气体供给管及热处理装置专利检索- 炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉专利检索查询-专利查询网

气体供给管及热处理装置
申请号	CN201480034939.8	申请日	2014-06-04	公开(公告)号	CN105324621B	公开(公告)日	2017-06-13
申请人	株式会社村田制作所;			发明人	濑川敦; 多田泰志; 松冈祥;
摘要	气体供给管(1)包含一端封闭、管壁具备沿长度方向排列的多个贯通孔(3)的外侧管(2)，以及一端与气体供给源相连、并插入至外侧管(2)的内部的内侧管(5)。由气体供给源提供的气体以如下路径流动：通过内侧管(5)，通过形成于外侧管(2)内部的外侧管(2)和内侧管(5)之间的间隙(7)，从外侧管(2)的多个贯通孔(3)释放到周围空间。所提供的气体在流过内侧管的期间、和流过外侧管(2)和内侧管(5)之间的间隙的期间，由传导至气体供给管(1)的周围空间的温度加热或冷却。内侧管(5)包含多个小管(5a)～(5d)的集合体。
权利要求	1.一种气体供给管，包括：一端封闭，管壁具备沿长度方向排列的多个贯通孔的外侧管；以及一端与气体供给源相连，且插入至所述外侧管的内部的内侧管，该气体供给管的特征在于，由所述气体供给源提供的气体以如下路径流动：通过所述内侧管，通过形成于所述外侧管的内部的所述外侧管和所述内侧管之间的间隙，从所述外侧管的多个贯通孔释放到所述气体供给管的周围空间，且在流过所述内侧管的期间和流过所述外侧管和所述内侧管之间的间隙的期间，由传导至所述气体供给管的周围空间的温度加热或冷却，所述内侧管包含多个小管的集合体。 2.如权利要求1所述的气体供给管，其特征在于，所述小管的内部插入有插入构件。 3.如权利要求1或2所述的气体供给管，其特征在于，所述小管的管壁的一部分朝向所述小管的中心轴线突出。 4.一种热处理装置，包括：具有被隔热壁所包围的内部空间的炉体；包含以露出至所述炉体的内部空间的方式配置的气体供给管的气体供给机构；以及对所述炉体的内部空间进行加热的加热机构，通过所述气体供给机构向所述炉体的内部空间提供气氛气体，利用加热机构在所述气氛气体环境下对被处理物进行加热，并对所述被处理物进行热处理，该热处理装置的特征在于，所述气体供给管是权利要求1至3的任一项所述的气体供给管。
说明书全文	气体供给管及热处理装置技术领域 [0001] 本发明涉及气体供给管和使用该气体供给管向炉体内部的被处理物提供气氛气体并进行热处理的热处理装置。背景技术 [0002] 为了获得以陶瓷电容器为代表的陶瓷电子元器件而实施的烧成等被处理物的热处理中广泛应用热处理装置，该热处理装置由气体供给单元来提供与其目的相对应的气氛气体。 [0003] 作为处理大量被处理物的热处理装置，可举出利用传送机构传送放置于装载构件的被处理物并连续进行处理的辊底炉、网带输送炉、及推杆式炉等连续炉。 [0004] 上述连续炉中，较多的情况下，气氛气体在预热后被提供到被处理物。气体供给单元包含气体供给管，该气体供给管配置为露出至由加热器所加热的炉体的内部空间。气氛气体的预热在流过以炉体的内部空间的温度加热后的气体供给管的内部的期间进行。 [0005] 作为一个示例，日本专利特开2012-225620号公报(专利文献1)中提出了如下方法：将配置于炉体内部的气体供给管设为由外侧管和内侧管构成的双重管，在气氛气体流过内侧管的期间和气氛气体流过双重管的间隙的期间，利用炉体的内部空间的温度来进行预热。 [0006] 图10A及图10B示出了专利文献1所记载的气体供给管101。外侧管102的管壁具有贯通孔103。内侧管105的管壁具有贯通孔110。外侧管102和内侧管105之间的间隙107中插入有衬套108，该衬套108用于将间隙107与炉体外部的气氛相隔绝，并利用外侧管102的内部支承内侧管105。 [0007] 外侧管102和内侧管105配置为内侧管105的贯通孔110的轮廓垂直投影到外侧管102的内壁面时的投影图像不会与外侧管102的贯通孔103重叠。 [0008] 气体供给管102配置于未图示的炉体内部，与炉体外部所具备的未图示的气体供给源相连接。 [0009] 对气体供给管101中气体的流动进行说明。从气体供给源提供给内侧管105的两端的气氛气体如箭头a所示那样流过内侧管105的内部106，在其中途，如箭头b所示那样从内侧管105的贯通孔110释放到间隙107。释放到间隙107的气氛气体如箭头c所示那样沿着外侧管102的内壁面流动，最终如箭头d所示那样从外侧管102的贯通孔103释放到炉内。 [0010] 气氛气体在流过内侧管105的内部106的期间和流过间隙107的期间，通过炉内温度而被预热。 [0011] 专利文献1中，上述气体供给管不需要多余的空间，能将均匀温度的气氛气体提供给被处理物。 [0012] 现有技术文献 [0013] 专利文献 [0014] 专利文献1：日本专利特开2012－225620号公报发明内容 [0015] 发明所要解决的技术问题 [0016] 专利文献1所记载的气体供给管中，流过内侧管105的内部106的气氛气体通过与内侧管105相接触而被加热。然而，流过内侧管105的内部106的中心轴线附近的气氛气体由于远离内侧管105的管壁而难以被加热。 [0017] 此外，从位于炉体外部附近的内侧管105的贯通孔110a、110g喷出到间隙107的气氛气体由于在内侧管105中流动的距离较短，因此与内侧管105接触的距离较短。因此，上述气氛气体特别可能预热不充分。 [0018] 即，专利文献1的热处理装置中，不能认为气氛气体的预热充分。上述情况随着所提供的气氛气体量增多而变得显著。 [0019] 若气氛气体在供给路径的中途未充分预热、而维持较低的温度状态就被提供给大量的被处理物，则根据与气氛气体的接触的情况，被处理物的温度会产生偏差。被处理物的热处理中的温度偏差会导致热处理后的状态出现偏差。此外，被处理物的热处理后的状态的偏差会导致使用热处理后的被处理物制造得到的各种产品的性能偏差。 [0020] 因而，要求充分预热气氛气体，并抑制热处理中的被处理物的温度偏差。 [0021] 因此，本发明的目的在于，提供一种能充分预热所提供的气氛气体的气体供给管及能抑制热处理中的被处理物的温度偏差的热处理装置。 [0022] 解决技术问题所采用的技术手段 [0023] 本发明为了提供能充分对所提供的气氛气体进行预热的气体供给管，而力图实现对于气体供给管的内部结构的改良。 [0024] 本发明所涉及的气体供给管包含外侧管和内侧管。外侧管的一端封闭，管壁具备沿长度方向排列的多个贯通孔。内侧管的一端与气体供给源相连，且插入至所述外侧管的内部。 [0025] 由气体供给源提供的气体以如下路径流动：通过内侧管，通过形成于外侧管的内部的外侧管和内侧管之间的间隙，从外侧管的多个贯通孔释放到气体供给管的周围空间。所提供的气体在流过内侧管的期间和流过外侧管和内侧管之间的间隙的期间，由传导至气体供给管的周围空间的温度加热或冷却。 [0026] 此外，内侧管包含多个小管的集合体。 [0027] 上述气体供给管中，内侧管包含多个小管的集合体。因而，与内侧管是单纯的圆筒的情况相比，内侧管和流过内侧管的气体易于接触。 [0028] 因此，在上述气体供给管中，对于由气体供给源提供的气体，在其流过内侧管的期间、和流过外侧管和内侧管之间的间隙的期间这两个期间时，都能充分接近传导至气体供给管的周围空间的温度。其结果是，能从设置于外侧管的多个贯通孔向周围空间释放出温度充分均匀的气体。 [0029] 此外，本发明所涉及的气体供给管可以在内侧管所包含的小管的内部插入有插入构件。 [0030] 上述气体供给管中，在小管的内部插入有插入构件，因此内侧管内部的表面积成为多个小管自身的表面积和插入构件的表面积之和。因而，与内侧管是单纯的圆筒的情况相比，内侧管和所提供的气体的接触面积进一步变大。 [0031] 本发明所涉及的气体供给管中，构成内侧管的小管的管壁的一部分可以朝向小管的中心轴线突出。 [0032] 上述气体供给管中，小管的管壁的一部分朝向小管的中心轴线突出，因此小管的内部的表面积自身变大。因而，与内侧管是单纯的圆筒的情况相比，内侧管和所提供的气体的接触面积进一步变大。 [0033] 本发明也面向能抑制热处理中的被处理物的温度偏差的热处理装置。 [0034] 本发明所涉及的热处理装置包括：具有被隔热壁所包围的内部空间的炉体；包含以露出至炉体的内部空间的方式配置的气体供给管的气体供给机构；以及对炉体的内部空间进行加热的加热机构。 [0035] 该热处理装置通过气体供给机构向炉体的内部空间提供气氛气体，利用加热机构在气氛气体环境下对被处理物进行加热，并对被处理物进行热处理。 [0036] 气体供给机构所包含的气体供给管是本发明所涉及的气体供给管。 [0037] 如上所述，本发明所涉及的气体供给管能使所提供的气体充分接近传导至气体供给管的周围空间的温度。因而，在使用本发明所涉及的气体供给管的热处理装置中，所提供的气氛气体充分接近炉体的内部空间的温度，在预热后的状态下释放到炉体内部。因此，热处理中的被处理物的温度偏差得到抑制，被处理物的热处理后的状态变得均匀。其结果是，使用热处理后的被处理物制造得到的各种产品的性能不会产生偏差，能提高产品的合格率。 [0038] 发明效果 [0039] 本发明所涉及的气体供给管中，对于由气体供给源提供的气体，在其流过内侧管的期间、和流过外侧管和内侧管之间的间隙的期间这两个期间时，都能充分接近传导至气体供给管的周围空间的温度。其结果是，本发明所涉及的气体供给管中，能从设置于外侧管的多个贯通孔向周围空间释放出温度充分均匀的气体。 [0040] 本发明所涉及的热处理装置中，通过利用本发明所涉及的气体供给管对被处理物提供温度充分均匀的气氛气体，从而能抑制热处理中的被处理物的温度偏差。因此，被处理物的热处理后的状态变得均匀。其结果是，使用热处理后的被处理物制造得到的各种产品的性能不会产生偏差，能提高产品的合格率。附图说明 [0041] 图1A是本发明的实施方式1所涉及的气体供给管1的外观图，是侧面的外观图。 [0042] 图1B是本发明的实施方式1所涉及的气体供给管1的外观图，是底面的外观图。 [0043] 图1C是本发明的实施方式1所涉及的气体供给管1的外观图，是前端的外观图。 [0044] 图2A是沿着图1A所示的Z1-Z1线的气体供给管1的剖视图。 [0045] 图2B是沿着图1B所示的X1-X1线的气体供给管1的剖视图。 [0046] 图2C是沿着图1B所示的Y1-Y1线的气体供给管1的剖视图。 [0047] 图3A是用于在本发明的范围外的比较例和本发明的范围内的实施方式1之间进行比较以表示气体供给管的内侧管的剖视图，是比较例的剖视图。 [0048] 图3B是用于在本发明的范围外的比较例和本发明的范围内的实施方式1之间进行比较以表示气体供给管的内侧管的剖视图，是图2A所示的气体供给管1的内侧管5的剖视图。 [0049] 图4A是表示图3A所示的气体供给管的内侧管中、流过其内部的气体接受的热量的示意图，是比较例的示意图。 [0050] 图4B是表示图3B所示的气体供给管的内侧管中、流过其内部的气体接受的热量的示意图，是图3B所示气体供给管1的内侧管5的示意图。 [0051] 图5A是利用图1A至图1C所示的气体供给管1而构成的热处理装置11的剖视图，是从侧面方向观察热处理装置11的剖视图。 [0052] 图5B是利用图1A至图1C所示的气体供给管1而构成的热处理装置11的剖视图，是图5A的Y2-Y2剖视图。 [0053] 图6是在本发明的范围外的比较例的气体供给管和本发明的范围内的实施方式1的气体供给管1之间进行比较以表示气氛气体受到的预热的曲线图。 [0054] 图7是本发明的实施方式1的变形例的气体供给管1的内侧管5的剖视图。 [0055] 图8是本发明的实施方式2的气体供给管1的内侧管5的剖视图。 [0056] 图9是本发明的实施方式3的气体供给管1的内侧管5的剖视图。 [0057] 图10A是背景技术的气体供给管101的剖视图，是从侧面方向观察气体供给管101的剖视图。 [0058] 图10B是背景技术的气体供给管101的剖视图，是图10A的Y3-Y3剖视图。具体实施方式 [0059] -实施方式1- [0060] 利用图1A、图1B、图1C及图2A、图2B、图2C对本发明的实施方式1所涉及的气体供给管1进行说明。 [0061] 气体供给管1包括外侧管2和内侧管5。外侧管2的一端封闭，管壁具备沿长度方向排列的多个贯通孔3(3a～3i)。此外，外侧管2的另一端包括例如作为安装于后述的热处理装置11的侧部隔热壁15时的支承构件的凸缘4。 [0062] 内侧管5的一端与未图示的气体供给源相连，并插入外侧管2的内部。通过将内侧管5插入外侧管2而形成的间隙7中插入有衬套8，该衬套8用于将间隙7与周围空间隔绝，并在外侧管2的内部对内侧管5进行支承。 [0063] 内侧管5为多个小管5a～5d的集合体。本实施方式中，多个小管5a～5d形成为一体。 [0064] 利用图2B对气体供给管1中的气体的流动进行说明。从气体供给源提供到内侧管5的一端的气体如箭头A所示那样通过小管5a的内部6a及小管5c的内部6c，并如箭头B所示那样从内侧管5的另一端释放到外侧管2的内部。 [0065] 被释放到外侧管2的内部的气体如箭头C所示那样沿着间隙7流动，最终如箭头D所示那样从外侧管2的多个贯通孔3(3a～3i)释放到周围空间。对于该路径，在气体流过小管5b的内部6b及小管5d的内部6d的情况下也相同。 [0066] 另外，图2B中图示为箭头C所示的气体流过接近间隙7的贯通孔3的部分，但实际上流过间隙7整体。 [0067] 气体供给管1可以设置于各种场所，但任一种情况下，气体供给管1的周围空间的温度均传导至气体供给管1。因而，所提供的空气在流过内侧管5的期间、和流过外侧管2和内侧管5之间的间隙7的期间这双个期间时，都由传导至气体供给管1的周围空间的温度加热或冷却。 [0068] 利用图3A、图3B及图4A、图4B说明以下情况：即，与单纯的圆筒相比，上述内侧管5与气体之间的接触面积变大，流动气体易于接近周围环境的温度。 [0069] 图3A是比较例的内侧管35的截面的放大图。内侧管35是通常结构的管。内部36的截面呈圆形，具有面积S和周长P。即，若将内侧管35的长度设为L，则内侧管35的内容积为SL。此外，内侧管35的内部的表面积为PL。 [0070] 图3B是本发明的内侧管5的截面的放大图。内侧管5如上所述为多个小管5a～5d的集合体。小管5a的内部6a的截面呈圆形，具有截面积Sa及周长Pa。小管5b的内部6b的截面呈圆形，具有截面积Sb及周长Pb。小管5c的内部6c的截面呈圆形，具有截面积Sc及周长Pc。小管5d的内部6d的截面呈圆形，具有截面积Sd及周长Pd。 [0071] 图3B中，内部6a的截面积Sa、内部6b的截面积Sb、内部6c的截面积Sc、内部6d的截面积Sd均被设定为S/4。该情况下，内部6a的周长Pa、内部6b的周长Pb、内部6c的周长Pc、内部6d的周长Pd均为P/2。因此，在将小管6a～6d的截面积之和Sa+Sb+Sc+Sd设为ST时，ST为S。在将截面的周长之和Pa+Pb+Pc+Pd设为PT时，PT为2P。即，若将内侧管5的长度设为L，则内侧管5的内容积为SL。此外，内侧管5的内部的表面积为2PL。 [0072] 因而，内侧管5与内侧管35具有相同的内容积，且内部的表面积成为2倍，与流过小管5a～5d的气体的接触面积变大。 [0073] 图4A是在气体流过图3A的内部36时，将该气体的温度划分为与温度的高低相对应的区域来表示的示意图。图4B是在气体流过图3B的小管5a～5d时，将该气体的温度划分为与温度的高低相对应的区域来表示的示意图。 [0074] 另外，图4A及图4B中，假设无论管的形状如何，来自内侧管的散热都相同。图4A及图4B中，各区域间的温度的关系为H6＜H5＜H4＜H3＜H2＜H1，H1表示温度最高的区域，H6表示温度最低的区域。 [0075] 图4A中，流过内侧管35的内部36的管壁附近的气体的温度变高，但流过中央附近的气体的温度仍然较低。另一方面，图4B中，流过内侧管5的小管5a～5d的气体到中央部附近为止温度变高。该差异随着所提供的气体量增多而变得显著。其原因在于，如以上所说明的那样，作为小管5a～5d的集合体的内侧管5与流过内侧管5的气体的接触面积变大，周围环境的温度易于传导到气体。 [0076] 即，本发明的内侧管5中，在由气体供给源提供的气体流过内侧管5的期间，能充分接近气体供给管的周围空间的温度。 [0077] 此外，内侧管5是小管5a～5d的集合体，因此其外表面的面积比具有相同内容积的单纯的圆筒的面积相比要大。因此，气体供给管1中，与流过外侧管2和内侧管5的间隙7的气体的接触面积也变大。 [0078] 因而，上述气体供给管1中，对于由气体供给源提供的气体，在其流过内侧管5(小管5a～5d)的期间、和流过外侧管2和内侧管5之间的间隙7的期间这双个期间，都能充分接近传导至气体供给管1的周围空间的温度。其结果是，上述气体供给管1能将温度充分均匀的气体从设置于外侧管2的多个贯通孔3(3a～3i)释放到周围空间。 [0079] 利用图5A、图5B及图6对使用了上述说明的本发明的实施方式1所涉及的气体供给管1的热处理装置11进行说明。 [0080] 热处理装置11包括炉体12、气体供给机构18、加热机构19、传送机构22。被处理物27以放置在装载构件26上的状态，利用传送机构22在被规定的气氛气体充满的炉体12的内部进行传送，并被加热机构19加热，从而进行热处理，该规定的气氛气体由气体供给机构18提供。 [0081] 炉体12包括上部隔热壁13、下部隔热壁14、侧部隔热壁15。炉体12的内部空间被热处理区域隔壁16分割成多个热处理区域。热处理区域隔壁16设有能供放置有被处理物27的装载构件26在传送过程中通过的通过口17。 [0082] 气体供给机构18包含气体供给管1和未图示的气体供给源。气体供给管1配置为从两个侧部隔热壁15的一侧起在横切炉体12的方向上向炉体12的内部空间突出，并通过凸缘4安装于侧壁隔热壁15。各热处理区域中，在入口侧和出口侧的热处理区域隔壁16附近分别设有一根气体供给管1，合计配置有两根气体供给管1。 [0083] 加热机构19包含上部加热器20、下部加热器21、未图示的电源、未图示的输出控制器。输出控制器对上部加热器20和下部加热器21的输出进行调整，将上述热处理区域内部的温度环境设定为规定状态。 [0084] 传送机构22包含：传送辊23、支承于未图示的基台上的支承构件24、驱动单元25。利用驱动单元25使传送辊23以规定速度旋转。通过将放置有被处理物27的装载构件26放置于传送辊23上，从而以规定速度在箭头C的方向上在炉体12的内部传送放置有被处理物27的装载构件26。传送速度按每个热处理区域来设定。 [0085] 各热处理区域利用输出控制器来对上部加热器18及下部加热器19的输出进行调整，使其成为规定条件的升温区域、温度保持区域、及降温区域的任一种。热处理装置11能通过组合升温区域、温度保持区域、及降温区域、并调整各区域的传送速度，来设定规定的温度分布。因而，在利用传送机构22在热处理装置11的炉体12的内部传送被处理物24的期间，会以规定的温度分布进行热处理。 [0086] 对于由气体供给源提供的规定的气氛气体，在其流过气体供给管1的内部时，会被传导至气体供给管1的炉体12的内部空间的温度所预热。从气体供给管1的外侧管2的贯通孔3沿箭头F的方向持续地释放出预热后的气氛气体。其结果是，炉体12的内部空间维持被规定的气氛气体所充满的状态。 [0087] 图6通过比较使用具备图3A所示的内侧管35的气体供给管的情况(比较例)和使用具备图3B所示的内侧管5的气体供给管1的情况(实施例)，来表示由气体供给管对气氛气体进行预热的情况的差异。另外，比较例的气体供给管的内侧管5变更为内侧管35，其他构件与气体供给管1相同。 [0088] 温度测定部位是配置于最高温度保持区域的两根气体供给管1中的配置于入口侧的热处理区域隔壁16附近的“前端附近”(外侧管的贯通孔3a附近)、“前端-中央间”(等同于3c附近)、“中央附近”(等同于3e附近)、“中央-根部间”(等同于3e附近)及“根部附近”(等同于3i附近)。 [0089] 在各贯通孔的附近、与释放后的气氛气体相接触的位置配置热电偶，以使得能够测定在气体供给管1的内部经预热后的状态的气氛气体的温度。将最高温度保持区域的设定温度设为烧成通常的陶瓷电子元器件时设定的温度。另外，图6中，以与设定温度的偏差的形式来表示测定部位的温度。 [0090] 在气体供给管的“根部附近”及“中央-根部间”，比较例与实施例之间几乎无法看到测定温度的差异。这是因为，无论使用哪个气体供给管，从气体供给管的外侧管2的贯通孔3i释放出的气氛气体在流过内侧管5(或内侧管35)和外侧管2之间的间隙7的期间被充分预热。 [0091] 然而，流过间隙7的距离越短，使用了气体供给管的差异所对应的测定温度的差异变得越显著。比较例中，气氛气体在流过内侧管35的内部的期间未被充分预热。并且，流过间隙7的距离越短，其预热越不充分。 [0092] 因而，流过间隙7的距离比较短的、从外侧管2的贯通孔3a～3f释放出的气氛气体在温度未充分上升的状态下被释放。尤其，对于流过间隙7的距离最短的从贯通孔3a释放出的气氛气体，受到其影响的气体供给管的“前端附近”的温度显著下降。其结果是，释放出的气氛气体使气体供给管的从“前端附近”到“中央附近”的炉体12内部的温度降低。 [0093] 另一方面，实施例中，气氛气体在流过内侧管5的内部的期间被充分预热。因此，即使流过间隙7的距离较短，也不会发生预热不充分。 [0094] 因而，即使是流过间隙7的距离比较短的、从外侧管2的贯通孔3a～3f释放出的气氛气体，其温度也充分上升。其结果是，释放出的气氛气体不会使外侧管2的贯通孔3a～3f附近的炉体12内部的温度降低。 [0095] 另外，实施例中，作为气体供给管的“根部附近”及“前端附近”的炉体12内部的温度稍低的理由，考虑侧部隔热壁15所进行的吸热的影响，但详细情况不明。若温度的下降为该程度，则确认到被处理物的温度偏差得到抑制、被处理物的热处理后的状态为充分均匀的。 [0096] 即，本发明所涉及的热处理装置11中，所提供的气氛气体在以炉体内部的温度充分预热后的状态下被释放至炉体12内部。因此，热处理中的被处理物的温度偏差得到抑制，被处理物的热处理后的状态变得均匀。其结果是，使用热处理后的被处理物制造得到的各种产品的性能不会产生偏差，能提高产品的合格率。 [0097] 本发明的实施方式1中，作为热处理装置11，以装载构件26的传送介质为传送辊23即所谓的辊底炉为例进行了说明，但本发明也能应用于其他方式的热处理装置。 [0098] 本发明的热处理装置能广泛应用于玻璃基板等基材上所涂布的包含金属材料或无机材料的糊料的干燥或烧成、或者包含金属材料或无机材料的粉体的预烧等热处理。 [0099] 另外，作为本发明的实施方式1，例示了内侧管5通过将图3B所示的多个小管5a～5d形成为一体而得到的情况，但并不限于此。 [0100] 例如，也可以如图7所示那样，将利用接合材料9将多个小管5a～5d接合而得到的内侧管用作为内侧管5。该情况下，利用接合材料9来接合现成的小管，从而能容易地制作出内侧管5。 [0101] -实施方式2- [0102] 使用图8对本发明的实施方式2所涉及的气体供给管1的内侧管5进行说明。 [0103] 图8是本发明的实施方式2所涉及的气体供给管1的内侧管5的截面的放大图。图8所示的内侧管5中，构成内侧管5的小管5a～5d的内部6a～6d插入有截面为十字形的隔壁状的插入构件10。因此，内侧管5的内部的表面积为小管5a～5d自身的表面积和插入构件10的表面积之和，与内侧管5为单纯的圆筒的情况相比，与所提供的气体的接触面积进一步增大。 [0104] 插入构件10以与小管5a～5d的内周面紧密接触的方式被插入，使得构成内侧管5的小管5a～5d的温度有效地传导至其内部6a～6d的空间内。因此，插入构件10的材质的莫氏硬度优选为在小管5a～5d的材质的莫氏硬度以下。该情况下，在插入构件10插入小管5a～5d的内部时，不会损伤小管5a～5d的内部。 [0105] 此外，插入构件10的热膨胀系数优选为与小管5a～5d的材质的热膨胀系数相同或相近。该情况下，当插入构件10在高温环境下发生热膨胀时，不会对小管5a～5d的内周面施加过度的应力，从而小管5a～5d不会发生破损。 [0106] 另外，图8中例示出了插入至小管5a～5d的内部6a～6d的插入构件10的截面为十字形的隔壁状的情况，但并不限于此。 [0107] 例如，可以使用丝线状构件的集合体来作为插入构件10。丝线状构件的集合体的表面积较大，因此即使是少量，与所提供的气体的接触面积也能较大。 [0108] 除此以外，丝线状构件的集合体的弹力性优异，在插入至小管5a～5d的内部时，不会损伤小管5a～5d的内部。此外，当在高温环境下发生热膨胀时，不会对小管5a～5d的内周面施加过度的应力，从而小管5a～5d不会发生破损。 [0109] -实施方式3- [0110] 使用图9对本发明的实施方式3所涉及的气体供给管1的内侧管5进行说明。 [0111] 图9是本发明的实施方式3所涉及的气体供给管1的内侧管5的截面的放大图。图9所示的内侧管5中，构成内侧管5的小管5a～5d的管壁的一部分的截面朝向小管5a～5d的中心轴线以呈矩形的方式突出。该情况下，小管5a～5d的内部6a～6d的表面积自身变大。因此，与内侧管5是单纯的圆筒的情况相比，内侧管5的内部的表面积自身进一步变大。该突出结构优选为尽可能达到靠近小管5a～5d的中心轴线的区域。由此，能在内侧管5的内部充分增大与气体供给源所提供的气体的接触面积。 [0112] 另外，图9中，作为小管5a～5d的管壁的突出结构例示出截面为矩形的情况，但并不限于此，截面可以是其他的形状。 [0113] 对于本发明的气体供给管1的内侧管5，可以组合实施方式2及实施方式3，来进一步增大与气体的接触面积。此外，小管5a～5d的形状不必全部相同，可以是不同形状的小管的集合体。 [0114] 本发明的气体供给管1的各结构要素的材质可以根据其使用目的适当进行选择。例如，在使用于热处理装置11的情况下，能使用耐高温的氧化性气氛的氧化铝等高熔点陶瓷材料。另一方面，在使用于较低温的环境下的情况下，可以使用不锈钢等金属材料。 [0115] 本发明的气体供给管1也可以用于利用气体供给管1的周围温度对由气体供给源所提供的较低温度的气体进行加热的目的。另一方面，也可以用于利用气体供给管1的周围温度对由气体供给源所提供的较高温度的气体进行冷却的目的。 [0116] 本发明并不限于上述实施方式，在本发明的范围内，能增加各种应用、变形。 [0117] 以上，对本发明的实施方式进行了说明，但在此公开的实施方式应视作在所有方面均为例示而并非限制。本发明的范围由权利要求的范围来表示，本发明的范围还包括与权利要求的范围等同的意思及范围内的所有变更。 [0118] 标号说明 [0119] 1气体供给管、2外侧管、3外侧管的贯通孔、5内侧管、5a，5b，5c，5d小管、6a，6b，6c，6d小管的内部、7外侧管和内侧管之间的间隙、10插入构件、11热处理装置、12炉体、18气体供给机构、19加热机构、27被处理物。

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