弯曲显示装置及其制造方法 |
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| 申请号 | CN201410788494.4 | 申请日 | 2014-12-17 | 公开(公告)号 | CN104730773B | 公开(公告)日 | 2019-08-16 |
| 申请人 | 三星显示有限公司; | 发明人 | 任完淳; 邢庸宇; | ||||
| 摘要 | 本 发明 公开了一种弯曲显示装置及其制造方法。弯曲显示装置包括：显示基底，在平面图中沿第一方向弯曲，并且包括显示区域和外周区域，显示区域包括被构造为显示图像的多个 像素 ，外周区域邻近于显示区域设置；相对基底，面对显示基底，相对基底结合到显示基底并沿着显示基底在第一方向上弯曲；灰度级控制层，设置在显示基底与相对基底之间；结合构件，设置在外周区域中，设置在显示基底与相对基底之间并且被构造为将显示基底结合到相对基底，结合构件包括沿第一方向延伸并包括光阻挡材料的第一密封部分。 | ||||||
| 权利要求 | 1.一种弯曲显示装置，所述弯曲显示装置包括： |
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| 说明书全文 | 弯曲显示装置及其制造方法技术领域[0002] 本发明涉及一种图像显示装置及其制造方法。更具体地说，本发明涉及一种具有弯曲的形状的弯曲显示装置和一种制造该弯曲显示装置的方法。 背景技术[0004] 在LCD的各种操作模式中的垂直取向(VA)模式LCD中，当在两个基底之间产生电场时，液晶层的液晶分子相对于两个基底垂直地取向，垂直地取向的液晶分子透射光，从而显示图像。VA模式LCD包括使液晶分子沿不同的方向取向所需的液晶畴，因此改善了LCD的视角。 [0005] 近年来，已经开发出了弯曲LCD。弯曲LCD向用户提供弯曲的显示面板，因此弯曲LCD向用户提供具有改善了的三维(3D)效果、临场感以及虚拟呈现的图像。 发明内容[0006] 本发明提供了一种能够有效地防止在其边缘处出现斑点并防止漏光的弯曲显示装置。 [0007] 本发明提供了一种制造弯曲显示装置的方法。 [0008] 本发明的实施例提供了一种弯曲显示装置，该弯曲显示装置包括：显示基底，在平面图中沿第一方向弯曲，并且包括显示区域和外周区域，显示区域包括被构造为显示图像的多个像素，外周区域邻近于显示区域设置；相对基底，结合到显示基底以面对显示基底，并沿着显示基底在第一方向上弯曲；灰度级控制层，设置在显示基底与相对基底之间；结合构件，设置在外周区域中，设置在显示基底与相对基底之间并且被构造为将显示基底结合到相对基底。结合构件包括沿第一方向延伸的第一密封部分，并且第一密封部分包括光阻挡材料。 [0009] 本发明的实施例提供了一种制造弯曲显示装置的方法，所述方法包括下述步骤：提供在平面图中沿第一方向弯曲的显示基底，所述显示基底包括显示区域和外周区域，显示区域包括被构造为显示图像的多个像素，外周区域邻近于显示区域设置；提供沿着显示基底在第一方向上弯曲的相对基底；在显示基底和相对基底中的一个上涂覆密封剂，以提供结合构件；将相对基底与显示基底组装；使密封剂固化，以将显示基底结合到相对基底； 在显示基底与相对基底之间设置灰度级控制层。结合构件包括沿第一方向延伸的第一密封部分，并且第一密封部分包括光阻挡材料。 [0010] 根据上文，当结合构件包括光阻挡材料时，增大了结合构件的宽度。结果，可以有效地防止在显示装置弯曲时由施加到结合构件的应力导致的边缘斑点。 [0011] 另外，当结合构件包括光阻挡材料时，改善了通过照射紫外(UV)光来使结合构件固化的固化工艺的设计自由度，并且可以有效地防止结合构件在其一部分中未固化。因此，可以有效地防止在结合构件的未固化部分中出现漏光。附图说明 [0012] 当结合附图考虑时，通过参照下面的详细描述，本发明的上述和其它优点将变得容易理解，在附图中： [0013] 图1A是示出根据本发明的弯曲显示装置的示例性实施例的透视图； [0014] 图1B是示出图1A中示出的弯曲显示装置的平面图； [0015] 图2是沿图1B的I-I'线截取的剖视图； [0016] 图3是示出根据本发明的弯曲显示装置的另一示例性实施例的平面图； [0017] 图4A是沿图3的II-II'线截取的剖视图； [0018] 图4B是沿图3的III-III'线截取的剖视图； [0019] 图5是示出根据本发明的弯曲显示装置的另一示例性实施例的剖视图； [0020] 图6是示出根据本发明的弯曲显示装置的另一示例性实施例的平面图； [0021] 图7是沿图6的IV-IV'线和V-V'线截取的剖视图； [0022] 图8是示出根据本发明的弯曲显示装置的另一示例性实施例的平面图； [0023] 图9是示出应力根据结合构件的宽度的变化的曲线图； [0024] 图10A是示出应力根据弯曲显示装置的曲率半径的变化的曲线图； [0025] 图10B是示出应力根据结合构件的宽度的变化的曲线图； [0026] 图11是示出根据本发明的弯曲显示装置的像素的示例性实施例的平面图； [0027] 图12是图11的剖视图； [0028] 图13是示出在像素区域中限定的畴以及液晶取向方向的图； [0029] 图14是示出根据本发明的弯曲显示装置的像素的另一示例性实施例的平面图； [0030] 图15是沿图14的VI-VI'线截取的剖视图； [0031] 图16是示出根据本发明的弯曲显示装置的制造工艺的示例性实施例的流程图。 具体实施方式[0032] 将理解的是，当元件或层被称作“在”另一元件或层“上”或者“连接到”或“结合到”另一元件或层时，该元件或层可以直接在另一元件或层上或者直接连接到或结合到另一元件或层，或者可以存在中间元件或中间层。相反，当元件或层被称作“直接在”另一元件或层“上”或者“直接连接到”或“直接结合到”另一元件或层时，不存在中间元件或中间层。同样的标号始终表示同样的元件。如在这里使用的，术语“和/或”包括一个或多个相关所列项的任意组合和全部组合。 [0033] 将理解的是，尽管在这里可使用术语第一、第二等来描述各种元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应该受这些术语的限制。这些术语仅是用来将一个元件、组件、区域、层或部分与另一个元件、组件、区域、层或部分区分开来。因此，在不脱离本发明的教导的情况下，下面讨论的第一元件、组件、区域、层或部分可被命名为第二元件、组件、区域、层或部分。 [0034] 为了方便描述，在这里可使用空间相对术语，如“在…之下”、“在…下方”、“下面的”、“在…上方”、“上面的”等，用来描述在图中所示的一个元件或特征与其它元件或特征的关系。将理解的是，空间相对术语意在包含除了在附图中描述的方位之外的装置在使用或操作中的不同方位。例如，如果在附图中的装置被翻转，则描述为“在”其它元件或特征“下方”或“之下”的元件随后将被定位为“在”其它元件或特征“上方”。因而，示例性术语“在…下方”可包括“在…上方”和“在…下方”两种方位。所述装置可被另外定位(旋转90度或者在其它方位)，并对在这里使用的空间相对描述符做出相应的解释。 [0035] 这里使用的术语仅为了描述特定实施例的目的，而不意图限制本发明。如这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式的“一个(种)”和“所述(该)”也意图包括复数形式。还将理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，说明存在所述特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。 [0036] 在这里使用的“大约”或“接近”包括了所述值，并且表示在针对具体值的可接受范围的偏差内，所述偏差是指本领域普通技术人员顾及到正在考虑的测量和与具体量的测量相关联的误差(即，测量系统的局限性)的情况下所确定的。例如，“大约”可以表示在所述值的一个或多个标准偏差之内，或者±30％、±20％、±10％、±5％之内。 [0037] 除非另有定义，否则这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员所通常理解的意思相同的意思。还将理解的是，除非这里明确定义，否则术语(例如在通用的字典中定义的那些术语)应该被解释为具有与相关领域的背景中它们的意思一致的意思，而不将理想地或者过于正式地解释它们的意思。 [0038] 在下文中，将参照附图详细地解释本发明。 [0039] 图1A是示出根据本发明的示例性实施例的弯曲显示装置的透视图，图1B是示出图1A中示出的弯曲显示装置的平面图。 [0040] 参照图1A和图1B，弯曲显示装置500具有弯曲的形状。弯曲显示装置500包括显示区域DA和与显示区域DA相邻地设置的外周区域PA。显示区域DA是显示图像的区域。外周区域PA被设置为围绕显示区域DA，外周区域PA是光无法穿过的区域。利用具有弯曲表面形状的显示区域DA，弯曲显示装置500可以显示具有改善了的三维(3D)效果、临场感以及虚拟呈现的图像。 [0041] 在示出的示例性实施例中，弯曲显示装置500包括显示基底100、相对基底200以及灰度级控制层(未示出)。相对基底200结合到显示基底100，同时面对显示基底100，灰度级控制层设置在显示基底100与相对基底200之间。 [0042] 虽然未在附图中示出，但是除了显示基底100和相对基底200之外，弯曲显示装置500还可以包括其它元件，例如，诸如设置在显示基底100后侧的用于产生光的背光单元以及用于向显示基底100提供驱动信号的驱动单元。 [0043] 在示出的示例性实施例中，当在平面图中观察时，弯曲显示装置500沿第一方向D1弯曲。因此，显示基底100的全部或一部分具有沿第一方向D1弯折的弯曲形状，并且显示区域DA具有沿着第一方向D1的弯曲表面形状。另外，相对基底200可以沿第一方向D1弯曲，以对应于显示基底100的弯曲形状。 [0044] 图2是沿图1B的I-I'线截取的剖视图。 [0045] 参照图1B和图2，弯曲显示装置500包括：显示基底100；相对基底200，面对显示基底100；灰度级控制层300，设置在显示基底100与相对基底200之间，以控制灰度级；结合构件350，设置在显示基底100与相对基底200之间，以结合显示基底100和相对基底200。 [0046] 结合构件350设置在外周区域PA中，以结合显示基底100和相对基底200。结合构件350沿外周区域PA设置以具有闭环形状。在示例性实施例中，外周区域PA对应于设置有结合构件350的区域。然而，在另一示例性实施例中，结合构件350的宽度W1比外周区域PA的宽度小。在示出的示例性实施例中，结合构件350包括光阻挡材料并设置在外周区域PA的整个区域上方。 [0049] 第一底基底110包括透明玻璃基底或透明柔性基底。第一底基底110具有沿如图1A中所示的第一方向D1的弯曲形状。多个像素在显示区域DA中设置在第一底基底110上。 [0050] 每个像素包括TFT 120和像素电极140。TFT 120用作开关器件，以开关施加到像素电极140的像素电压，TFT 120电连接到像素电极140。像素电极140被设置为与和它相邻的像素的像素电极电绝缘。因此，可以在每个像素中控制施加到像素电极140的电压。在示例性实施例中，例如，像素电极140包括诸如氧化铟锡(ITO)的透明导电氧化物(TCO)。 [0051] 有机绝缘层130被设置为使得每个像素具有红色R、绿色G或蓝色B。在示例性实施例中，有机绝缘层130可以包括透明材料，在这种情况下，可以在相对基底200上设置例如红色像素层、绿色像素层和蓝色像素层。 [0052] 相对基底200包括第二底基底210、黑色矩阵220、覆盖层230和共电极240。第二底基底210结合到第一底基底110，同时面对第一底基底110，第二底基底210包括与第一底基底110的材料相同的材料，以沿第一方向D1具有弯曲形状。 [0053] 黑色矩阵220在显示区域DA的局部区域中设置在第二底基底210上。具体地说，黑色矩阵220在显示区域DA的基本不显示图像的局部区域(例如，设置有TFT 120的区域或者设置有连接到像素的信号线的区域)中设置在第二底基底210上。在示例性实施例中，黑色矩阵220包括例如具有光阻挡性质的有机绝缘材料或诸如铬(Cr)的金属材料。 [0054] 如图2中所示，由于具有光阻挡性质的结合构件350设置在外周区域PA中，所以黑色矩阵220可以仅设置在显示区域DA中并且可以从外周区域PA中省略。 [0055] 覆盖层230设置在黑色矩阵220和第二底基底210上，以补偿黑色矩阵220与第二底基底210之间的台阶差。在示例性实施例中，覆盖层230包括透明的有机绝缘材料。 [0056] 虽然未在附图中示出，但是在相对基底200上设置有滤色器层的情况下，覆盖层230被设置为覆盖黑色矩阵220和滤色器层，以补偿黑色矩阵220与滤色器层之间的台阶差。 [0057] 共电极240设置在覆盖层230上。共电极240接收参考电压并与面对共电极240的像素电极140合作产生电场。因此，根据电场的强度来控制灰度级控制层300的透光率。在示例性实施例中，共电极240包括TCO，例如ITO。 [0058] 如图1A和图1B所示，当弯曲显示装置500沿第一方向D1弯曲时，应力被施加到设置在外周区域PA中的结合构件350。在下文中，将结合构件350的被设置为基本平行于第一方向D1的部分称作第一密封部分351，将结合构件350的被设置为基本平行于与第一方向D1基本垂直的第二方向D2的部分称作第二密封部分352。当弯曲显示装置500沿第一方向D1弯曲时，施加到第一密封部分351的应力相对地增大。当应力增大时，在结合构件350中出现光弹性现象(photoelasticity phenomenon)。因此，由于结合构件350的光弹性现象，会使得在外周区域PA的边缘处看到斑点。 [0059] 参照图2，应力随着结合构件350的宽度W1增大而减小。如图2中所示，当结合构件350包括光阻挡材料时，结合构件350可设置在外周区域PA的整个区域上方。因此，结合构件 350的宽度W1可以整体增大，并且可以防止在外周区域PA的边缘处出现由应力导致的斑点。 [0060] 另外，当结合构件350包括光阻挡材料时，可以省略设置在外周区域PA中的外周黑色矩阵。从而增大了设计用于通过照射紫外(UV)光来固化结合构件350的固化工艺的自由度。即，结合构件350可以通过由相对基底200提供的UV光来固化。另外，可以防止结合构件350的一些部分未固化，其中，这些部分未固化是在固化工艺过程中当UV光未被提供至结合构件350的这些部分时而造成的。当结合构件350未固化时，在外周区域PA中可能出现漏光，但是由于结合构件350包括光阻挡材料，所以可以防止由未固化的结合构件350导致的漏光。 [0061] 图3是示出根据本发明另一示例性实施例的弯曲显示装置的平面图，图4A是沿图3的II-II'线截取的剖视图，图4B是沿图3的III-III'线截取的剖视图。在图3、图4A和图4B中，相同的标号指示与图1A、图1B和图2中相同的元件，因此将省略对相同的元件的详细描述。 [0062] 参照图3和图4A，弯曲显示装置510包括显示区域DA和邻近于显示区域DA设置的外周区域PA。显示区域DA是显示图像的区域。外周区域PA被设置为围绕显示区域DA，外周区域PA是光无法穿过的区域。外周区域PA包括设置有结合构件350的密封线区域SA和设置有外周黑色矩阵250的黑色矩阵区域BA。 [0063] 另外，外周区域PA还可以包括焊盘区域PDA，其中，焊盘PD设置在焊盘区域PDA中以接收来自其外部的信号并将信号施加至显示区域DA。焊盘区域PDA可以沿弯曲显示装置510的一侧设置。焊盘区域PDA设置在密封线区域SA的外侧。具体地说，焊盘区域PDA限定在显示基底100中，并且焊盘区域PDA可以是显示基底100被暴露至外部而不面对相对基底200的区域。因此，设置在焊盘区域PDA中的焊盘PD暴露于外部并电连接到向弯曲显示装置510施加信号的驱动单元。 [0064] 外周黑色矩阵250设置在第二底基底210上。外周黑色矩阵250包括与设置在显示区域DA中的黑色矩阵220的材料相同的材料，并且通过同一工艺与黑色矩阵220一起基本同时地图案化。 [0065] 结合构件350包括光阻挡材料，并且结合构件350的宽度W2根据弯曲显示装置510的曲率半径来确定。具体地说，结合构件350的第一密封部分351的沿第二方向D2(该方向与弯曲显示装置510弯曲所沿的第一方向D1基本垂直)的宽度W2基于弯曲显示装置510的曲率半径来确定。因此，由弯曲形状导致的施加到第一密封部分351的应力减小，并且可以防止在边缘处出现由光弹性现象导致的斑点。 [0066] 当结合构件350的宽度W2确定时，将外周黑色矩阵250提供至外周区域PA，而不与结合构件350叠置。根据在结合构件350的固化工艺过程中是显示基底100还是相对基底200提供UV光来确定外周黑色矩阵250是否与结合构件350叠置。在由相对基底200提供UV光来固化结合构件350的情况下，外周黑色矩阵250被设置为不与结合构件350叠置，使得UV光入射到结合构件350。 [0067] 参照图4B，显示基底100包括用于将栅极信号施加到显示区域DA的栅极驱动电路150。通过与TFT 120相同的薄膜工艺来提供栅极驱动电路150。 [0068] 栅极驱动电路150设置在被外周黑色矩阵250覆盖的区域中，并且与密封线区域SA部分地叠置。具体地说，在通过由相对基底200提供的UV光来固化结合构件350的上部曝光工艺期间，即使栅极驱动电路150与结合构件350叠置，也防止结合构件350未被固化。 [0069] 图5是示出根据本发明的另一示例性实施例的弯曲显示装置的剖视图。 [0070] 参照图5，弯曲显示装置520的外周区域PA包括设置有结合构件350的密封线区域SA和设置有外周黑色矩阵125的黑色矩阵区域BA。 [0071] 外周黑色矩阵125设置在第一底基底110上。在外周黑色矩阵125设置在第一底基底110上的情况下，显示基底100还可以包括设置在显示区域DA中的黑色矩阵(未示出)。在示例性实施例中，黑色矩阵可以被设置为覆盖TFT 120和信号线。另外，外周黑色矩阵125可以包括与黑色矩阵的材料相同的材料，并且可以与黑色矩阵一起基本同时地图案化。 [0072] 在结合构件350被由相对基底200提供的UV光固化的情况下，由于外周黑色矩阵125设置在显示基底100上，所以外周黑色矩阵125与结合构件350叠置时不存在问题。 [0073] 在结合构件350被由显示基底100提供的UV光固化的情况下，由于外周黑色矩阵125设置在显示基底100上的黑色矩阵区域BA，所以外周黑色矩阵125被设置为不与结合构件350叠置。因此，可以防止结合构件350未固化。 [0074] 图6是示出根据本发明的另一示例性实施例的弯曲显示装置的平面图，图7是沿图6的IV-IV'线和V-V'截取的剖视图。 [0075] 参照图6和图7，弯曲显示装置530的结合构件350包括与第一方向D1平行地延伸的第一密封部分351和与第二方向D2平行地延伸的第二密封部分352。 [0076] 当弯曲显示装置530沿第一方向D1弯曲时，第一密封部分351包括光阻挡材料，第一密封部分351的宽度W1根据弯曲显示装置530的曲率半径来确定。因此，由于弯曲形状而施加到第一密封部分351的应力可以减小，并且可以防止在边缘处出现由光弹性现象导致的斑点。 [0077] 当弯曲显示装置530沿第一方向D1弯曲时，由弯曲形状导致的应力未被施加到第二密封部分352，或者在与施加到第一密封部分351的应力相比时，相对小的应力被施加到第二密封部分352。因此，在第二密封部分352的边缘处不出现斑点，并且第二密封部分352的沿第一方向D1的宽度W3不需要增大。为此，第二密封部分352可以包括透明材料，并且第一密封部分351的沿第二方向D2的宽度W1可以比第二密封部分352的沿第一方向D1的宽度W3大。 [0078] 如图7中所示，当第二密封部分352包括透明材料时，相对基底200还可以包括被设置为覆盖第二密封部分352的外周黑色矩阵250。 [0079] 在另一示例性实施例中，当在固化工艺期间从相对基底200提供UV光来固化结合构件350时，显示基底100可以包括被设置为对应于第二密封部分352的外周黑色矩阵(未示出)。 [0080] 图8是示出根据本发明另一示例性实施例的弯曲显示装置的平面图。 [0081] 参照图8，弯曲显示装置540的结合构件350包括与第一方向D1基本平行地延伸的第一密封部分351和与第二方向D2基本平行地延伸并结合到第一密封部分351的第二密封部分352。 [0082] 第一密封部分351包括光阻挡材料。另外，参照在平面图中横跨显示区域DA的中部并与第二方向D2基本平行的中心线CL，第一密封部分351可以具有不同的宽度。在示例性实施例中，第一密封部分351在中心线CL处具有最大宽度(即，宽度W5)。如图8中所示，当在平面图中观察时，第一密封部分351的沿第二方向D2的宽度随着与中心线CL的距离减小而增大。虽然未在附图中示出，但是第一密封部分351的沿第二方向D2的宽度可以以阶梯形状增大。在可选的示例性实施例中，当第一密封部分351被分为包括中心线CL的第一区域和除了第一区域之外的第二区域时，第一密封部分351在第一区域中的宽度W5可以被设定为比第一密封部分351在第二区域中的宽度W4大。 [0083] 当弯曲的显示装置540以中心线CL为基准沿第一方向D1弯曲时，第一密封部分351在中心线CL附近的区域中会被施加有最大的应力。因此，第一密封部分351在中心线CL附近的区域中的宽度W5被设定为比第一密封部分351在第一密封部分351的其它区域中的宽度大。 [0084] 第二密封部分352沿第一方向D1的宽度可以是均匀的而与其位置无关。 [0085] 图9是示出以兆帕(MPa)为单位测量的应力根据以毫米(mm)为单位测量的结合构件的宽度的变化的曲线图，图10A是示出以兆帕(MPa)为单位测量的应力根据以毫米(mm)为单位测量的弯曲显示装置的曲率半径的变化的曲线图，图10B是示出以兆帕(MPa)为单位测量的应力根据以毫米(mm)为单位测量的结合构件的宽度的变化的曲线图。 [0086] 参照图9，随着第一密封部分351的宽度增大，施加到第一密封部分351的应力的强度减小。当确定出在边缘处不造成斑点的应力的强度时，可以根据该应力的强度来设定第一密封部分351的宽度。在示例性实施例中，如图9中所示，当在每个产品中的边缘处不造成斑点的应力的强度被确定为小于大约10.4MPa时，第一密封部分351的宽度被设定为具有等于或大于大约1.2mm的值。 [0087] 在图10A中，第一曲线G1至第六曲线G6分别示出了当第一密封部分351具有大约0.5mm、大约0.8mm、大约1.0mm、大约1.2mm、大约2.0mm、和大约4.4mm的宽度时，应力根据曲率半径的变化。在图10B中，第七曲线G7至第十二曲线G12分别示出了当弯曲显示装置具有大约3200mm、大约3500mm、大约3800mm、大约4200mm、大约4700mm和大约5400mm的曲率半径时，应力根据第一密封部分351的宽度的变化。 [0088] 参照图10A和图10B，随着第一密封部分351的宽度增大，应力的强度减小。另外，随着曲率半径增大，应力的强度减小。因此，为了将应力的强度设定为预定值，优选地，随着曲率半径减小，增大第一密封部分351的宽度。 [0089] <表1> [0090] 0.5mm 0.8mm 1.0mm 1.2mm 2.0mm 4.4mm 3200mm 15.0MPa 13.9MPa 13.2MPa 13.0MPa 12.5MPa 11.1MPa 3500mm 13.5MPa 12.6MPa 12.1MPa 12.0MPa 11.4MPa 10.3MPa 3800mm 12.2MPa 11.4MPa 11.0MPa 10.9MPa 10.2MPa 9.2MPa 4200mm 11.0MPa 10.1MPa 9.9MPa 9.8MPa 9.2MPa 8.3MPa 4700mm 9.8MPa 9.0MPa 8.8MPa 8.6MPa 8.1MPa 7.2MPa 5400mm 8.2MPa 7.9MPa 7.5MPa 7.3MPa 7.0MPa 6.3MPa [0091] 参照表1，当在边缘处不造成斑点的最大临界应力被设定为大约10.4MPa时，以粗体字示出了根据曲率半径的第一密封部分351的允许宽度。根据表1，当第一密封部分351的宽度为大约4.4mm时，在曲率半径在大约3500mm到大约5400mm的范围内时，不出现边缘斑点。因此，根据本发明，当结合构件沿第一方向的曲率半径在大约3500毫米至大约5400毫米的范围内时，能够确保施加到第一密封部分的应力等于或小于大约10.4兆帕。 [0092] 当设定了弯曲显示装置500的曲率半径并且确定了不造成边缘斑点的最大临界应力时，可以获得第一密封部分351的宽度。当第一密封部分351包括光阻挡材料时，增大了在设计第一密封部分351的宽度时的自由度，从而防止出现由应力造成的边缘斑点。 [0093] 图11是示出根据本发明的示例性实施例的弯曲显示装置的像素的平面图，图12是图11的剖视图。 [0094] 弯曲显示装置500包括多个像素，但是在图11中仅示出了设置有一个像素的一个像素区域PA而将省略其它像素区域和像素。另外，图11示出了弯曲显示装置500的显示基底100的平面结构，图12中示出了弯曲显示装置500的剖视结构。 [0095] 参照图11和图12，弯曲显示装置500包括显示基底100、相对基底200和液晶层300。相对基底200结合到显示基底100且同时面对显示基底100，液晶层300设置在显示基底100与相对基底200之间。 [0096] 除了显示基底100和相对基底200之外，弯曲显示装置500还可以包括其它元件，弯曲显示装置500不应局限于上述元件。在示例性实施例中，弯曲显示装置500还可以包括向显示基底100和相对基底200提供光的背光单元(未示出)，然而，可以省略背光单元。 [0097] 显示基底100包括第一底基底100、栅极线GL、第一数据线DL1、第二数据线DL2、第一TFT TR1、第二TFT TR2、像素电极PE以及分隔件CS。 [0098] 栅极线GL设置在第一底基底110上，并且电连接到第一TFT TR1和第二TFT TR2，以将栅极信号施加到第一TFT TR1和第二TFT TR2。 [0099] 在示出的示例性实施例中，当设置有像素电极PE的区域被称作像素区域PA时，像素区域PA包括第一子像素区域PA1和第二子像素区域PA2。于是，像素电极PE包括设置在第一子像素区域PA1中的第一子像素电极PE1和设置在第二子像素区域PA2中的第二子像素电极PE2。 [0100] 第一数据线DL1和第二数据线DL2与栅极线GL绝缘并设置在第一底基底110上。第一数据线DL1将第一数据信号施加到第一TFT TR1，第二数据线DL2将第二数据信号施加到第二TFT TR2。在示例性实施例中，第一数据线DL1沿第一子像素电极PE1和第二子像素电极PE2的一侧(例如，左侧)延伸，第二数据线DL2沿第一子像素电极PE1和第二子像素电极PE2的另一侧(例如，右侧)延伸。因此，第一子像素电极PE1和第二子像素电极PE2设置在第一数据线DL1与第二数据线DL2之间。 [0101] 第一TFT TR1电连接到栅极线GL、第一数据线DL1和第一子像素电极PE1。当第一TFT TR1响应于栅极信号而导通时，第一数据信号被施加到第一子像素电极PE1。 [0102] 具体地说，第一TFT TR1包括第一栅极GE1、第一有源图案AP1、第一源极SE1和第一漏极DE1。第一栅极GE1从栅极线GL分支，第一有源图案AP1设置在第一栅极GE1上，同时使第一绝缘层L1(在下文中亦称作“栅绝缘层L1”)设置在第一栅极GE1与第一有源图案AP1之间。第一源极SE1从第一数据线DL1分支，以与第一有源图案AP1接触，第一漏极DE1与第一源极SE1分隔开，以与第一有源图案AP1接触。在示例性实施例中，第一源极SE1和第一漏极DE1分别设置在第一有源图案AP1的端部上。 [0103] 第二TFT TR2电连接到栅极线GL、第二数据线DL2和第二子像素电极PE2。因此，当第二TFT TR2响应于栅极信号而导通时，第二数据信号被施加到第二子像素电极PE2。 [0104] 具体地说，第二TFT TR2包括第二栅极GE2、第二有源图案AP2、第二源极SE2和第二漏极DE2。第二栅极GE2从栅极线GL分支，第二有源图案AP2设置在第二栅极GE2上，同时使第一绝缘层L1设置在第二栅极GE2与第二有源图案AP2之间。第二源极SE2从第二数据线DL2分支，以与第二有源图案AP2接触，第二漏极DE2与第二源极SE2分隔开，以与第二有源图案AP2接触。在示例性实施例中，第二源极SE2和第二漏极DE2分别设置在第二有源图案AP2的端部上。 [0105] 在示例性实施例中，第一有源图案AP1和第二有源图案AP2可以包括半导体材料，例如非晶硅、结晶硅等。然而，根据另一示例性实施例，第一有源图案AP1和第二有源图案AP2可以包括诸如以氧化铟锌镓(IGZO)、ZnO、SnO2、In2O3、Zn2SnO4、Ge2O3和HfO2为例的氧化物半导体或诸如以GaAs、GaP和InP为例的化合物半导体。 [0106] 第二绝缘层L2覆盖第一TFT TR1和第二TFT TR2，第三绝缘层L3设置在第二绝缘层L2上。在示例性实施例中，第二绝缘层L2可以包括无机绝缘材料，第三绝缘层L3可以包括有机绝缘材料。在示例性实施例中，第三绝缘层L3可以是包括例如红色像素、绿色像素和蓝色像素的滤色器层。 [0107] 第一子像素电极PE1通过穿透第二绝缘层L2和第三绝缘层L3的第一接触孔C1与第一漏极DE1接触。第二子像素电极PE2通过穿透第二绝缘层L2和第三绝缘层L3的第二接触孔C2与第二漏极DE2接触。 [0108] 如上所述，第一子像素电极PE1和第二子像素电极PE2被不同的数据信号驱动，从而分别在第一子像素区域PA1和第二子像素区域PA2中显示不同的灰度级。 [0109] 第一取向层AL1设置在第一子像素电极PE1和第二子像素电极PE2上。当在显示基底100与相对基底200之间未产生电场时，第一取向层AL1使液晶层300的液晶分子沿相对于第一取向层AL1倾斜的方向取向。然后，当产生电场时，相对于第一取向层AL1倾斜的液晶分子在电场的作用下进一步倾斜，因此，液晶分子沿基本平行于显示基底100的方向取向。通过电场驱动的液晶分子被称作超级垂直取向(SVA)模式，并且显示弯曲显示装置500的图像所需的响应时间得以改善。 [0110] 分隔件CS设置在第一取向层AL1上。由于分隔件CS，使得在显示基底100与相对基底200之间确保了空间，从而使液晶层300设置在显示基底100与相对基底200之间。 [0111] 参照图12，相对基底200包括第二底基底210、黑色矩阵220、覆盖层230、共电极240和第二取向层AL2。在示例性实施例中，第二底基底210可以包括具有透光性质和柔性性质的绝缘基底。 [0112] 共电极240与像素电极PE合作产生电场，以控制液晶层300。液晶层300的液晶分子根据像素电极PE与共电极240之间产生的电场来取向。共电极240接收共电压，第一子像素电极PE1和第二子像素电极PE2分别从第一数据线DL1和第二数据线DL2接收第一数据电压和第二数据电压。因此，电场被产生为具有对应于共电压与第一数据电压之间或者共电压与第二数据电压之间的电势差的强度，并且液晶层300的液晶分子根据电场的强度而重新取向，从而控制穿过液晶层300的光的透射率。 [0113] 提供到液晶层300的光可以由设置在显示基底100的后侧的背光组件(未示出)提供。 [0114] 图13是示出在像素区域中限定的畴和液晶取向方向的图。 [0115] 参照图11和图13，第一子像素电极PE1包括第一水平干部分HS1、第二水平干部分HS2、第一垂直干部分VS1、第二垂直干部分VS2、第一分支部分B1、第二分支部分B2、第三分支部分B3和第四分支部分B4。 [0116] 第一垂直干部分VS1和第二垂直干部分VS2中的每个沿第二方向D2延伸，第二方向D2与弯曲显示装置500弯曲所沿的第一方向D1交叉，即，当在平面图中观察时，第二方向D2可以与第一方向D1基本垂直。 [0117] 第一水平干部分HS1沿第一方向D1延伸并且从第一垂直干部分VS1的中心部分分支。因此，第一垂直干部分VS1和第一水平干部分HS1彼此结合，以提供在平面图中沿逆时针方向旋转了90度的T形形状。 [0118] 第一分支部分B1的一部分从第一水平干部分HS1分支，第一分支部分B1的其它部分从第一垂直干部分VS1分支。另外，第一分支部分B1中的每个沿第三方向D3延伸，并且第一分支部分B1彼此分隔开，其中，当在平面图中观察时，第三方向D3相对于第一方向D1和第二方向D2倾斜。 [0119] 第二分支部分B2的一部分从第一水平干部分HS1分支，第二分支部分B2的其它部分从第一垂直干部分VS1分支。另外，第二分支部分B2中的每个沿第四方向D4延伸，并且第二分支部分B2彼此分隔开，其中，当在平面图中观察时，第四方向D4相对于第一方向D1和第二方向D2倾斜。 [0120] 当在平面图中观察时，第四方向D4可以与第三方向D3交叉。在示例性实施例中，第三方向D3可以基本垂直于第四方向D4，第三方向D3和第四方向D4中的每个可以相对于第一方向D1或第二方向D2限定大约45度的角。 [0121] 第一分支部分B1与第二分支部分B2相对于第一水平干部分HS1对称，第一水平干部分HS1设置在第一畴DM1与第二畴DM2之间。 [0122] 第二水平干部分HS2沿第一方向D1延伸并且从第二垂直干部分VS2的中心部分分支。因此，第二垂直干部分VS2和第二水平干部分HS2彼此结合，以提供在平面图中沿顺时针方向旋转了90度的T形形状。 [0123] 第三分支部分B3的一部分从第二水平干部分HS2分支，第三分支部分B3的其它部分从第二垂直干部分VS2分支。另外，第三分支部分B3中的每个沿第五方向D5延伸，并且第三分支部分B3彼此分隔开，其中，当在平面图中观察时，第五方向D5相对于第一方向D1和第二方向D2倾斜。 [0124] 第四分支部分B4的一部分从第二水平干部分HS2分支，第四分支部分B4的其它部分从第二垂直干部分VS2分支。另外，第四分支部分B4中的每个沿第六方向D6延伸，并且第四分支部分B4彼此分隔开，当在平面图中观察时，第六方向D6相对于第一方向D1和第二方向D2倾斜。 [0125] 当在平面图中观察时，第六方向D6可以与第五方向D5交叉。在示例性实施例中，第五方向D5可以基本垂直于第六方向D6，第五方向D5和第六方向D6中的每个可以相对于第一方向D1或第二方向D2限定例如大约45度的角。 [0126] 第三分支部分B3与第四分支部分B4相对于第二水平干部分HS2对称，第二水平干部分HS2设置在第三畴DM3与第四畴DM4之间。 [0127] 在示例性实施例中，第二子像素电极PE2可以具有与第一子像素电极PE1的尺寸不同的尺寸，然而第二子像素电极PE2可以具有与第一子像素电极PE1的形状相似的形状。 [0128] 第二子像素电极PE2包括第三水平干部分HS3、第四水平干部分HS4、第三垂直干部分VS3、第四垂直干部分VS4、第五分支部分B5、第六分支部分B6、第七分支部分B7和第八分支部分B8。 [0129] 第三水平干部分HS3和第四水平干部分HS4沿第一方向D1延伸，第三垂直干部分VS3和第四垂直干部分VS4沿第二方向D2延伸。第三水平干部分HS3从第三垂直干部分VS3的中心部分分支，第四水平干部分HS4从第四垂直干部分VS4分支。在示例性实施例中，第三水平干部分HS3从第三垂直干部分VS3的中心部分分支，第四水平干部分HS4从第四垂直干部分VS4的中心部分分支。 [0130] 当在平面图中观察时，第五分支部分B5中的每个沿第三方向D3延伸，第五分支部分B5彼此分隔开。另外，第五分支部分B5的一部分从第三水平干部分HS3分支，第五分支部分B5的其它部分从第三垂直干部分VS3分支。 [0131] 当在平面图中观察时，第六分支部分B6中的每个沿第四方向D4延伸，第六分支部分B6彼此分隔开。另外，第六分支部分B6的一部分从第三水平干部分HS3分支，第六分支部分B6的其它部分从第三垂直干部分VS3分支。 [0132] 当在平面图中观察时，第七分支部分B7中的每个沿第五方向D5延伸，第七分支部分B7彼此分隔开。另外，第七分支部分B7的一部分从第四水平干部分HS4分支，第七分支部分B7的其它部分从第四垂直干部分VS4分支。 [0133] 当在平面图中观察时，第八分支部分B8中的每个沿第六方向D6延伸，第八分支部分B8彼此分隔开。另外，第八分支部分B8的一部分从第四水平干部分HS4分支，第八分支部分B8的其它部分从第四垂直干部分VS4分支。 [0134] 如图13中所示，在第一子像素区域PA1中限定有第一畴DM1至第四畴DM4，在第二子像素区域PA2中限定有第五畴DM5至第八畴DM8。 [0135] 另外，在第一子像素区域PA1中限定有第一畴DM1至第四畴DM4并且第二子像素区域PA2中限定有第五畴DM5至第八畴DM8的情况下，第一子像素电极PE1还包括第一畴连接部分LP1，第二子像素电极PE2还包括第二畴连接部分LP2。 [0136] 第一畴连接部分LP1设置在第二畴DM2与第三畴DM3之间，以连接第二分支部分B2和第三分支部分B3，第二畴连接部分LP2设置在第六畴DM6与第七畴DM7之间，以连接第六分支部分B6和第七分支部分B7。第一畴连接部分LP1可以设置在第二畴DM2与第三畴DM3之间的边界区域的中心处，第二畴连接部分LP2可以设置在第六畴DM6与第七畴DM7之间的边界区域的中心处。 [0137] 当液晶分子通过第一分支部分B1取向的区域被称作第一畴DM1时，第一畴DM1中的第一液晶取向方向DR1对应于第三方向D3。当液晶分子通过第二分支部分B2取向的区域被称作第二畴DM2时，第二畴DM2中的第二液晶取向方向DR2对应于第四方向D4。 [0138] 第三畴DM3中的第三液晶取向方向DR3对应于第五方向D5，第四畴DM4中的第四液晶取向方向DR4对应于第六方向D6。 [0139] 根据上文，沿第二方向D2顺序地布置的第一畴DM1至第四畴DM4设置在第一子像素区域PA1中，并且第一畴DM1至第四畴DM4中的液晶取向方向彼此不同。因此，可以加宽第一子像素区域PA1的视角。 [0140] 另外，沿第二方向D2顺序地布置的第五畴DM5至第八畴DM8设置在第二子像素区域PA2中，并且第五畴DM5至第八畴DM8中的液晶取向方向彼此不同。因此，可以加宽第二子像素区域PA2的视角。 [0141] 第一畴DM1至第八畴DM8沿第二方向D2布置在一个像素中。因此，防止由于在沿第一方向D1弯曲的弯曲显示装置500中出现错位而导致具有不同的液晶取向方向的畴彼此叠置，从而防止由于液晶分子的错位而导致的纹理缺陷。 [0142] 图14是示出根据本发明的另一示例性实施例的弯曲显示装置的像素的平面图，图15沿图14的VI-VI'线截取的剖视图。 [0143] 参照图14和图15，弯曲显示装置550包括显示基底100、面对显示基底100的相对基底200以及设置在显示基底100与相对基底200之间的液晶层300。 [0144] 显示基底100包括第一底基底110以及设置在第一底基底110上的第一栅极线GL1、第二栅极线GL2、第一数据线DL1和第二数据线DL2，其中，第一底基底110包括透明玻璃或塑料。 [0145] 第一栅极线GL1和第二栅极线GL2沿第一方向D1延伸并且沿基本垂直于第一方向D1的第二方向D2布置，同时彼此分隔开。第一数据线DL1和第二数据线DL2沿第二方向D2延伸并沿第一方向D1以预定的距离彼此分隔开。 [0146] 第一栅极线GL1和第二栅极线GL2通过栅绝缘层L1与第一数据线DL1和第二数据线DL2电绝缘。另外，第一数据线DL1和第二数据线DL2被第三绝缘层L3覆盖。 [0147] 如图14中所示，第一数据线DL1和第二数据线DL2中的每条具有相对于与第一栅极线GL1与第二栅极线GL2之间的中心部分交叉的中心线CL2对称的弯曲形状。第一数据线DL1和第二数据线DL2弯曲所朝向的方向可以以一行为单位变为反方向。 [0148] 显示基底100还包括在第一底基底110上与第一栅极线GL1平行地设置的第一存储线SL1和与第二栅极线GL2平行地设置的第二存储线SL2。 [0149] 显示基底100还包括设置在其上的TFT Tr、像素电极PE和共电极CE。具体地说，TFT Tr包括从第二栅极线GL2分支的栅极GE、包括第二数据线DL2的一部分的源极SE以及设置在栅极GE上同时与源极SE分隔开预定距离的漏极DE。漏极DE电连接到像素电极PE。 [0150] 作为示例性实施例，像素电极PE包括多个分支部分，分支部分在第一数据线DL1与第二数据线DL2之间沿第二方向D2延伸，并且分支部分沿第一方向D1布置。另外，每个分支部分具有相对于中心线CL2对称的弯曲形状。 [0151] 共电极CE设置在像素电极PE的上部或下部，共电极CE可以具有与由第一栅极线GL1、第二栅极线GL2、第一数据线DL1和第二数据线DL2限定的像素区域的尺寸对应的尺寸。然而，本发明不限于此，像素区域可以不由第一栅极线GL1、第二栅极线GL2、第一数据线DL1和第二数据线DL2限定。如图15中所示，共电极CE设置在像素电极PE下方。然而，共电极CE的位置不应限制于此或受此限制。即，在另一示例性实施例中，共电极CE可以设置在像素电极PE的上部。另外，共电极CE面对像素电极PE并且第四绝缘层L4设置在共电极CE与像素电极PE之间。 [0152] 作为示例性实施例，从第一存储线SL1延伸的存储电极TE电连接到共电极CE。因此，共电极CE可以接收施加到第一存储线SL1的存储电压作为参照电压。 [0153] 相对基底200包括第二底基底210以及设置在第二底基底210上的黑色矩阵220和覆盖层230，其中，第二底基底210包括透明玻璃或塑料。 [0154] 当栅极信号被施加到第二栅极线GL2时，TFT Tr响应于栅极信号而导通。施加到第二数据线DL2的数据电压通过导通的TFT Tr的漏极DE输出，并被施加到像素电极PE。 [0155] 施加有数据电压的像素电极PE与施加有参照电压的共电极CE合作产生电场，因此确定了设置在像素电极PE和共电极CE上的液晶层300中的液晶分子的取向。然后，穿过液晶层300的光的偏振根据液晶分子的取向方向而改变。 [0156] 像素电极PE和共电极CE利用液晶层300作为液晶电容器的介电物质而提供液晶电容器，从而在TFT Tr截止之后保持施加到它们的电压。另外，第一存储线SL1被设置为与像素电极PE和共电极CE叠置。因此，利用栅绝缘层L1、第三绝缘层L3和第四绝缘层L4作为存储电容器的介电物质，第一存储线SL1与像素电极PE和共电极CE一起提供存储电容器，以改善液晶电容器的电压保持能力。 [0157] 图16是示出根据本发明的示例性实施例的弯曲显示装置的制造工艺的流程图。 [0158] 参照图16，显示基底100的制造工艺包括第一操作S11至第七操作S17，相对基底200的制造工艺包括第一操作S21至第三操作S23。 [0159] 具体地说，为了制造显示基底100，在第一底基底110上设置栅极线GL、第一栅极GE1和第二栅极GE2(S11)。 [0160] 然后，在第一底基底110上设置第一绝缘层L1，以覆盖栅极线GL、第一栅极GE1和第二栅极GE2，在第一绝缘层L1上设置第一有源图案AP1和第二有源图案AP2(S12)。第一有源图案AP1和第二有源图案AP2可以被设置为分别面对第一栅极GE1和第二栅极GE2。 [0161] 在第一绝缘层L1上设置第一数据线DL1和第二数据线DL2，在第一有源图案AP1上设置第一源极SE1和第一漏极DE1，在第二有源图案AP2上设置第二源极SE2和第二漏极DE2(S13)。因此，在显示基底100上设置了第一TFT TR1和第二TFT TR2。 [0162] 在显示基底100上设置第二绝缘层L2，以覆盖第一TFT TR1和第二TFTTR2(S14)。在第二绝缘层L2上设置第三绝缘层L3(S15)。在示例性实施例中，第三绝缘层L3可以包括例如红色像素R、绿色像素G和蓝色像素B。 [0163] 在第三绝缘层L3上设置像素电极PE(S16)。像素电极PE包括第一子像素电极PE1和第二子像素电极PE2。在像素电极PE上设置分隔件CS(S17)。 [0164] 虽然未在附图中示出，但是可以在设置像素电极PE的步骤(S16)与设置分隔件CS的步骤(S17)之间设置第一取向层AL1(参见图12)。 [0165] 然后，为了制造相对基底200，在第二底基底210上设置黑色矩阵220(S21)。在结合构件350(参见图1B)包括光阻挡材料的情况下，可以仅在显示区域DA中设置黑色矩阵220(参见图1B)。 [0166] 设置覆盖层230以补偿黑色矩阵220与第二底基底210之间的阶梯差(S22)。在覆盖层230上设置共电极240(S23)。虽然未在流程图中示出，但是可以在共电极240上设置第二取向层AL2(参见图12)。 [0167] 当制造了显示基底100和相对基底200中的每个时，将黑色的密封剂涂覆在显示基底100和相对基底200中的一个上(S31)。密封剂用于提供结合构件350。如上所述，可以根据结合构件350的预定宽度来确定将被涂覆的密封剂的量。 [0168] 在涂覆了密封剂之后，将显示基底100与相对基底200组装(S32)。 [0169] 密封剂可以包括UV固化剂。因此，密封剂被照射到密封剂的UV光固化(S33)。这里，可以由显示基底100或相对基底200提供UV光。具体地，当密封剂包括光阻挡材料时，由于可以在外周区域PA(参见图1B)中省略黑色矩阵，所以可以通过从相对基底200照射的UV光来使密封剂固化。因此，设置了用于将显示基底100结合到相对基底200的结合构件350。 [0170] 然后，在显示基底100与相对基底200之间设置液晶层300(S34)。结果，完成了弯曲显示装置500。 |
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