1.一种牙科组合物，包括：
带有酸官能团的烯键式不饱和化合物，其包括具有烯键不饱和度及酸和/或酸前体官能团的单体、低聚物、和聚合物，所述酸官能团包括选自羧酸官能团、磷酸官能团、膦酸官能团、磺酸官能团、及其组合，所述酸前体官能团选自酸酐、酸性卤化物和焦磷酸酯，其中所述组合物包括基于未填充组合物的总重量计的1至80wt％的所述带有酸官能团的烯键式不饱和化合物；
不带酸官能团的烯键式不饱和化合物，其中所述组合物包括基于未填充组合物的总重量计的5至95wt％的所述不带有酸官能团的烯键式不饱和化合物；以及
释放钙和磷的玻璃，其中该释放钙和磷的玻璃包括1至80wt％的五氧化二磷和10至
70wt％的氧化钙；和其中所述组合物包括基于该组合物总重量计的1至40wt％的所述释放钙和磷的玻璃。
2.如权利要求1所述的牙科组合物，其中所述释放钙和磷的玻璃包括最多5wt.％的氧化铝。
3.如权利要求2所述的牙科组合物，其中所述释放钙和磷的玻璃包括最多3wt.％的氧化铝。
4.如权利要求1、2和3中任一项所述的牙科组合物，其中所述释放钙和磷的玻璃包括
35％～60wt.％的二氧化硅。
5.如权利要求1、2和3中任一项所述的牙科组合物，其中所述释放钙和磷的玻璃是无定形的。
6.如权利要求1、2和3中任一项所述的牙科组合物，其中所述释放钙和磷的玻璃是至少部分结晶的。
7.如权利要求1、2和3中任一项所述的牙科组合物，还包括另外的填料。
8.如权利要求1、2和3中任一项所述的牙科组合物，还包括引发剂体系。
9.如权利要求1、2和3中任一项所述的牙科组合物，还包括水。
10.如权利要求1所述的牙科组合物，其中所述酸官能团是磷酸官能团。
11.如权利要求1、2和3中任一项所述的牙科组合物，其中所述释放钙和磷的玻璃包括处理的表面。
12.如权利要求11所述的牙科组合物，其中所述处理的表面包括硅烷。
13.如权利要求11所述的牙科组合物，其中所述处理的表面包括抗菌剂。
14.如权利要求11所述的牙科组合物，其中所述处理的表面包括氟离子源。
15.如权利要求1、2和3中任一项所述的牙科组合物，其中所述组合物选自牙科底剂、牙科粘合剂、洞衬底、洞清洗剂、涂料、修复剂、密封剂、脱敏剂、及其组合。
16.如权利要求1、2和3中任一项所述的牙科组合物，其中所述组合物选自正畸粘合剂、正畸底剂、正畸粘固剂及其组合。
17.如权利要求1、2和3中任一项所述的牙科组合物，其中所述组合物是粘固剂。
18.如权利要求1、2和3中任一项所述的牙科组合物，其中所述组合物是涂膜。
19.前述权利要求任一项所述的牙科组合物在制备用于处理牙齿结构的制剂中的用途。
20.权利要求1～18任一项所述的牙科组合物在制备用于再矿化牙齿结构的制剂中的用途。
21.权利要求1～18任一项所述的牙科组合物在制备用于降低牙齿结构敏感性的制剂中的用途。
22.权利要求1～18任一项所述的牙科组合物在制备用于保护牙齿结构的制剂中的用途。
23.权利要求1～18任一项所述的牙科组合物在制备用于将离子递送到口腔环境的制剂中的用途，其中所述离子包括选自钙、磷、氟、及其组合的元素。
24.一种制备牙科制品的方法，包括硬化权利要求1～18任一项所述的牙科组合物，以制造选自牙冠、填充物、研磨料坯、正畸装置和修补物的牙科制品。