述的制品，其中所述结构化表面提供至少3的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
40.根据权利要求27所述的制品，其中所述结构化表面提供至少4的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
41.根据权利要求27所述的制品，其中所述结构化表面提供至少5的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
42.根据权利要求27所述的制品，其中所述多个瓦在平行于所述平面内轴的方向上都是细长的。
43.一种具有结构化表面的制品，所述结构化表面限定具有平面内轴的参考平面，所述结构化表面被分割成多个瓦，所述制品包括：
包括各自的第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列的第一瓦、第二瓦和第三瓦，所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列具有与其相关的各自的第一倾斜平面、第二倾斜平面和第三倾斜平面，所述第一倾斜平面、第二倾斜平面和第三倾斜平面中没有哪两个是彼此平行的；
其中所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列中的立体角特征在于具有各自的第一组有序基本角、第二组有序基本角和第三组有序基本角的基三角形；
其中所述第一组有序基本角和第二组有序基本角是彼此相等的；
其中所述第一组有序基本角和第三组有序基本角是彼此的重排；并且
其中所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列中的每个倾斜立体角阵列具有沟槽组，所述沟槽组的沟槽平行于所述平面内轴延伸。
44.根据权利要求43所述的制品，其中所述沟槽组的沟槽平行于其各自的瓦的边缘延伸。
45.根据权利要求43所述的制品，其中所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列中的每个倾斜立体角阵列由相互交叉的三组平行的沟槽限定以形成立体角。
46.根据权利要求43所述的制品，所述制品还包括：
包括第四倾斜立体角阵列的第四瓦，所述第四倾斜立体角阵列具有与其相关的第四倾斜平面，所述第四倾斜平面不平行于所述第一倾斜平面、第二倾斜平面或第三倾斜平面中的任一个。
47.根据权利要求46所述的制品，其中所述第四阵列特征在于具有第四组有序基本角的基三角形，所述第四组有序基本角与所述第三组有序基本角是相同的。
48.根据权利要求43所述的制品，其中所述结构化表面提供至少4的在30°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
49.根据权利要求43所述的制品，其中所述结构化表面提供至少5的在30°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
50.根据权利要求43所述的制品，其中所述结构化表面提供至少6的在30°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
51.根据权利要求43所述的制品，其中所述结构化表面提供至少2的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
52.根据权利要求43所述的制品，其中所述结构化表面提供至少3的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
53.根据权利要求43所述的制品，其中所述结构化表面提供至少4的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。
54.根据权利要求43所述的制品，其中所述结构化表面提供至少5的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。