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치과용 보철물
申请号 KR1020167036252 申请日 2015-07-08 公开(公告)号 KR1020170012406A 公开(公告)日 2017-02-02
申请人 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤; 发明人 하세가와아키라; 츠치야야스후미; 코지마코야; 오카자키코쥬; 아사노요스케; 후지이켄이치; 하야시타카아키;
摘要 본발명은, 친수성이뛰어나고, 방오성등이뛰어난치과재료, 특히치과용보철물을제공하는것을목적으로한다. 본발명의치과용보철물은, 음이온성친수기, 및양이온성친수기로부터선택되는적어도하나의친수기와, 중합성탄소-탄소이중결합을가지는적어도 1개의관능기를가지는화합물(I); 중합성탄소-탄소이중결합을가지는관능기를 2개이상가지는화합물(II)(다만, 음이온성친수기, 및양이온성친수기는모두갖지않는다.); 및, 음이온성친수기, 양이온성친수기, 또는 2 이상의수산기를가지는친수부, 및유기잔기로이루어지는소수부를가지는계면활성제(III)(다만, 중합성탄소-탄소이중결합을갖지않는다.)를포함하는조성물을경화하여얻어지는단층막을가진다.
权利要求
  • 음이온성 친수기, 및 양이온성 친수기로부터 선택되는 적어도 하나의 친수기와, 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 적어도 1개의 관능기를 가지는 화합물(I);
    중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 관능기를 2개 이상 가지는 화합물(II)(다만, 음이온성 친수기, 및 양이온성 친수기는 모두 갖지 않는다.); 및
    음이온성 친수기, 양이온성 친수기, 또는 2 이상의 수산기를 가지는 친수부, 및 유기 잔기로 이루어지는 소수부를 가지는 계면활성제(III)(다만, 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 갖지 않는다.)를 포함하는 조성물을 경화하여 얻어지는 단층막을 가지는, 치과용 보철물.
  • 청구항 1에 있어서,
    음이온성 친수기, 양이온성 친수기, 및 수산기로부터 선택되는 적어도 하나의 친수기의,
    표면 농도(Sa)와,
    단층막의 막두께 1/2 지점에 있어서의 농도(Da)
    로부터 구해지는 경사도(Sa/Da)가 1.1 이상인 치과용 보철물.
  • 청구항 1 또는 2에 있어서,
    상기 단층막의 물접촉각이 30°이하인, 치과용 보철물.
  • 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 단층막의 막두께가, 0.1∼100㎛인, 치과용 보철물.
  • 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 단층막이, 상기 화합물(I), 화합물(II), 화합물(III) 및 용제를 포함하는 조성물을 기재에 도포하고, 이어서 용제를 제거하고, 그 후 경화함으로써 얻어진 것인, 치과용 보철물.
  • 청구항 5에 있어서,
    상기 도포 공정이, 딥(dip) 방법인 치과용 보철물.
  • 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 화합물(I)이 하기 일반식(100)으로 표시되는 화합물인 치과용 보철물.

    (상기 식(100) 중,
    A는, 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 관능기를 1∼5개 가지는 탄소수 2∼100의 유기기를 나타내고,
    CD는, 하기 일반식(101), (102) 및 (112)로부터 선택되는, 적어도 1개의 친수기를 포함하는 기를 나타내고,
    n은, CD에 결합되는 A의 수이며, 1 또는 2를 나타내고,
    n0는, A에 결합되는 CD의 수이며, 1∼5의 정수를 나타낸다.)

    (상기 식(101) 중, M은 수소 원자, 알칼리 금속, 1/2 원자의 알칼리토류 금속, 또는 암모늄 이온을 나타내고, ＃1은 식(100)의 A에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수(結合手)를 나타낸다.)

    (상기 식(102) 중, M은 수소 원자, 알칼리 금속, 1/2 원자의 알칼리토류 금속, 또는 암모늄 이온을 나타내고, ＃1은 식(100)의 A에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수를 나타낸다.)

    (상기 식(112) 중, A(-)는, 할로겐 이온, 폼산 이온, 아세트산 이온, 황산 이온, 황산수소 이온, 인산 이온, 또는 인산수소 이온을 나타내고, R 6 ∼R 8 은, 각각 독립하여, 수소 원자, 탄소수 1∼20의 알킬기, 알킬아릴기, 알킬벤질기, 알킬사이클로알킬기, 알킬사이클로알킬메틸기, 사이클로알킬기, 페닐기, 또는 벤질기를 나타내고, ＃1은 식(100)의 A에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수를 나타낸다.)
  • 청구항 7에 있어서,
    상기 일반식(100) 중의 A가, 하기 일반식(120), (123) 및 (124)로부터 선택되는 적어도 1개의 관능기인 치과용 보철물.

    (상기 식(120) 중, X는, -O-, -S-, -NH-, 또는 -NCH 3 -를 나타내고, r은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, r 1 ∼r 4 는, 각각 독립하여, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 또는 수산기를 나타내고, m1은 0∼10의 정수를 나타내고, n1은 0∼100의 정수를 나타내고, ＃2는 상기 일반식(101), (102) 및 (112)로 표시되는 기로부터 선택되는 적어도 1개의 기에 포함되는 ＃1에 결합되는 결합수를 나타낸다.)

    (상기 식(123) 중, r은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, r 1 및 r 2 는, 독립하여, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 또는 수산기를 나타내고, m1은 0∼10의 정수를 나타내고, ＃2는 상기 일반식(101), (102) 및 (112)로 표시되는 기로부터 선택되는 적어도 1개의 기에 포함되는 ＃1에 결합되는 결합수를 나타낸다.)

    (상기 식(124) 중, r은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, r 1 및 r 2 는, 독립하여, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 또는 수산기를 나타내고, m1은 0∼10의 정수를 나타내고, m2는 0∼5의 정수를 나타내고, n0는 1∼5의 정수를 나타내고, ＃2는 상기 일반식(101), (102) 및 (112)로 표시되는 기로부터 선택되는 적어도 1개의 기에 포함되는 ＃1에 결합되는 결합수를 나타낸다.)
  • 청구항 1 내지 8 중 어느 한 항에 있어서,
    계면활성제가 하기 일반식(300)으로 표시되는 화합물인 치과용 보철물.

    (상기 식(300) 중,
    R은, 탄소수 4∼100의 유기 잔기를 나타내고,
    FG는, 하기 일반식(301), (302), (312) 및 (318)로부터 선택되는 친수기를 적어도 1개 포함하는 기를 나타내고,
    n은, FG에 결합되는 R의 수이며, 1 또는 2를 나타내고,
    n0는, R에 결합되는 FG의 수이며, 1∼5의 정수를 나타내고, FG가 수산기를 1개 포함하는 기인 경우에는 n0는 2∼5의 정수를 나타낸다.)

    (상기 식(301) 중, M은 수소 원자, 알칼리 금속, 1/2 원자의 알칼리토류 금속, 또는 암모늄 이온을 나타내고, ＃3은 식(300)의 R에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수를 나타낸다.)

    (상기 식(302) 중, M은 수소 원자, 알칼리 금속, 1/2 원자의 알칼리토류 금속, 또는 암모늄 이온을 나타내고, ＃3은 식(300)의 R에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수를 나타낸다.)

    상기 식(312) 중, X 3 및 X 4 는, 독립하여, -CH 2 -, -CH(OH)-, 또는 -CO-를 나타내고, n 30 은 0∼3의 정수를 나타내고, n 50 은 0∼5의 정수를 나타내고, n 3 0이 2 이상인 경우, X 3 끼리는 동일해도 상이해도 되고, n50이 2 이상인 경우, X 4 끼리는 동일해도 상이해도 되고, ＃3은 식(300)의 R에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수를 나타낸다.

    (상기 식(318) 중, R 6 및 R 7 은, 각각 독립하여, 수소 원자, 탄소수 1∼20의 알킬기, 알킬아릴기, 알킬벤질기, 알킬사이클로알킬기, 알킬사이클로알킬메틸기, 사이클로알킬기, 페닐기, 또는 벤질기를 나타내고, ＃3은 식(300)의 R에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수를 나타낸다.)
    • 说明书全文

    치과용 보철물{DENTAL PROSTHESIS}

    본 발명은, 치과용 보철물에 관한 것이다.

    최근, 플라스틱 등의 유기 재료, 및 유리 등의 무기 재료로 형성되는 기재(基材)의 흐림, 오염에 대한 개선 요구가 높아지고 있다.

    흐림의 문제를 해결하는 방법으로서, 반응성 계면활성제, 아크릴계 올리고머를 포함하는 방담(放曇) 도료에 의해, 친수성, 흡수성을 향상시키는 방법이 제안되어 있다(예를 들면, 비특허문헌 1 참조.). 또한, 오염의 문제를 해결하는 수단으로서, 재료 표면의 친수성을 향상시킴으로써, 외벽 등에 부착된 외기(外氣) 소수성 물질 등의 오염을 살수 또는 강우에 의해 부상(浮上)하게 하여 제거하는 방법이 제안되어 있다(예를 들면, 비특허문헌 2및 3 참조.).

    또한, 기재(基材)의 표면에 가교 중합성 모노머 조성물을 도포하고 자외선 조사량을 컨트롤하여 불완전하게 중합된 가교 폴리머를 형성시키고, 이어서 친수성 모노머를 도포하고 다시 자외선을 조사함으로써 친수 모노머를 가교 폴리머의 표면에 블록 또는 그라프트 중합시키는 친수성 재료가 제안되어 있다(특허문헌 1 및 특허문헌 2).

    그러나, 상기의 단순한 기재 표면에 친수성 모노머를 블록 또는 그라프트 중합시키는 방법은, 친수성기가 표면에만 존재하지 않기 때문에, 내구성이 낮아 장기간의 사용에 견딜 수 없는 문제를 떠안고 있었다.

    본 발명자 등은, 상기 문제를 해결하는 수단으로서, 특정의 음이온성 친수기가 막내부(膜內部)로부터 막표면에 경사(편석(偏析))지고, 표면 부근에 음이온성 친수기가 고농도로 존재하는 단층막을 먼저 제안하고 있다(특허문헌 3 및 특허문헌 4).

    한편, 특허문헌 5에는, 친수성기를 가지는 단량체 단위를 포함하는 주쇄(主鎖)를 가지며, 그 주쇄의 양말단에 각각 플루오로알킬기를 포함하는 말단기를 가지는 쇄상(鎖狀) 중합체로 이루어지는 불소 화합물, 중합성 단량체, 및 중합 개시제를 함유하는 치과용 중합성 조성물이 기재되어 있다.

    특허문헌 1 : 일본국 특허공개공보 2001-98007호

    특허문헌 2 : 일본국 특허공개공보 2011-229734호

    특허문헌 3 : 국제 특허공개공보 제2007/064003호

    특허문헌 4 : 국제 특허공개공보 제2012/014829호

    특허문헌 5 : 일본국 특허공보 제4673310호

    비특허문헌 1 : 토아합성연구(東亞合成硏究) 연보, TREND 1999년 2월호, 39∼44 페이지 비특허문헌 2 : 고분자, 44(5), 307페이지 비특허문헌 3 : 미래 재료, 2(1), 36-41 페이지

    본 발명은, 친수성이 뛰어나고, 방오성 등이 뛰어난 치과 재료, 특히 치과용 보철물을 제공하는 것을 목적으로 한다.

    본 발명자들은, 상기의 과제를 해결하고자 검토를 거듭한 결과, 특정의 친수기와 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 관능기를 가지는 화합물, 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 관능기를 2개 이상 가지는 화합물에 더하여, 특정의 계면활성제를 더 포함시킨 조성물로부터, 치과용 보철물 등의 치과 재료로서 적합한, 친수성이 뛰어나고, 방오성 등이 뛰어난 경화물, 특히, 단층막을 얻을 수 있는 것, 및, 그와 같은 단층막을 사용함으로써, 친수성이 뛰어나고, 방오성 등이 뛰어난 치과용 보철물이 얻어지는 것을 찾아내어, 본 발명에 도달했다.

    즉, 본 발명은, 다음의 [1]∼[9]에 관한 것이다.

    [1]

    음이온성 친수기, 및 양이온성 친수기로부터 선택되는 적어도 하나의 친수기와, 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 적어도 1개의 관능기를 가지는 화합물(I);

    중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 관능기를 2개 이상 가지는 화합물(II)(다만, 음이온성 친수기, 및 양이온성 친수기는 모두 갖지 않는다.); 및

    음이온성 친수기, 양이온성 친수기, 또는 2 이상의 수산기를 가지는 친수부, 및 유기 잔기로 이루어지는 소수부(疏水部)를 가지는 계면활성제(III)(다만, 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 갖지 않는다.)

    를 포함하는 조성물을 경화하여 얻어지는 단층막을 가지는, 치과용 보철물.

    [2]

    음이온성 친수기, 양이온성 친수기, 및 수산기로부터 선택되는 적어도 하나의 친수기의,

    표면 농도(Sa)와,

    단층막의 막두께 1/2 지점에 있어서의 농도(Da)

    로부터 구해지는 경사도(Sa/Da)가 1.1 이상인 상기 [1]에 기재된 치과용 보철물.

    [3]

    상기 단층막의 물접촉각이 30°이하인 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 치과용 보철물.

    [4]

    상기 단층막의 막두께가, 0.1∼100㎛인, 상기 [1]∼[3] 중 어느 하나에 기재된 치과용 보철물.

    [5]

    상기 단층막이, 상기 화합물(I), 화합물(II), 화합물(III) 및 용제를 포함하는 조성물을 기재에 도포하고, 이어서 용제를 제거하고, 그 후 경화함으로써 얻어진 것인, 상기 [1]∼[4] 중 어느 하나에 기재된 치과용 보철물.

    [6]

    상기 도포 공정이, 딥(dip) 방법인 상기 [5] 기재의 치과용 보철물.

    [7]

    상기 화합물(I)이 하기 일반식(100)으로 표시되는 화합물인 상기 [1]∼[6] 중 어느 하나에 기재된 치과용 보철물.

    (상기 식(100) 중,

    A는, 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 관능기를 1∼5개 가지는 탄소수 2∼100의 유기기를 나타내고,

    CD는, 하기 일반식(101), (102) 및 (112)로부터 선택되는, 적어도 1개의 친수기를 포함하는 기를 나타내고,

    n은, CD에 결합되는 A의 수이며, 1 또는 2를 나타내고,

    n0는, A에 결합되는 CD의 수이며, 1∼5의 정수를 나타낸다.)

    (상기 식(101) 중, M은 수소 원자, 알칼리 금속, 1/2 원자의 알칼리토류 금속, 또는 암모늄 이온을 나타내고, ＃1은 식(100)의 A에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수(結合手)를 나타낸다.)

    (상기 식(102) 중, M은 수소 원자, 알칼리 금속, 1/2 원자의 알칼리토류 금속, 또는 암모늄 이온을 나타내고, ＃1은 식(100)의 A에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수를 나타낸다.)

    (상기 식(112) 중, A(-)는, 할로겐 이온, 폼산 이온, 아세트산 이온, 황산 이온, 황산수소 이온, 인산 이온, 또는 인산수소 이온을 나타내고, R 6 ∼R 8 은, 각각 독립하여, 수소 원자, 탄소수 1∼20의 알킬기, 알킬아릴기, 알킬벤질기, 알킬사이클로알킬기, 알킬사이클로알킬메틸기, 사이클로알킬기, 페닐기, 또는 벤질기를 나타내고, ＃1은 식(100)의 A에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수를 나타낸다.)

    [8]

    상기 일반식(100) 중의 A가, 하기 일반식(120), (123) 및 (124)로부터 선택되는 적어도 1개의 관능기인 상기 [7]에 기재된 치과용 보철물.

    (상기 식(120) 중, X는, -O-, -S-, -NH-, 또는 -NCH 3 -를 나타내고, r은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, r 1 ∼r 4 는, 각각 독립하여, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 또는 수산기를 나타내고, m1은 0∼10의 정수를 나타내고, n1은 0∼100의 정수를 나타내고, ＃2는 상기 일반식(101), (102) 및 (112)로 표시되는 기로부터 선택되는 적어도 1개의 기에 포함되는 ＃1에 결합되는 결합수를 나타낸다.)

    (상기 식(123) 중, r은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, r 1 및 r 2 는, 독립하여, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 또는 수산기를 나타내고, m1은 0∼10의 정수를 나타내고, ＃2는 상기 일반식(101), (102) 및 (112)로 표시되는 기로부터 선택되는 적어도 1개의 기에 포함되는 ＃1에 결합되는 결합수를 나타낸다.)

    (상기 식(124) 중, r은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, r 1 및 r 2 는, 독립하여, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 또는 수산기를 나타내고, m1은 0∼10의 정수를 나타내고, m2는 0∼5의 정수를 나타내고, n0는 1∼5의 정수를 나타내고, ＃2는 상기 일반식(101), (102) 및 (112)로 표시되는 기로부터 선택되는 적어도 1개의 기에 포함되는 ＃1에 결합되는 결합수를 나타낸다.)

    [9]

    계면활성제가 하기 일반식(300)으로 표시되는 화합물인 상기 [1]∼[8] 중 어느 하나에 기재된 치과용 보철물.

    (상기 식(300) 중,

    R은, 탄소수 4∼100의 유기 잔기를 나타내고,

    FG는, 하기 일반식(301), (302), (312) 및 (318)로부터 선택되는 친수기를 적어도 1개 포함하는 기를 나타내고,

    n은, FG에 결합되는 R의 수이며, 1 또는 2를 나타내고,

    n0는, R에 결합되는 FG의 수이며, 1∼5의 정수를 나타내고, FG가 수산기를 1개 포함하는 기인 경우에는, n0는 2∼5의 정수를 나타낸다.)

    (상기 식(301) 중, M은 수소 원자, 알칼리 금속, 1/2 원자의 알칼리토류 금속, 또는 암모늄 이온을 나타내고, ＃3은 식(300)의 R에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수를 나타낸다.)

    (상기 식(302) 중, M은 수소 원자, 알칼리 금속, 1/2 원자의 알칼리토류 금속, 또는 암모늄 이온을 나타내고, ＃3은 식(300)의 R에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수를 나타낸다.)

    상기 식(312) 중, X 3 및 X 4 는, 독립하여, -CH 2 -, -CH(OH)-, 또는 -CO-를 나타내고, n 30 은 0∼3의 정수를 나타내고, n 50 은 0∼5의 정수를 나타내고, n 3 0이 2 이상인 경우, X 3 끼리는 동일해도 상이해도 되고, n 50 이 2 이상인 경우, X 4 끼리는 동일해도 상이해도 되고, ＃3은 식(300)의 R에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수를 나타낸다.

    (상기 식(318) 중, R 6 및 R 7 은, 각각 독립하여, 수소 원자, 탄소수 1∼20의 알킬기, 알킬아릴기, 알킬벤질기, 알킬사이클로알킬기, 알킬사이클로알킬메틸기, 사이클로알킬기, 페닐기, 또는 벤질기를 나타내고, ＃3은 식(300)의 R에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수를 나타낸다.)

    본 발명의 조성물에 의하면, 치과 재료, 예를 들면, 치과용 보철물로서 유용한, 친수성이 뛰어나고, 방오성 등이 뛰어난 경화물, 특히 단층막을 제공할 수 있다. 이와 같은 단층막을 가지는 치과용 보철물은, 친수성이 뛰어나고, 방오성 등이 뛰어나다.

    [도 1] 도 1은, 실시예에 있어서, 친수기 농도(음이온 농도)의 경사도(Sa/Da)를 측정하기 위한 시료 조제의 방법을 나타내는 약도(略圖)이다.
    [도 2] 도 2는, 실시예에 있어서, 중합성 조성물로부터 용제를 제거하는 방법을 나타내는 약도이다.

    이하, 본 발명에 관하여 설명한다.

    〔조성물〕

    본 발명에서 사용되는 조성물은, 하기 화합물(I), 하기 화합물(II), 및 하기 계면활성제(III)를 포함한다. 또한, 본 명세서에 있어서, 설명의 편의상, 이 조성물은, "본 발명의 치과용 조성물" 또는 "본 발명의 조성물"이라고 불리는 경우가 있다.

    ＜화합물(I)＞

    본 발명의 치과용 조성물에 포함되는 화합물(I)은, 음이온성 친수기, 및 양이온성 친수기로부터 선택되는 적어도 1개의 친수기와, 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 적어도 1개의 관능기를 가진다. 즉, 본 발명에 있어서, 화합물(I)은, 친수기로서, 반드시, 음이온성 친수기, 양이온성 친수기, 혹은, 음이온성 친수기와양이온성 친수기의 양쪽을 가지는 것이다. 이와 같은 친수기와 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 관능기를 가지는 화합물이 포함되는 조성물을 중합함으로써, 얻어지는 경화물에 친수성이 부여될 수 있어, 친수성이 뛰어난 치과용 보철물을 얻을 수 있다. 또한, 화합물(I)은, 친수기로서, 음이온성 친수기 및/또는 양이온성 친수기에 더하여, 수산기를 가지고 있어도 가지지 않아도 된다.

    친수기

    상기 음이온성 친수기로서는, 예를 들면, 설포기, 카복실기, 인산기, O-황산기(-O-SO 3 - ), 및 N-황산기(-NH-SO 3 - ) 등을 들 수 있다. 이들 음이온성 친수기 중에서도, 설포기, 카복실기, 및 인산기가 바람직하다. 여기서, 본 발명에 있어서는, 이들 음이온성 친수기 중, 설포기, 및 인산기가 특히 바람직하다.

    여기서, 화합물(I)에 있어서, 상기 음이온성 친수기는, 유리산의 형태를 가지고 있어도 되고, 혹은, 적당한 양이온과의 염의 형태를 가지고 있어도 된다.

    따라서, 전형적으로는, 설포기는 하기 식(α), 카복실기는 하기 식(β), 인산기는, 하기 식(γ1) 또는 (γ2)의 형태로 화합물(I)에 포함되어 있으면 된다. 여기서, 본 발명에 있어서는, 화합물(I)이 인산기를 포함하는 경우, 이 인산기는, 하기 식(γ1)의 형태로 화합물(I)에 포함되어 있는 것이 바람직하다.

    -SO 3 Z (α)

    -COOZ (β)

    -OP=O(OZ) 2 (γ1)

    (-O) 2 P=O(OZ) 1 (γ2)

    상기 식(α∼γ2) 중, Z는, 수소 이온, 암모늄 이온, 알칼리 금속 이온, 및 1/2 원자의 알칼리토류 금속 이온으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 양이온이다.

    또한, 본 발명에서 말하는 암모늄 이온이란, 암모니아, 1급 아민, 2급 아민 또는 3급 아민에 수소 이온이 결합하여 된 양이온이다. 상기 암모늄 이온으로서는, 친수성의 관점에서는, 암모니아 및 탄소수가 적은 아민에 수소 이온이 결합된 양이온이 바람직하고, 암모니아에 수소 이온이 결합되어 형성되는 암모늄 이온, 메틸암모늄이 보다 바람직하다.

    또한, 본 발명에서 말하는 상기 알칼리 금속은, 주기표 1족의 금속을 의미하고, 그와 같은 금속으로서는, 예를 들면, 리튬, 나트륨, 칼륨, 루비듐 등을 들 수 있다.

    또한, 본 발명에서 말하는 상기 알칼리토류 금속은, 주기표 2족의 금속을 의미하고, 그와 같은 금속으로서는, 예를 들면, 베릴륨, 마그네슘, 칼슘, 스트론튬, 바륨 등을 들 수 있다.

    상기 Z가 될 수 있는 양이온 중에서도 알칼리 금속 이온이 바람직하고, 나트륨 이온, 칼륨 이온, 및 루비듐 이온이 보다 바람직하다.

    상기 양이온성 친수기로서는, 예를 들면, 4급 암모늄기, 베테인기, 및 아민옥사이드기 등을 들 수 있다. 이들 양이온성 친수기 중에서도, 4급 암모늄기 및 베테인기가 바람직하고, 본 발명에 있어서는, 4급 암모늄기가 특히 바람직하다.

    상기 수산기로서는, 본 발명의 효과를 나타내는 한, 알코올성 수산기, 페놀성 수산기 중 어느 하나이어도 되지만, 알코올성 수산기가 바람직하다. 또한, 상기 음이온성 친수기 중에는, 설포기, 인산기 및 카복실기 등과 같이 형식상 "-OH"로 표시되는 부분 구조가 포함되는 경우가 있지만, 본 발명에 있어서는, 이와 같이 상기 음이온성 친수기의 일부가 되어 있는 "-OH"는, "수산기"라고는 보지 않는다.

    상기 화합물(I)이 가지는 친수기로서는, 음이온성 친수기가 바람직하다.

    또한, 화합물(I)이, 친수기를 2 이상 가지는 경우, 이들 친수기는, 동일해도 되고, 혹은, 서로 상이해도 된다.

    중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 관능기

    중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 관능기로서는, 그 관능기가 라디칼 중합 또는 이온 중합 가능하면 특별히 제한은 없지만, 예를 들면, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 아크릴로일싸이오기, 메타크릴로일싸이오기, 아크릴아미드기, 메타크릴아미드기, 알릴기, 바이닐기, 아이소프로페닐기, 말레일기(-CO-CH=CH-CO-), 이타코닐기(-CO-CH=CH-CO-), 및 스티릴기 등을 들 수 있다. 또한, 본 명세서 중, 아크릴로일과 메타크릴로일을 총칭하여 (메타)아크릴로일, 아크릴로일옥시와 메타크릴로일옥시를 총칭하여 (메타)아크릴로일옥시, 아크릴로일싸이오와 메타크릴로일싸이오를 총칭하여 (메타)아크릴로일싸이오, 아크릴아미드와 메타크릴아미드를 총칭하여 (메타)아크릴아미드라고 칭하는 경우도 있다.

    또한, 화합물(I)이, "중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 관능기"를 2 이상 가지는 경우, 이들 관능기는, 동일해도 되고, 혹은, 서로 상이해도 된다.

    화합물(I)의 적합한 태양( 態樣 )

    본 발명에서 사용되는 화합물(I)은, 상술한 바와 같은 친수기와, 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 관능기를 가지는 화합물이며, 화합물(I)에 포함되는 "친수기" 및 "중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 관능기"의 수는, 모두, 1개이어도 되고, 2 이상이어도 된다.

    여기서, 본 발명에 있어서는, 상기 화합물(I)이 하기 일반식(100)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.

    상기 식(100) 중,

    A는, 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 관능기를 1∼5개 가지는 탄소수 2∼100의 유기기를 나타내고,

    CD는, 하기 일반식(101), (102) 및 (112)로부터 선택되는, 적어도 1개의 친수기를 포함하는 기를 나타내고,

    n은, CD에 결합되는 A의 수이며, 1 또는 2를 나타내고,

    n0는, A에 결합되는 CD의 수이며, 1∼5의 정수를 나타낸다.

    상기 CD가 되는, 음이온성 친수기를 포함하는 기로서는, 예를 들면, 하기 일반식(101) 및 (102)로 표시되는 친수기를 들 수 있다.

    상기 식(101) 중, M은 수소 원자, 알칼리 금속, 1/2 원자의 알칼리토류 금속, 또는 암모늄 이온을 나타내고, ＃1은 식(100)의 A에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수를 나타낸다.

    상기 식(102) 중, M은 수소 원자, 알칼리 금속, 1/2 원자의 알칼리토류 금속, 또는 암모늄 이온을 나타내고, ＃1은 식(100)의 A에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수를 나타낸다.

    상기 CD가 되는, 양이온성 친수기를 포함하는 기로서는, 예를 들면, 하기 일반식(112)으로 표시되는 친수기를 들 수 있다.

    상기 식(112) 중, A(-)는, 할로겐 이온, 폼산 이온, 아세트산 이온, 황산 이온, 황산수소 이온, 인산 이온, 또는 인산수소 이온을 나타내고, R 6 ∼R 8 은, 각각 독립하여, 수소 원자, 탄소수 1∼20의 알킬기, 알킬아릴기, 알킬벤질기, 알킬사이클로알킬기, 알킬사이클로알킬메틸기, 사이클로알킬기, 페닐기, 또는 벤질기를 나타내고, ＃1은 식(100)의 A에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수를 나타낸다.

    상기 식(100) 중의, A로서는, 하기 일반식(120), (123) 및 (124)로부터 선택되는, 적어도 1개의 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 관능기인 것이 바람직하고, 그 중에서도, 탄소수 2∼100의 유기기가 보다 바람직하다. 즉, A로서 적합하게 사용되는 관능기는, 하기 일반식(120), (123) 및 (124)로부터 선택되는 적어도 1개이다.

    상기 식(120) 중, X는, -O-, -S-, -NH-, 또는 -NCH 3 -를 나타내고, r은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, r 1 ∼r 4 는, 각각 독립하여, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 또는 수산기를 나타내고, m1은 0∼10의 정수를 나타내고, n1은 0∼100의 정수를 나타내고, ＃2는 상기 일반식(101), (102) 및 (112)로 표시되는 기로부터 선택되는 적어도 1개의 기에 포함되는 ＃1에 결합되는 결합수를 나타낸다.

    상기 식(123) 중, r은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, r 1 및 r 2 는, 독립하여, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 또는 수산기를 나타내고, m1은 0∼10의 정수를 나타내고, ＃2는 상기 일반식(101), (102) 및 (112)로 표시되는 기로부터 선택되는 적어도 1개의 기에 포함되는 ＃1에 결합되는 결합수를 나타낸다.

    상기 식(124) 중, r은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, r 1 및 r 2 는, 독립하여, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 또는 수산기를 나타내고, m1은 0∼10의 정수, m2는, 독립하여, 0∼5의 정수를 나타내고, n0는 1∼5의 정수를 나타내고, ＃2는 상기 일반식(101), (102) 및 (112)로 표시되는 기로부터 선택되는 적어도 1개의 기에 포함되는 ＃1에 결합되는 결합수를 나타낸다.

    상기 화합물(I)이 되는 음이온성 친수기를 가지는 화합물로서는, 하기 일반식(Ia), (Ic), (Id) 및 (Il) 중 어느 하나로 표시되는 화합물이 바람직하다.

    상기 식(Ia) 중, X는, -O-, -S-, -NH-, 또는 -NCH 3 -를 나타내고, r은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, r 1 ∼r 4 는, 각각 독립하여, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 또는 수산기를 나타내고, m1은 0∼10의 정수를 나타내고, n1은 0∼100의 정수를 나타내고, M은, 수소 이온, 암모늄 이온, 알칼리 금속 이온, 또는 1/2 원자의 알칼리토류 금속 이온을 나타낸다.

    상기 일반식(Ia)로 표시되는 화합물로서는, 예를 들면, 1-(메타)아크릴로일옥시메틸설폰산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸설폰산, 2-(메타)아크릴로일싸이오에틸설폰산, 3-(메타)아크릴로일옥시프로필설폰산, 2-(메타)아크릴로일옥시프로필설폰산, 3-(메타)아크릴로일옥시-2-하이드록시프로필-1-설폰산, 4-(메타)아크릴로일옥시뷰틸설폰산, 5-(메타)아크릴로일옥시-3-옥사펜틸설폰산, 5-(메타)아크릴로일옥시-3-티아펜틸설폰산, 6-(메타)아크릴로일옥시헥실설폰산, 8-(메타)아크릴로일옥시-3,6-다이옥사옥틸설폰산, (메타)아크릴아미드메틸설폰산, (메타)아크릴싸이오메틸설폰산, 2-(메타)아크릴싸이오에틸설폰산, 3-(메타)아크릴싸이오프로필설폰산, (메타)아크릴아미드메틸설폰산, 2-(메타)아크릴아미드에틸설폰산, 2-(메타)아크릴아미드-N-메틸-에틸설폰산, 3-(메타) 아크릴아미드프로필-1-설폰산, 2-(메타)아크릴아미드프로필-1-설폰산, 및 2-(메타)아크릴아미드-2-메틸-프로페인설폰산((메타)아크릴아미드-t-뷰틸설폰산), 및, 이들의 리튬염, 나트륨염, 칼륨염, 루비듐염, 암모늄염, 마그네슘염, 및 칼슘염 등을 들 수 있다.

    상기 식(Ic) 중, r은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, r 1 및 r 2 는, 독립하여, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 또는 수산기를 나타내고, m1은 0∼10의 정수를 나타내고, M은, 수소 이온, 암모늄 이온, 알칼리 금속 이온, 또는 1/2 원자의 알칼리토류 금속 이온을 나타내고, n1은 1∼10의 정수를 나타낸다.

    상기 일반식(Ic)로 표시되는 화합물로서는, 예를 들면, 바이닐설폰산, 아이소프로페닐설폰산, 알릴설폰산, 메타릴설폰산, 및 5, 6-헥세닐-1-설폰산, 및, 이들의 리튬염, 나트륨염, 칼륨염, 루비듐염, 암모늄염, 마그네슘염, 및 칼슘염 등을 들 수 있다.

    상기 식(Id) 중, r은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, r 1 및 r 2 는, 독립하여, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 또는 수산기를 나타내고, m1은 0∼10의 정수, m2는 0∼5의 정수를 나타내고, n0는 1∼5의 정수를 나타내고, M은, 수소 이온, 암모늄 이온, 알칼리 금속 이온, 또는 1/2 원자의 알칼리토류 금속 이온을 나타내고, n1은 1∼10의 정수를 나타낸다.

    상기 일반식(Id)로 표시되는 화합물로서는, 예를 들면, 스타이렌설폰산, 아이소프로페닐벤젠설폰산, 알릴벤젠설폰산, 메타릴벤젠설폰산, 바이닐나프탈렌설폰산, 아이소프로페닐나프탈렌설폰산, 알릴나프탈렌설폰산, 메타릴나프탈렌설폰산, 바이닐안트라센설폰산, 아이소프로페닐안트라센설폰산, 알릴안트라센설폰산, 메타릴안트라센설폰산, 바이닐페난트렌설폰산, 아이소프로페닐페난트렌설폰산, 알릴페난트렌설폰산, 및 메타릴페난트렌설폰산, 및, 이들의 리튬염, 나트륨염, 칼륨염, 루비듐염, 암모늄염, 마그네슘염, 및 칼슘염;

    스타이렌다이설폰산, 및, 이들의 다이리튬염, 다이나트륨염, 다이칼륨염, 다이루비듐염, 다이암모늄염, 마그네슘염, 및 칼슘염;

    아이소프로페닐벤젠다이설폰산, 및, 이들의 리튬염, 나트륨염, 칼륨염, 루비듐염, 암모늄염, 마그네슘염, 및 칼슘염;

    바이닐나프탈렌트라이설폰산, 및, 이들의 트라이리튬염, 트라이나트륨염, 트라이칼륨염, 트라이루비듐염, 트라이암모늄염, 마그네슘염, 및 칼슘염; 및, 아이소프로페닐나프탈렌트라이설폰산, 및, 이들의 다이리튬염, 다이나트륨염, 다이칼륨염, 다이루비듐염, 다이암모늄염, 마그네슘염, 및 칼슘염 등을 들 수 있다.

    상기 식(Il) 중, X는, -O-, -S-, -NH-, 또는 -NCH 3 -를 나타내고, r은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, r 1 ∼r 4 는, 각각 독립하여, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 또는 수산기를 나타내고, m1은 0∼10의 정수를 나타내고, n1은 0∼100의 정수를 나타내고, M은, 수소 이온, 암모늄 이온, 알칼리 금속 이온, 또는 1/2 원자의 알칼리토류 금속 이온을 나타낸다. a는 1 또한 b는 2이며, M끼리는 서로 동일해도 상이해도 된다.

    상기 일반식(II)로 표시되는 화합물로서는, 예를 들면,

    (메타)아크릴로일옥시메틸인산, 2-(메타)아크릴로일옥시-에틸인산, 2-(메타)아크릴로일옥시-프로필인산, 3-(메타)아크릴로일옥시-프로필인산, 4-(메타)아크릴로일옥시-뷰틸인산, 6-(메타)아크릴로일옥시-헥실인산, 5-(메타)아크릴로일옥시-3-옥사펜틸인산, 및 8-(메타)아크릴로일옥시-3,6-다이옥사옥틸인산, 및, 이들의 리튬염, 다이리튬염, 나트륨염, 다이나트륨염, 칼륨염, 다이칼륨염, 암모늄염, 다이암모늄염, 마그네슘염, 및 칼슘염 등을 들 수 있다.

    상기 화합물(I)이 되는 양이온성 친수기를 가지는 화합물로서는, 하기 일반식(Ir)로 표시되는 화합물이 바람직하다.

    상기 식(Ir) 중, X는, -O-, -S-, -NH-, 또는 -NCH 3 -를 나타내고, r 1 ∼r 4 는, 각각 독립하여, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 또는 수산기를 나타낸다. m1은 0∼10의 정수를 나타내고, n1은 0∼100의 정수를 나타내고, n1이 2 이상인 경우는, r 1 끼리∼r 4 끼리, 및 X끼리는, 서로 동일해도 상이해도 되고, A(-)는, 할로겐 이온, 폼산 이온, 아세트산 이온, 황산 이온, 황산수소 이온, 인산 이온, 또는 인산수소 이온을 나타내고, R6∼R8은, 각각 독립하여, 수소 원자, 탄소수 1∼20의 알킬기, 알킬아릴기, 알킬벤질기, 알킬사이클로알킬기, 알킬사이클로알킬메틸기, 사이클로알킬기, 페닐기, 또는 벤질기를 나타낸다.

    상기 일반식(Ir)로 표시되는 화합물로서는, 예를 들면,

    N,N-다이메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트,

    N,N-다이메틸아미노-프로필-2-(메타)아크릴레이트,

    N,N-다이메틸아미노-프로필-3-(메타)아크릴레이트,

    N,N-다이메틸아미노-뷰틸-4-(메타)아크릴레이트,

    N,N-다이메틸아미노-헥실-6-(메타)아크릴레이트,

    N,N-다이메틸아미노-옥틸-8-(메타)아크릴레이트,

    N,N-다이메틸아미노-3-옥사펜틸 5-(메타)아크릴레이트,

    N,N-다이에틸아미노에틸(메타)아크릴레이트,

    N,N-다이프로필아미노에틸(메타)아크릴레이트,

    3-(메타)아크릴로일옥시-2-하이드록시프로필-1-트라이에틸암모늄,

    N,N-다이메틸아미노에틸(메타)아크릴아미드,

    N,N-다이메틸아미노-프로필-2-(메타)아크릴아미드,

    N,N-다이메틸아미노-프로필-3-(메타)아크릴아미드, 및

    N,N-다이메틸아미노-뷰틸-4-(메타)아크릴아미드

    의 각 염산염, 불화수소염, 황산염, 폼산염, 아세트산염, 및 인산염 등을 들 수 있다.

    상기 화합물(I)의 분자량은, 통상 72∼18,000, 바람직하게는 72∼3,000, 보다 바람직하게는 72∼1000이다.

    상기 화합물(I)은 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상 혼합하여 사용해도 된다.

    또한, 본 발명의 조성물에는 상기 화합물(I)이 포함되지만, 상기 화합물(I)이 적어도 일부가 반응하여 올리고머의 형태가 되어 상기 조성물에 포함되어 있어도 된다. 또한, 여기서 말하는 올리고머란 상기 화합물(I)로부터 형성되는 반복 단위를 통상 2∼20 포함하는 것이다.

    상기 화합물(I)은 공지의 방법 또는 공지에 준하는 방법에 의해 제조할 수 있다. 또한, 상기 화합물(I)은 시판품으로서도 입수할 수 있다.

    ＜화합물(II)＞

    본 발명의 치과용 조성물에 포함되는 화합물(II)은, 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 관능기를 2개 이상 가진다. 다만, 화합물(II)은, 수산기를 가지고 있어도 되지만, 음이온성 친수기, 및 양이온성 친수기는 모두 가지지 않아, 화합물(I)과는 상이하다. 이와 같은 화합물이 포함된 조성물을 경화함으로써, 충분히 가교한 경화물을 얻을 수 있다.

    여기서, 본 발명에 있어서 화합물(II)을 구성하는 "중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 관능기"로서, 상기 화합물(I)을 구성하는 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 관능기와 동일한 것을 들 수 있다. 다만, 본 발명에 있어서의 전형적인 태양에 있어서는, 화합물(II)을 구성하는 "중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 관능기"로서, (메타)아크릴로일기가 적합하게 사용된다. 또한,(메타)아크릴로일은, 아크릴로일과 메타크릴로일의 총칭이다.

    상기(메타)아크릴로일기로서는, (메타)아크릴로일옥시기, (메타)아크릴로일싸이오기, 및 (메타)아크릴아미드기 등을 들 수 있다. 이들 (메타)아크릴로일기 중에서도, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일싸이오기가 바람직하다.

    상기 화합물(II) 중에서도, 1개 이상의 수산기와 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물, 에터 결합 및 싸이오에터 결합으로부터 선택되는 1개 이상의 결합과 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물, 1개 이상의 에스터 결합(다만, (메타)아크릴로일기와 직접 결합한 부분의 에스터 결합을 제외한다.)과 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물, 지환족기 및 방향족기로부터 선택되는 1개 이상의 기와 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물, 1개 이상의 헤테로환과 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물이 바람직하다.

    상기 화합물(II)로서는, 예를 들면, 에틸렌글라이콜다이(메타)아크릴레이트, 1,2-프로페인다이올다이(메타)아크릴레이트, 1,3-프로페인다이올다이(메타)아크릴레이트, 1,4-뷰테인다이올다이(메타)아크릴레이트, 1,6-헥세인다이올다이(메타)아크릴레이트, 1,9-노네인다이올다이(메타)아크릴레이트, 1,10-데케인다이올다이(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글라이콜다이(메타)아크릴레이트, 2-메틸-1,8-옥테인다이올다이(메타)아크릴레이트, 2-뷰틸-2-에틸-1,3-프로페인다이올다이(메타)아크릴레이트, 1,2-비스{3-(메타)아크릴로일옥시-2-하이드록시-프로필옥시}에테인, 1,2-비스{3-(메타)아크릴로일옥시-2-하이드록시-프로필옥시}프로페인, 1,3-비스{3-(메타)아크릴로일옥시-2-하이드록시-프로필옥시}프로페인, 1,4-비스{3-(메타)아크릴로일옥시-2-하이드록시-프로필옥시}뷰테인 , 1,6-비스{3-(메타)아크릴로일옥시-2-하이드록시-프로필옥시}헥세인; 네오펜틸글라이콜하이드록시피발산다이(메타)아크릴레이트; 폴리에틸렌글라이콜다이(메타)아크릴레이트, 1,2-폴리프로필렌글라이콜다이(메타)아크릴레이트, 1,3-폴리프로필렌글라이콜다이(메타)아크릴레이트, 1,4-폴리뷰틸렌글라이콜다이(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글라이콜-비스{3-(메타)아크릴로일옥시-2-하이드록시-프로필}에터, 1,2-폴리프로필렌글라이콜-비스{3-(메타)아크릴로일옥시-2-하이드록시-프로필}에터; 1,2-폴리프로필렌글라이콜-비스{(메타)아크릴로일-폴리(옥시에틸렌)}에터; 1,3-폴리프로필렌글라이콜다이(메타)아크릴레이트, 1,4-폴리뷰틸렌글라이콜다이(메타)아크릴레이트, 1,4-폴리뷰틸렌글라이콜-비스{3-(메타)아크릴로일옥시-2-하이드록시-프로필}에터 등을 들 수 있다.

    또한 상기 화합물(II)로서는, 예를 들면, 비스{2-(메타)아크릴로일싸이오-에틸}설파이드, 비스{5-(메타)아크릴로일싸이오-3-티아펜틸}설파이드; 사이클로헥세인다이올다이(메타)아크릴레이트, 비스{(메타)아크릴로일옥시-메틸}사이클로헥세인, 비스{7-(메타)아크릴로일옥시-2,5-티옥사헵틸}사이클로헥세인, 비스{(메타)아크릴로일옥시-폴리(에틸렌옥시)-메틸}사이클로헥세인; 트라이사이클로데케인다이메탄올다이(메타)아크릴레이트; 2-프로페노익산{2-(1,1,-다이메틸-2-{(1-옥소-2-프로페닐) 옥시}에틸)-5-에틸-1,3-다이옥산-5-일}메틸에스터(닛폰화약사제, 상품명 "KAYARAD R-604"); N,N',N"-트리스{2-(메타)아크릴로일옥시-에틸}아이소시아누레이트; 자일릴렌다이올다이(메타)아크릴레이트, 비스{7-(메타)아크릴로일옥시-2,5-티옥사헵틸}벤젠, 비스{(메타)아크릴로일옥시-폴리(에틸렌옥시)-메틸}벤젠; 비스페놀 A 다이(메타)아크릴레이트, 비스{(메타)아크릴로일-옥시에틸}비스페놀 A, 비스{(메타)아크릴로일-옥시프로필}비스페놀 A, 비스{(메타)아크릴로일-폴리(옥시에틸렌)}비스페놀 A, 비스{(메타)아크릴로일-폴리(옥시-1,2-프로필렌)}비스페놀 A, 비스{3-(메타)아크릴로일옥시-2-하이드록시-프로필}비스페놀 A, 비스{3-(메타)아크릴로일옥시-2-하이드록시-프로필-옥시에틸}비스페놀 A, 비스{3-(메타)아크릴로일옥시-2-하이드록시-프로필-옥시프로필}비스페놀 A, 비스{3-(메타)아크릴로일옥시-2-하이드록시-프로필-폴리(옥시에틸렌)}비스페놀 A, 비스{3- (메타)아크릴로일옥시-2-하이드록시-프로필-폴리(옥시-1,2-프로필렌)}비스페놀 A; 비스{(메타)아크릴로일-옥시에틸-옥시프로필}비스페놀 A, 비스{(메타)아크릴로일폴리(옥시에틸렌)-폴리(옥시-1,2-프로필렌)}비스페놀 A; 나프탈렌다이올다이(메타)아크릴레이트, 비스{3-(메타)아크릴로일옥시-2-하이드록시-프로필-옥시}나프타렌; 9,9-플루오렌다이올다이(메타)아크릴레이트, 9,9-비스{4-(2-(메타)아크릴로일옥시-에틸-옥시)}플루오렌, 9,9-비스{3-페닐-4-(메타)아크릴로일옥시-폴리(에틸렌옥시)}플루오렌; 등을 들 수 있다.

    또한 상기 화합물(II)로서는, 예를 들면, 페놀노볼락형 에폭시(메타)아크릴레이트(신나카무라화학제, 상품명 "NK올리고 EA-6320, EA-7120, EA-7420"); 글라이세린-1,3-다이(메타)아크릴레이트, 1-아크릴로일옥시-2-하이드록시-3-메타크릴로일옥시프로페인, 2,6,10-트라이하이드록시-4,8-다이옥사운데케인-1, 11-다이(메타)아크릴레이트, 1,3-비스{3-(메타)아크릴로일옥시-2-하이드록시-프로필-옥시}-2-하이드록시프로페인, 1,2,3-트리스{3-(메타)아크릴로일옥시-2-하이드록시-프로필-옥시}프로페인, 1,2,3-트리스{2-(메타)아크릴로일옥시-에틸-옥시}프로페인, 1,2,3-트리스{2-(메타)아크릴로일옥시-프로필-옥시}프로페인, 1,2,3-트리스{(메타)아크릴로일옥시-폴리(1,2-에틸렌옥시)}프로페인, 1,2,3-트리스{(메타)아크릴로일옥시-폴리(1,2-프로필렌옥시)}프로페인, 1,2,3-트리스{(메타)아크릴로일옥시-폴리(1,3-프로필렌옥시)}프로페인; 트리메틸올프로페인트라이(메타)아크릴레이트, 트라이메틸올프로페인트리스{(메타)아크릴로일옥시-에틸-옥시}에터, 트라이메틸올프로페인트리스{2-(메타)아크릴로일옥시-프로필-옥시}에터, 트라이메틸올프로페인트리스{(메타)아크릴로일옥시-폴리(에틸렌옥시)}에터, 트라이메틸올프로페인트리스{(메타)아크릴로일옥시-폴리(1,2-프로필렌옥시)}에터, 펜타에리트리톨트라이(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨-테트라키스{(메타)아크릴로일옥시-에틸-옥시}에터, 펜타에리트리톨-테트라키스{2-(메타)아크릴로일옥시-프로필-옥시}에터, 펜타에리트리톨-테트라키스{(메타)아크릴로일옥시-폴리(에틸렌옥시)}에터, 펜타에리트리톨-테트라키스{(메타)아크릴로일옥시-폴리(1,2-프로필렌옥시)}에터; 다이트라이메틸올프로페인테트라(메타)아크릴레이트, 다이트라이메틸올프로페인-테트라키스{(메타)아크릴로일옥시-에틸-옥시}에터, 다이트라이메틸올프로페인-테트라키스{2-(메타)아크릴로일옥시-프로필-옥시}에터, 다이트라이메틸올프로페인-테트라키스{(메타)아크릴로일옥시-폴리(에틸렌옥시)}에터, 다이트라이메틸올프로페인-테트라키스{(메타)아크릴로일옥시-폴리(1,2-프로필렌옥시)}에터, 다이펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨-헥사(메타)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨-헥사{(메타)아크릴로일옥시-에틸-옥시}에터, 다이펜타에리트리톨-헥사{2-(메타)아크릴로일옥시-프로필-옥시}에터, 다이펜타에리트리톨-헥사{(메타)아크릴로일옥시-폴리(에틸렌옥시)}에터, 다이펜타에리트리톨-헥사{(메타)아크릴로일옥시-폴리(1,2- 프로필렌옥시)}에터; 등을 들 수 있다.

    게다가, 상기 화합물(II)로서는, 예를 들면, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 또는 4-하이드록시뷰틸(메타)아크릴레이트와 헥사메틸렌다이아이소시아나토와의 우레탄 반응물; 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 또는 4-하이드록시뷰틸(메타)아크릴레이트와 이소포론다이아이소시아나토와의 우레탄 반응물; 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 또는 4-하이드록시뷰틸(메타)아크릴레이트와 비스(아이소시아나토메틸)노보네인과의 우레탄 반응물; 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 또는 4-하이드록시뷰틸(메타)아크릴레이트와 노르비스(4-아이소시아나토사이클로헥실)메테인과의 우레탄 반응물; 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 또는 4-하이드록시뷰틸(메타)아크릴레이트와 1,3-비스(아이소시아나토메틸)사이클로헥세인과의 우레탄 반응물; 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 또는 4-하이드록시뷰틸(메타)아크릴레이트와 m-자일렌다이아이소시아나토와의 우레탄 반응물; 등을 들 수 있다.

    상기 화합물(II)은 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상 혼합하여 사용해도 된다. 또한, 이들 화합물(II)은, 공지의 방법, 또는 공지의 방법에 준하는 방법에 의해 제조할 수 있지만, 시판품으로서 입수할 수도 있다.

    화합물(I) 및 화합물(II)의 배합 비율은, 화합물(I) 및 화합물(II)의 중량에 대하여, 화합물(I)이 0.1∼50중량%, 화합물(II)이 99.9∼50중량% 포함되어 있는 것이 바람직하고, 화합물(I)이 0.3∼30중량%, 화합물(II)이 99.7∼70중량% 포함되어 있는 것이 보다 바람직하고, 화합물(I)이 0.5∼20중량%, 화합물(II)이 99.5∼80중량% 포함되어 있는 것이 더욱 바람직하다.

    ＜계면활성제(III)＞

    본 발명의 치과용 조성물에는, 상기 화합물(I) 및 화합물(II)에 더하여, 계면활성제(III)도 포함된다. 여기서, 본 발명의 치과용 조성물을 구성하는 계면활성제(III)는, 음이온성 친수기, 양이온성 친수기, 또는 2 이상의 수산기를 가지는 친수부, 및 유기 잔기로 이루어지는 소수부(疏水部)를 갖지만, 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 갖지 않는다. 이와 같은 계면활성제(III)를 포함하는 조성물을 경화함으로써, 얻어지는 경화물의 표면에 상기 화합물(I)에서 유래하는 친수기가 농축되기 쉬워지고, 예를 들면 경화물이 단층막인 경우에는, 그 표면에 친수기가 경사되기 쉬워진다.

    상기 계면활성제 중에서도, 하기 일반식(300)으로 표시되는 화합물이 바람직하다.

    상기 식(300) 중,

    R은, 탄소수 4∼100의 유기 잔기를 나타내고,

    FG는, 음이온성 친수기, 양이온성 친수기, 및 수산기로부터 선택되는 적어도 1개의 기를 포함하는 친수기를 나타내고,

    n은, FG에 결합되는 R의 수이며, 1 또는 2를 나타내고,

    n0는, R에 결합되는 FG의 수이며, 1∼5의 정수를 나타내고, FG가 수산기를 1개 포함하는 기인 경우에는, n0는 2∼5의 정수를 나타낸다.

    이와 같이, FG는, 음이온성 친수기, 양이온성 친수기, 및 수산기로부터 선택되는 친수기를 적어도 1개 포함한다.

    상기 FG가 되는, 음이온성 친수기를 포함하는 기로서는, 예를 들면, 하기 일반식(301) 및 (302) 중 어느 하나로 표시되는 친수기를 들 수 있다.

    상기 식(301) 중, M은 수소 원자, 알칼리 금속, 1/2 원자의 알칼리토류 금속, 또는 암모늄 이온을 나타내고, ＃3은 식(300)의 R에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수(結合手)를 나타낸다.

    상기 식(302) 중, M은 수소 원자, 알칼리 금속, 1/2 원자의 알칼리토류 금속, 또는 암모늄 이온을 나타내고, ＃3은 식(300)의 R에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수를 나타낸다.

    FG가 상기 일반식(301)로 표시되는 계면활성제로서는, 예를 들면, 알킬설폰산계 계면활성제, 알케닐설폰산계 계면활성제(다만, 그 계면활성제에 포함되는 알케닐기는 중합성은 아니다.), 알킬아세트산설폰산계 계면활성제, N-아실화설폰산계 계면활성제, 하이드록시알케인설폰산계 계면활성제, 아릴설폰산계 계면활성제, 설포석신산에스터계 계면활성제 등을 들 수 있다.

    알킬설폰산계 계면활성제로서는, 예를 들면, 뷰틸설폰산, 펜틸설폰산, 헥실설폰산, 헵틸설폰산, 옥틸설폰산, 노닐설폰산, 데실설폰산, 운데실설폰산, 도데실설폰산, 트라이데실설폰산, 테트라데실설폰산, 펜타데실설폰산, 헥사데실설폰산, 헵타데실설폰산, 옥타데실설폰산, 노나데실설폰산, 및 이코사닐설폰산, 및, 이들의 나트륨염, 칼륨염, 암모늄염, 마그네슘염, 및 칼슘염 등을 들 수 있다.

    알케닐설폰산계 계면활성제로서는, 예를 들면, 부티닐설폰산, 헥시닐설폰산, 옥티닐설폰산, 데시닐설폰산, 도데시닐설폰산, 테트라데시닐설폰산, 헥사데시닐설폰산, 옥타데시닐설폰산, 이코사니닐설폰산, 부티닐옥시설폰산, 헥시닐옥시설폰산, 옥티닐옥시설폰산, 데시닐옥시설폰산, 도데시닐옥시설폰산, 테트라데시닐옥시설폰산, 헥사데시닐옥시설폰산, 옥타데시닐옥시설폰산, 이코사닐옥시설폰산, 부티닐옥시-3-옥사펜틸설폰산, 헥시닐옥시-3-옥사펜틸설폰산, 옥티닐옥시-3-옥사펜틸설폰산, 데시닐옥시-3-옥사펜틸설폰산, 도데시닐옥시-3-옥사펜틸설폰산, 테트라데시닐옥시-3-옥사펜틸설폰산, 헥사데시닐옥시-3-옥사펜틸설폰산, 옥타데시닐옥시-3-옥사펜틸설폰산, 이코사닐옥시-3-옥사펜틸설폰산, 부티닐옥시-3,6-다이옥사옥틸설폰산, 헥시닐옥시-3,6-� ��이옥사옥틸설폰산, 옥티닐옥시-3,6-다이옥사옥틸설폰산, 데시닐옥시-3,6-다이옥사옥틸설폰산, 도데시닐옥시-3,6-다이옥사옥틸설폰산, 테트라데시닐옥시-3,6-다이옥사옥틸설폰산, 헥사데시닐옥시-3,6-다이옥사옥틸설폰산, 옥타데시닐옥시-3,6-다이옥사옥틸설폰산, 이코사닐옥시-3,6-다이옥사옥틸설폰산, 부티닐옥시-3,6,9-트라이옥사운데실설폰산, 헥시닐옥시-3,6,9-트라이옥사운데실설폰산, 옥티닐옥시-3,6,9-트라이옥사운데실설폰산, 데시닐옥시-3,6,9-트라이옥사운데실설폰산, 도데시닐옥시-3,6,9-트라이옥사운데실설폰산, 테트라데시닐옥시-3,6,9-트라이옥사운데실설폰산, 헥사데시닐옥시-3,6,9-트라이옥사운데실설폰산, 옥타데시닐옥시-3,6,9-트라이옥사운데실설폰산, 및 이코사닐옥시-3,6,9-트라이옥사운데실설폰산, 및, 이들의 나트륨염, 칼륨염, 암모늄염, 트� ��이에탄올아민염, 마그네슘염, 및 칼슘염 등을 들 수 있다.

    알킬아세트산설폰산계 계면활성제로서는, 예를 들면, α-설포아세트산에틸, α-설포아세트산프로필, α-설포아세트산뷰틸, α-설포아세트산펜틸, α-설포아세트산헥실, α-설포아세트산헵틸, α-설포아세트산옥틸, α-설포아세트산노닐, α-설포아세트산데실, α-설포아세트산도데실, α-설포아세트산테트라데실, α-설포아세트산헥사데실, α-설포아세트산옥타데실, 및 α-설포아세트산이코실, 및, 그 나트륨염, 칼륨염, 암모늄염, 마그네슘염, 및 칼슘염 등을 들 수 있다.

    N-아실화설폰산계 계면활성제로서는, 예를 들면, 2-헥실산아미드-에테인설폰산, 2-옥틸산아미드-에테인설폰산, 2-라우르산아미드-에테인설폰산, 2-미리스트산아미드-에테인설폰산, 2-팔미트산아미드-에테인설폰산, 2-스테아린산아미드-에테인설폰산, 2-올레산아미드-에테인설폰산, 2-베헨산아미드-에테인설폰산, N-메틸-2-헥실산아미드-에테인설폰산, N-메틸-2-옥틸산아미드-에테인설폰산, N-메틸-2-라우르산아미드-에테인설폰산, N-메틸-2-미리스트산아미드-에테인설폰산, N-메틸-2-팔미트산아미드-에테인설폰산, N-메틸-2-스테아린산아미드-에테인설폰산, N-메틸-2-올레산아미드-에테인설폰산, N-메틸-2-베헨산아미드-에테인설폰산, 3-헥실산아미드-프로페인설폰산, 3-옥틸산아미드-프로페인설폰산, 3-라우르산아미드-프로페인설폰산, 3-미리스트산아미드-프로페 인설폰산, 3-팔미트산아미드-프로페인설폰산, 3-스테아린산아미드-프로페인설폰산, 3-올레산아미드-프로페인설폰산, 및 3-베헨산아미드-프로페인설폰산, 및, 그 나트륨염, 칼륨염, 암모늄염, 마그네슘염, 및 칼슘염 등을 들 수 있다.

    하이드록시알케인설폰산계 계면활성제로서는, 예를 들면, 2-하이드록시뷰틸설폰산, 2-하이드록시펜틸설폰산, 2-하이드록시헥실설폰산, 2-하이드록시헵틸설폰산, 2-하이드록시옥틸설폰산, 2-하이드록시노닐설폰산, 2-하이드록시데실설폰산, 2-하이드록시운데실설폰산, 2-하이드록시데실설폰산, 2-하이드록시트라이데실설폰산, 2-하이드록시테트라데실설폰산, 2-하이드록시펜타데실설폰산, 2-하이드록시헥사데실설폰산, 2-하이드록시헵타데실설폰산, 2-하이드록시옥타데실설폰산, 2-하이드록시노나데실설폰산, 2-하이드록시이코사닐설폰산, 3-하이드록시뷰틸설폰산, 3-하이드록시펜틸설폰산, 3-하이드록시헥실설폰산, 3-하이드록시헵틸설폰산, 3-하이드록시옥틸설폰산, 3-하이드록시노닐설폰산, 3-하이드록시데실설폰산, 3-하이드록시운데실설폰산, 3-하이드� ��시데실설폰산, 3-하이드록시트라이데실설폰산, 3-하이드록시테트라데실설폰산, 3-하이드록시펜타데실설폰산, 3-하이드록시헥사데실설폰산, 3-하이드록시헵타데실설폰산, 3-하이드록시옥타데실설폰산, 3-하이드록시노나데실설폰산, 3-하이드록시이코사닐설폰산, 4-하이드록시뷰틸설폰산, 4-하이드록시펜틸설폰산, 4-하이드록시헥실설폰산, 4-하이드록시헵틸설폰산, 4-하이드록시옥틸설폰산, 4-하이드록시노닐설폰산, 4-하이드록시데실설폰산, 4-하이드록시운데실설폰산, 4-하이드록시데실설폰산, 4-하이드록시트라이데실설폰산, 4-하이드록시테트라데실설폰산, 4-하이드록시펜타데실설폰산, 4-하이드록시헥사데실설폰산, 4-하이드록시헵타데실설폰산, 4-하이드록시옥타데실설폰산, 4-하이드록시노나데실설폰산, 및 4-하이드록시이코사닐설폰산, 및, 그 나� ��륨염, 칼륨염, 암모늄염, 마그네슘염, 및 칼슘염 등을 들 수 있다.

    아릴설폰산계 계면활성제로서는, 예를들면, 페닐설폰산, 메틸벤젠설폰산, 에틸벤젠설폰산, 프로필벤젠설폰산, 뷰틸벤젠설폰산, 펜틸벤젠설폰산, 헥실벤젠설폰산, 헵틸벤젠설폰산, 옥틸벤젠설폰산, 노닐벤젠설폰산, 데실벤젠설폰산, 운데실벤젠설폰산, 도데실벤젠설폰산, 트라이데실벤젠설폰산, 테트라데실벤젠설폰산, 펜타데실벤젠설폰산, 헥사데실벤젠설폰산, 헵타데실벤젠설폰산, 옥타데실벤젠설폰산, 노나데실벤젠설폰산, 이코사닐벤젠설폰산, 다이(메틸)벤젠설폰산, 다이(에틸)벤젠설폰산, 다이(프로필)벤젠설폰산, 다이(뷰틸)벤젠설폰산, 다이(펜틸)벤젠설폰산, 다이(헥실)벤젠설폰산, 다이(헵틸)벤젠설폰산, 다이(옥틸)벤젠설폰산, 다이(노닐)벤젠설폰산, 다이(데실)벤젠설폰산, 다이(운데실)벤젠설폰산, 다이(도데실)벤젠설폰산, 다이(트라이데� ��)벤젠설폰산, 다이(테트라데실)벤젠설폰산, 다이(펜타데실)벤젠설폰산, 다이(헥사데실)벤젠설폰산, 다이(헵타데실)벤젠설폰산, 다이(옥타데실)벤젠설폰산, 다이(노나데실)벤젠설폰산, 다이(이코사닐)벤젠설폰산, 트라이(메틸)벤젠설폰산, 트라이(에틸)벤젠설폰산, 트라이(프로필)벤젠설폰산, 트라이(뷰틸)벤젠설폰산, 트라이(펜틸)벤젠설폰산, 트라이(헥실)벤젠설폰산, 트라이(헵틸)벤젠설폰산, 트라이(옥틸)벤젠설폰산, 트라이(노닐)벤젠설폰산, 트라이(데실)벤젠설폰산, 트라이(운데실)벤젠설폰산, 트라이(도데실)벤젠설폰산, 트라이(트라이데실)벤젠설폰산, 트라이(테트라데실)벤젠설폰산, 트라이(펜타데실)벤젠설폰산, 트라이(헥사데실)벤젠설폰산, 트라이(헵타데실)벤젠설폰산, 트라이(옥타데실)벤젠설폰산, 트라이(노나데실)벤젠설폰산, 트라이(이� �사닐)벤젠설폰산, 나프탈렌설폰산, 메틸나프탈렌설폰산, 에틸나프탈렌설폰산, 프로필나프탈렌설폰산, 뷰틸나프탈렌설폰산, 펜틸나프탈렌설폰산, 헥실나프탈렌설폰산, 헵틸나프탈렌설폰산, 옥틸나프탈렌설폰산, 노닐나프탈렌설폰산, 데실나프탈렌설폰산, 운데실나프탈렌설폰산, 도데실나프탈렌설폰산, 트라이데실나프탈렌설폰산, 테트라데실나프탈렌설폰산, 펜타데실나프탈렌설폰산, 헥사데실나프탈렌설폰산, 헵타데실나프탈렌설폰산, 옥타데실나프탈렌설폰산(스테아릴나프탈렌설폰산), 노나데실나프탈렌설폰산, 이코사닐나프탈렌설폰산, 다이(메틸)나프탈렌설폰산, 다이(에틸)나프탈렌설폰산, 다이(프로필)나프탈렌설폰산, 다이(뷰틸)나프탈렌설폰산, 다이(펜틸)나프탈렌설폰산, 다이(헥실)나프탈렌설폰산, 다이(헵틸)나프탈렌설폰산, 다이(옥� �)나프탈렌설폰산, 다이(노닐)나프탈렌설폰산, 다이(데실)나프탈렌설폰산, 다이(운데실)나프탈렌설폰산, 다이(도데실)나프탈렌설폰산, 다이(트라이데실)나프탈렌설폰산, 다이(테트라데실)나프탈렌설폰산, 다이(펜타데실)나프탈렌설폰산, 다이(헥사데실)나프탈렌설폰산, 다이(헵타데실)나프탈렌설폰산, 다이(옥타데실)나프탈렌설폰산, 다이(노나데실)나프탈렌설폰산, 다이(이코사닐)나프탈렌설폰산, 트라이(메틸)나프탈렌설폰산, 트라이(에틸)나프탈렌설폰산, 트라이(프로필)나프탈렌설폰산, 트라이(뷰틸)나프탈렌설폰산, 트라이(펜틸)나프탈렌설폰산, 트라이(헥실)나프탈렌설폰산, 트라이(헵틸)나프탈렌설폰산, 트라이(옥틸)나프탈렌설폰산, 트라이(노닐)나프탈렌설폰산, 트라이(데실)나프탈렌설폰산, 트라이(운데실)나프탈렌설폰산, 트라이(도데실)나� �탈렌설폰산, 트라이(트라이데실)나프탈렌설폰산, 트라이(테트라데실)나프탈렌설폰산, 트라이(펜타데실)나프탈렌설폰산, 트라이(헥사데실)나프탈렌설폰산, 트라이(헵타데실)나프탈렌설폰산, 트라이(옥타데실)나프탈렌설폰산, 트라이(노나데실)나프탈렌설폰산, 트라이(이코사닐)나프탈렌설폰산, 나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 메틸나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 에틸나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 프로필나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 뷰틸나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 펜틸나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 헥실나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 헵틸나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 옥틸나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 노닐나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 데실나프탈렌설폰산폼알데하� �드 축합물, 운데실나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 도데실나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이데실나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 테트라데실나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 펜타데실나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 헥사데실나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 헵타데실나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 옥타데실나프탈렌설폰산(스테아릴나프탈렌설폰산)폼알데하이드 축합물, 노나데실나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 이코사닐나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이(메틸)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이(에틸)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이(프로필)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이(뷰틸)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이(펜틸)나프탈렌설폰산폼알데하이드 � �합물, 다이(헥실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이(헵틸)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이(옥틸)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이(노닐)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이(데실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이(운데실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이(도데실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이(트라이데실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이(테트라데실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이(펜타데실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이(헥사데실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이(헵타데실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이(옥타데실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이(노나데실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이(이코사닐)나프� ��렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이(메틸)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이(에틸)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이(프로필)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이(뷰틸)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이(펜틸)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이(헥실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이(헵틸)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이(옥틸)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이(노닐)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이(데실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이(운데실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이(도데실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이(트라이데실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이(테트라데실)나프탈렌설폰산폼알� ��하이드 축합물, 트라이(펜타데실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이(헥사데실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이(헵타데실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이(옥타데실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이(노나데실)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 트라이(이코사닐)나프탈렌설폰산폼알데하이드 축합물, 다이페닐에터설폰산, 메틸다이페닐에터설폰산, 에틸다이페닐에터설폰산, 프로필다이페닐에터설폰산, 뷰틸다이페닐에터설폰산, 펜틸다이페닐에터설폰산, 헥실다이페닐에터설폰산, 헵틸다이페닐에터설폰산, 옥틸다이페닐에터설폰산, 노닐다이페닐에터설폰산, 데실다이페닐에터설폰산, 운데실다이페닐에터설폰산, 도데실다이페닐에터설폰산, 트라이데실다이페닐에터설폰산, 테트라데실다이페닐에� ��설폰산, 펜타데실다이페닐에터설폰산, 헥사데실다이페닐에터설폰산, 헵타데실다이페닐에터설폰산, 옥타데실다이페닐에터설폰산, 노나데실다이페닐에터설폰산, 이코사닐다이페닐에터설폰산, 다이페닐에터다이설폰산, 메틸다이페닐에터다이설폰산, 에틸다이페닐에터다이설폰산, 프로필다이페닐에터다이설폰산, 뷰틸다이페닐에터다이설폰산, 펜틸다이페닐에터다이설폰산, 헥실다이페닐에터다이설폰산, 헵틸다이페닐에터다이설폰산, 옥틸다이페닐에터다이설폰산, 노닐다이페닐에터다이설폰산, 데실다이페닐에터다이설폰산, 운데실다이페닐에터다이설폰산, 도데실다이페닐에터설폰산, 트라이데실다이페닐에터다이설폰산, 테트라데실다이페닐에터다이설폰산, 펜타데실다이페닐에터다이설폰산, 헥사데실다이페닐에터다이설폰산, 헵타데실다� �페닐에터다이설폰산, 옥타데실다이페닐에터다이설폰산, 노나데실다이페닐에터다이설폰산, 및 이코사닐다이페닐에터다이설폰산, 및, 이들의 나트륨염, 칼륨염, 암모늄염, 마그네슘염, 및 칼슘염 등을 들 수 있다.

    설포석신산에스터계 계면활성제로서는, 예를 들면,

    모노(메틸)설포석신산에스터, 모노(에틸)설포석신산에스터, 모노(프로필)설포석신산에스터, 모노(뷰틸)설포석신산에스터, 모노(펜틸)설포석신산에스터, 모노(헥실)설포석신산에스터, 모노(헵틸)설포석신산에스터, 모노(옥틸)설포석신산에스터, 모노(노닐)설포석신산에스터, 모노(데실)설포석신산에스터, 모노(운데실)설포석신산에스터, 모노(도데실)설포석신산에스터, 모노(트라이데실)설포석신산에스터, 모노(테트라데실)설포석신산에스터, 모노(펜타데실)설포석신산에스터, 모노(헥사데실)설포석신산에스터, 모노(헵타데실)설포석신산에스터, 모노(옥타데실)설포석신산에스터, 모노(노나데실)설포석신산에스터, 모노(이코사닐)설포석신산에스터, 모노(벤질)설포석신산에스터, 모노(뷰톡시에틸)설포석신산에스터, 모노(헥실옥시에틸)설포석신산에스� ��, 모노(옥틸옥시에틸)설포석신산에스터, 모노(노닐옥시에틸)설포석신산에스터, 모노(데실옥시에틸)설포석신산에스터, 모노(운데실옥시에틸)설포석신산에스터, 모노(도데실옥시에틸)설포석신산에스터, 모노(트라이데실옥시에틸)설포석신산에스터, 모노(테트라데실옥시에틸)설포석신산에스터, 모노(펜타데실옥시에틸)설포석신산에스터, 모노(헥사데실옥시에틸)설포석신산에스터, 모노(헵타데실옥시에틸)설포석신산에스터, 모노(옥타데실옥시에틸)설포석신산에스터, 모노(노나데실옥시에틸)설포석신산에스터, 및 모노(이사코놀옥시에틸)설포석신산에스터, 및, 이들의 나트륨염, 다이나트륨염, 칼륨염, 다이칼륨염, 암모늄염, 다이암모늄염, 마그네슘염, 및 칼슘염;

    다이(메틸)설포석신산에스터, 다이(에틸)설포석신산에스터, 다이(프로필)설포석신산에스터, 다이(뷰틸)설포석신산에스터, 다이(펜틸)설포석신산에스터, 다이(헥실)설포석신산에스터, 다이(헵틸)설포석신산에스터, 다이(옥틸)설포석신산에스터, 다이(노닐)설포석신산에스터, 다이(데실)설포석신산에스터, 다이(운데실)설포석신산에스터, 다이(도데실)설포석신산에스터, 다이(트라이데실)설포석신산에스터, 다이(테트라데실)설포석신산에스터, 다이(펜타데실)설포석신산에스터, 다이(헥사데실)설포석신산에스터, 다이(헥사데실)설포석신산에스터, 다이(헥사데실)설포석신산에스터·칼륨, 다이(헥사데실)설포석신산에스터·암모늄, 다이(헵타데실)설포석신산에스터, 다이(옥타데실)설포석신산에스터, 다이(노나데실)설포석신산에스터, 다이(이코사닐)설포 석신산에스터, 다이벤질설포석신산에스터, 다이(뷰톡시에틸)설포석신산에스터, 다이(헥실옥시에틸)설포석신산에스터, 다이(옥틸옥시에틸)설포석신산에스터, 다이(노닐옥시에틸)설포석신산에스터, 다이(데실옥시에틸)설포석신산에스터, 다이(운데실옥시에틸)설포석신산에스터, 다이(도데실옥시에틸)설포석신산에스터, 다이(트라이데실옥시에틸)설포석신산에스터, 다이(테트라데실옥시에틸)설포석신산에스터, 다이(펜타데실옥시에틸)설포석신산에스터, 다이(헥사데실옥시에틸)설포석신산에스터, 및 다이(옥타데실옥시에틸)설포석신산에스터, 및, 이들의 나트륨염, 칼륨염, 암모늄염, 마그네슘염, 및 칼슘염; 및,

    (노나데실옥시에틸)설포석신산에스터·나트륨, (이사코놀옥시에틸)설포석신산에스터·나트륨 등을 들 수 있다.

    FG가 일반식(301)로 표시되는 계면활성제 중에서는, 탄소수 6∼100의 유기 잔기를 가지는 화합물이 바람직하고, 탄소수 8∼60의 유기 잔기를 가지는 화합물이면 보다 바람직하고, 탄소수 10∼40의 유기 잔기를 가지는 화합물이면 더욱 바람직하다. 또한, 상기 계면활성제 중에서는, 설포석신산에스터계 계면활성제가 비교적 바람직하다.

    FG가 상기 일반식(302)로 표시되는 계면활성제로서는, 예를 들면, 알코올황산에스터염계 계면활성제, 아릴황산에스터염계 계면활성제, 알케닐황산염계 계면활성제(다만, 그 계면활성제에 포함되는 알케닐기는 중합성은 아니다.) 등을 들 수 있다.

    알코올황산에스터염계 계면활성제로서는, 예를 들면, 뷰틸황산에스터, 펜틸황산에스터, 헥실황산에스터, 헵틸황산에스터, 옥틸황산에스터, 노닐황산에스터, 데실황산에스터, 운데실황산에스터, 도데실황산에스터, 트라이데실황산에스터, 테트라데실황산에스터, 펜타데실황산에스터, 헥사데실황산에스터, 헵타데실황산에스터, 옥타데실황산에스터, 노나데실황산에스터, 이코사닐황산에스터, 3-라우르산-2-하이드록시-프로필황산에스터, 3-미리스트산-2-하이드록시-프로필황산에스터, 3-팔미트산-2-하이드록시-프로필황산에스터, 3-스테아린산-2-하이드록시-프로필황산에스터, 3-올레산-2-하이드록시-프로필황산에스터, 3-베헨산-2-하이드록시-프로필황산에스터, 에틸렌글라이콜모노(옥틸페닐)에터황산에스터, 다이에틸렌글라이콜모노(옥틸페닐)에터황산 에스터, 트라이에틸렌글라이콜모노(옥틸페닐)에터황산에스터, 테트라에틸렌글라이콜모노(옥틸페닐)에터황산에스터, 폴리에틸렌글라이콜모노(옥틸페닐)에터황산에스터, 에틸렌글라이콜모노(노닐페닐)에터황산에스터, 다이에틸렌글라이콜모노(노닐페닐)에터황산에스터, 트라이에틸렌글라이콜모노(노닐페닐)에터황산에스터, 테트라에틸렌글라이콜모노(노닐페닐)에터황산에스터, 폴리에틸렌글라이콜모노(노닐페닐)에터황산에스터, 뷰틸옥시에틸황산에스터, 아이소뷰틸옥시에틸황산에스터, t-뷰틸옥시에틸황산에스터, 펜틸옥시에틸황산에스터, 헥실옥시에틸황산에스터, 헵틸옥시에틸황산에스터, 옥틸옥시에틸황산에스터, 노닐옥시에틸황산에스터, 데실옥시에틸황산에스터, 운데실옥시에틸황산에스터, 도데실옥시에틸황산에스터, 라우릴옥시에틸 황산에스터), 트라이데실옥시에틸황산에스터, 테트라데실옥시에틸황산에스터, 펜타데실옥시에틸황산에스터, 헥사데실옥시에틸황산에스터, 헵타데실옥시에틸황산에스터, 옥타데실옥시에틸황산에스터, 노나데실옥시에틸황산에스터, 이코사닐옥시에틸황산에스터, 뷰틸옥시프로필-2-황산에스터, 아이소뷰틸옥시프로필-2-황산에스터, t-뷰틸옥시프로필-2-황산에스터, 펜틸옥시프로필-2-황산에스터, 헥실옥시프로필-2-황산에스터, 헵틸옥시프로필-2-황산에스터, 옥틸옥시프로필-2-황산에스터, 노닐옥시프로필-2-황산에스터, 데실옥시프로필-2-황산에스터, 운데실옥시프로필-2-황산에스터, 도데실옥시프로필-2-황산에스터(라우릴옥시프로필-2-황산에스터), 트라이데실옥시프로필-2-황산에스터, 테트라데실옥시프로필-2-황산에스터, 펜타데실옥시프로필-2-황산 에스터, 헥사데실옥시프로필-2-황산에스터, 헵타데실옥시프로필-2-황산에스터, 옥타데실옥시프로필-2-황산에스터, 노나데실옥시프로필-2-황산에스터, 이코사닐옥시프로필-2-황산에스터, 뷰틸옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 아이소뷰틸옥시-3-옥사펜틸황산에스터, t-뷰틸옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 펜틸옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 헥실옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 헵틸옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 옥틸옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 노닐옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 데실옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 운데실옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 도데실옥시-3-옥사펜틸황산에스터(라우릴옥시-3-옥사펜틸황산에스터), 트라이데실옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 테트라데실옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 펜타데실옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 헥사데실옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 헵타데실옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 옥타데실옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 노나데실옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 이코사닐옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 뷰틸옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 아이소뷰틸옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, t-뷰틸옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 펜틸옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 헥실옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 헵틸옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 옥틸옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 노닐옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 데실옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 운데실옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 도데실옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터(라우릴옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터), 트라이데실옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 테트라데실옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 펜타데실옥시-3,6-다이옥� �옥틸황산에스터, 헥사데실옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 헵타데실옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 옥타데실옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 노나데실옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 및 이코사닐옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 및, 이들의 트라이에탄올아민염, 나트륨염, 칼륨염, 암모늄염, 마그네슘염, 및 칼슘염 등을 들 수 있다.

    아릴황산에스터염계 계면활성제로서는, 예를 들면, 페닐황산에스터·나트륨, 메틸벤젠황산에스터·나트륨, 에틸벤젠황산에스터·나트륨, 프로필벤젠황산에스터·나트륨, 뷰틸벤젠황산에스터·나트륨, 펜틸벤젠황산에스터·나트륨, 헥실벤젠황산에스터·나트륨, 헵틸벤젠황산에스터·나트륨, 옥틸벤젠황산에스터·나트륨, 노닐벤젠황산에스터·나트륨, 데실벤젠황산에스터·나트륨, 운데실벤젠황산에스터·나트륨, 도데실벤젠황산에스터·나트륨, 트라이데실벤젠황산에스터·나트륨, 테트라데실벤젠황산에스터·나트륨, 펜타데실벤젠황산에스터·나트륨, 헥사데실벤젠황산에스터·나트륨, 헵타데실벤젠황산에스터·나트륨, 옥타데실벤젠황산에스터·나트륨, 노나데실벤젠황산에스터·나트륨, 이코사닐벤젠황산에스터·나트륨, 7-에틸-2-메틸-운데케인-4-� ��산에스터·나트륨, 다이(메틸)벤젠황산에스터·나트륨, 다이(에틸)벤젠황산에스터·나트륨, 다이(프로필)벤젠황산에스터·나트륨, 다이(뷰틸)벤젠황산에스터·나트륨, 다이(펜틸)벤젠황산에스터·나트륨, 다이(헥실)벤젠황산에스터·나트륨, 다이(헵틸)벤젠황산에스터·나트륨, 다이(옥틸)벤젠황산에스터·나트륨, 다이(노닐)벤젠황산에스터·나트륨, 다이(데실)벤젠황산에스터·나트륨, 다이(운데실)벤젠황산에스터·나트륨, 다이(도데실)벤젠황산에스터·나트륨, 다이(트라이데실)벤젠황산에스터·나트륨, 다이(테트라데실)벤젠황산에스터·나트륨, 다이(펜타데실)벤젠황산에스터·나트륨, 다이(헥사데실)벤젠황산에스터·나트륨, 다이(헵타데실)벤젠황산에스터·나트륨, 다이(옥타데실)벤젠황산에스터·나트륨, 다이(노나데실)벤젠황산에스터·나트륨, 다� ��(이코사닐)벤젠황산에스터·나트륨, 트라이(메틸)벤젠황산에스터·나트륨, 트라이(에틸)벤젠황산에스터·나트륨, 트라이(프로필)벤젠황산에스터·나트륨, 트라이(뷰틸)벤젠황산에스터·나트륨, 트라이(펜틸)벤젠황산에스터·나트륨, 트라이(헥실)벤젠황산에스터·나트륨, 트라이(헵틸)벤젠황산에스터·나트륨, 트라이(옥틸)벤젠황산에스터·나트륨, 트라이(노닐)벤젠황산에스터·나트륨, 트라이(데실)벤젠황산에스터·나트륨, 트라이(운데실)벤젠황산에스터·나트륨, 트라이(도데실)벤젠황산에스터·나트륨, 트라이(트라이데실)벤젠황산에스터·나트륨, 트라이(테트라데실)벤젠황산에스터·나트륨, 트라이(펜타데실)벤젠황산에스터·나트륨, 트라이(헥사데실)벤젠황산에스터·나트륨, 트라이(헵타데실)벤젠황산에스터·나트륨, 트라이(옥타데실)벤젠황산에 스터·나트륨, 트라이(노나데실)벤젠황산에스터·나트륨, 트라이(이코사닐)벤젠황산에스터·나트륨, 나프탈렌황산에스터·나트륨, 메틸나프탈렌황산에스터·나트륨, 에틸나프탈렌황산에스터·나트륨, 프로필나프탈렌황산에스터·나트륨, 뷰틸나프탈렌황산에스터·나트륨, 펜틸나프탈렌황산에스터·나트륨, 헥실나프탈렌황산에스터·나트륨, 헵틸나프탈렌황산에스터·나트륨, 옥틸나프탈렌황산에스터·나트륨, 노닐나프탈렌황산에스터·나트륨, 데실나프탈렌황산에스터·나트륨, 운데실나프탈렌황산에스터·나트륨, 도데실나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이데실나프탈렌황산에스터·나트륨, 테트라데실나프탈렌황산에스터·나트륨, 펜타데실나프탈렌황산에스터·나트륨, 헥사데실나프탈렌황산에스터·나트륨, 헵타데실나프탈렌황산에스터·나트륨, 옥타데실나프탈렌황산에스터·나트륨, 노나데실나프탈렌황산에스터·나트륨, 이코사닐나프탈렌황산에스터·나트륨, 다이(메틸)나프탈렌황산에스터·나트륨, 다이(에틸)나프탈렌황산에스터·나트륨, 다이(프로필)나프탈렌황산에스터·나트륨, 다이(뷰틸)나프탈렌황산에스터·나트륨, 다이(펜틸)나프탈렌황산에스터·나트륨, 다이(헥실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 다이(헵틸)나프탈렌황산에스터·나트륨, 다이(옥틸)나프탈렌황산에스터·나트륨, 다이(노닐)나프탈렌황산에스터·나트륨, 다이(데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 다이(운데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 다이(도데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 다이(트라이데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 다이(테트라데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 다이(펜타데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, � ��이(헥사데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 다이(헵타데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 다이(옥타데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 다이(노나데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 다이(이코사닐)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이(메틸)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이(에틸)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이(프로필)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이(뷰틸)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이(펜틸)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이(헥실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이(헵틸)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이(옥틸)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이(노닐)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이(데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이(운데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이(도데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라� �(트라이데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이(테트라데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이(펜타데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이(헥사데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이(헵타데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이(옥타데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이(노나데실)나프탈렌황산에스터·나트륨, 트라이(이코사닐)나프탈렌황산에스터·나트륨 등을 들 수 있다.

    알케닐 황산염계 계면활성제로서는, 예를 들면, 부티닐황산에스터, 헥시닐황산에스터, 옥티닐황산에스터, 데시닐황산에스터, 도데시닐황산에스터, 테트라데시닐황산에스터, 헥사데시닐황산에스터, 옥타데시닐황산에스터, 이코사닐황산에스터, 부티닐옥시황산에스터, 헥시닐옥시황산에스터, 옥티닐옥시황산에스터, 데시닐옥시황산에스터, 도데시닐옥시황산에스터, 테트라데시닐옥시황산에스터, 헥사데시닐옥시황산에스터, 옥타데시닐옥시황산에스터, 이코사닐옥시황산에스터, 부티닐옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 헥시닐옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 옥티닐옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 데시닐옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 도데시닐옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 테트라데시닐옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 헥사데시닐옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 옥타데시� ��옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 이코사닐옥시-3-옥사펜틸황산에스터, 부티닐옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 헥시닐옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 옥티닐옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 데시닐옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 도데시닐옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 테트라데시닐옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 헥사데시닐옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 옥타데시닐옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 이코사닐옥시-3,6-다이옥사옥틸황산에스터, 부티닐옥시-3,6,9-트라이옥사운데실황산에스터, 헥시닐옥시-3,6,9-트라이옥사운데실황산에스터, 옥티닐옥시-3,6,9-트라이옥사운데실황산에스터, 데시닐옥시-3,6,9-트라이옥사운데실황산에스터, 도데시닐옥시-3,6,9-트라이옥사운데실황산에스터, 테트라데시닐옥시-3,6,9-트라이옥사운데실황산에스터 , 헥사데시닐옥시-3,6,9-트라이옥사운데실황산에스터, 옥타데시닐옥시-3,6,9-트라이옥사운데실황산에스터, 및 이코사닐옥시-3,6,9-트라이옥사운데실황산에스터, 및, 이들의 나트륨염, 칼륨염, 암모늄염, 트라이에탄올아민염, 마그네슘염, 및 칼슘염 등을 들 수 있다.

    FG가 일반식(302)로 표시되는 계면활성제 중에서는, 탄소수 6∼100의 유기 잔기를 가진 화합물이 바람직하고, 탄소수 8∼60의 유기 잔기를 가진 화합물이면 보다 바람직하고, 탄소수 10∼40의 유기 잔기를 가진 화합물이면 더욱 바람직하다. 또한 상기 계면활성제 중에서는, 알코올황산에스터염계 계면활성제가 비교적 바람직하다.

    상기 FG가 되는, 수산기를 포함하는 기로서는, 예들 들면, 하기 일반식(312)로 표시되는 친수기를 들 수 있다.

    상기 식(312) 중, X 3 및 X 4 는, 독립하여 -CH 2 -, -CH(OH)-, 또는 -CO-를 나타내고, n 30 은 0∼3의 정수를 나타내고, n 50 은 0∼5의 정수를 나타내고, n 30 이 2 이상인 경우, X 3 끼리는 동일해도 상이해도 되고, n 50 이 2 이상인 경우, X 4 끼리는 동일해도 상이해도 되고, #3은 식(300)의 R에 포함되는 탄소 원자에 결합되는 결합수를 나타낸다.

    FG가 상기 일반식(312)로 표시되는 계면활성제로서는, 예를 들면, 뷰티르산리보스, 발레르산리보스, 카프론산리보스, 카프릴산리보스, 카프르산리보스, 라우르산리보스, 미리스트산리보스, 팔미트산리보스, 스테아린산리보스, 아이소스테아린산리보스, 올레산리보스, 베헨산리보스, 사이클로헥세인카복실산리보스, 페닐아세트산리보스, 뷰티르산아스코르브산, 발레르산아스코르브산, 카프론산아스코르브산, 카프릴산아스코르브산, 카프르산아스코르브산, 라우르산아스코르브산, 미리스트산아스코르브산, 팔미트산아스코르브산, 스테아린산아스코르브산, 아이소스테아린산아스코르브산, 올레산아스코르브산, 베헨산아스코르브산, 사이클로헥세인카복실산아스코르브산, 페닐아세트산아스코르브산, 뷰티르산크실롤, 발레르산크실롤, 카프론산크실롤 , 카프릴산크실롤, 카프르산크실롤, 라우르산크실롤, 미리스트산크실롤, 팔미트산크실롤, 스테아린산크실롤, 아이소스테아린산크실롤, 올레산크실롤, 베헨산크실롤, 사이클로헥세인카복실산크실롤, 페닐아세트산크실롤, 뷰티르산솔비탄, 발레르산솔비탄, 카프론산솔비탄, 카프릴산솔비탄, 카프르산솔비탄, 라우르산솔비탄, 미리스트산솔비탄, 팔미트산솔비탄, 스테아린산솔비탄, 아이소스테아린산솔비탄, 올레산솔비탄, 베헨산솔비탄, 사이클로헥세인카복실산솔비탄, 페닐아세트산솔비탄, 뷰티르산글루코스, 발레르산글루코스, 카프론산글루코스, 카프릴산글루코스, 카프르산글루코스, 라우르산글루코스, 미리스트산글루코스, 팔미트산글루코스, 스테아린산글루코스, 아이소스테아린산글루코스, 올레산글루코스, 베헨산글루코스, 사이클로헥세인 카복실산글루코스, 페닐아세트산글루코스, 뷰티르산글루코노-1,5-락톤, 발레르산글루코노-1,5-락톤, 카프론산글루코노-1,5-락톤, 카프릴산글루코노-1,5-락톤, 카프르산글루코노-1,5-락톤, 라우르산글루코노-1,5-락톤, 미리스트산글루코노-1,5-락톤, 팔미트산글루코노-1,5-락톤, 스테아린산글루코노-1,5-락톤, 아이소스테아린산글루코노-1,5-락톤, 올레산글루코노-1,5-락톤, 베헨산글루코노-1,5-락톤, 사이클로헥세인카복실산글루코노-1,5-락톤, 페닐아세트산글루코노-1,5-락톤, 및 이들의 에틸렌옥사이드 부가물, 프로필렌옥사이드 부가물, 뷰티로락톤 부가물, 및 이들을 탈수 축합한 다량체 등을 들 수 있다.

    상기 일반식(312)로 표시되는 계면활성제 중에서는, 탄소수 6∼100의 유기잔기를 가지는 화합물이 바람직하고, 탄소수 8∼60의 유기잔기를 가지는 화합물이면 보다 바람직하고, 탄소수 10∼40의 유기잔기를 가지는 화합물이면 더욱 바람직하다.

    상기 FG가 되는, 양이온성 친수기를 포함한 기로서는, 예를 들면, 하기 일반식(318)로 표시되는 친수기를 들 수 있다.

    상기 식(318) 중, R 6 및 R 7 은, 각각 독립하여, 수소 원자, 탄소수 1∼20의 알킬기, 알킬아릴기, 알킬벤질기, 알킬사이클로알킬기, 알킬사이클로알킬메틸기, 사이클로알킬기, 페닐기, 또는 벤질기를 나타내고, ＃3은 식(300)의 R(에 포함되는 탄소 원자)에 결합하는 결합수를 나타낸다.

    FG가 상기 일반식(318)로 표시되는 계면활성제로서는, 예를 들면, 뷰틸-다이메틸베테인, 펜틸-다이메틸베테인, 헥실-다이메틸베테인, 헵틸-다이메틸베테인, 옥틸-다이메틸베테인, 노닐-다이메틸베테인, 데실-다이메틸베테인, 운데실-다이메틸베테인, 도데실-다이메틸베테인, 테트라데실-다이메틸베테인, 트라이데실-다이메틸베테인, 펜타데실-다이메틸베테인, 헥사데실-다이메틸베테인, 헵타데실-다이메틸베테인, 옥타데실-다이메틸베테인, 노나데실-다이메틸베테인, 이코사닐-다이메틸베테인, 뷰틸-벤질메틸베테인, 펜틸-벤질메틸베테인, 헥실-벤질메틸베테인, 헵틸-벤질메틸베테인, 옥틸-벤질메틸베테인, 노닐-벤질메틸베테인, 데실-벤질메틸베테인, 운데실-벤질메틸베테인, 도데실-벤질메틸베테인, 트라이데실-벤질메틸베테인, 테트라데실-벤질메틸� �테인, 펜타데실-벤질메틸베테인, 헥사데실-벤질메틸베테인, 헵타데실-벤질메틸베테인, 옥타데실-벤질메틸베테인, 노나데실-벤질메틸베테인, 이코사닐-벤질메틸베테인, 뷰틸-사이클로헥실메틸베테인, 펜틸-사이클로헥실메틸베테인, 헥실-사이클로헥실메틸베테인, 헵틸-사이클로헥실메틸베테인, 옥틸-사이클로헥실메틸베테인, 노닐-사이클로헥실메틸베테인, 데실-사이클로헥실메틸베테인, 운데실-사이클로헥실메틸베테인, 도데실-사이클로헥실메틸베테인, 트라이데실-사이클로헥실메틸베테인, 테트라데실-사이클로헥실메틸베테인, 펜타데실-사이클로헥실메틸베테인, 헥사데실-사이클로헥실메틸베테인, 헵타데실-사이클로헥실메틸베테인, 옥타데실-사이클로헥실메틸베테인, 노나데실-사이클로헥실메틸베테인, 이코사닐-사이클로헥실메틸베테인, � ��틸-도데실메틸베테인, 펜틸-도데실메틸베테인, 헥실-도데실메틸베테인, 헵틸-도데실메틸베테인, 옥틸-도데실메틸베테인, 노닐-도데실메틸베테인, 데실-도데실메틸베테인, 운데실-도데실메틸베테인, 도데실-도데실메틸베테인, 트라이 데실-도데실메틸베테인, 테트라데실-도데실메틸베테인, 펜타데실-도데실메틸베테인, 헥사데실-도데실메틸베테인, 헵타데실-도데실메틸베테인, 옥타데실-도데실메틸베테인, 노나데실-도데실메틸베테인, 이코사닐-도데실메틸베테인, 및 이들의 할로겐화 수소 부가물, 카본 부가물, 암모니아 부가물, 아민 부가물, 알칼리 금속 수산화물 부가물, 및 알칼리토류금속 수산화물 부가물 등을 들 수 있다.

    FG가 일반식(318)로 표시되는 계면활성제 중에서는, 탄소수 6∼100의 유기 잔기를 가진 화합물이 바람직하고, 탄소수 8∼60의 유기 잔기를 가진 화합물이면 보다 바람직하고, 탄소수 10∼40의 유기 잔기를 가진 화합물이면 더욱 바람직하다.

    본 발명의 조성물 중, 상기 화합물(III)은, 화합물(I) 및 화합물(II)의 합계에 대하여, 통상 0.0001∼50중량% 범위로 포함되고, 바람직하게는 0.001∼20중량%의 범위, 보다 바람직하게는 0.01∼10중량% 범위에서 포함된다. 이와 같은 범위에서 화합물(III)이 포함된 조성물을 경화함으로써, 상기 화합물(I)에서 유래하는 친수기가 경화물의 표면에 농축되기 쉬워지고, 예를 들면 경화물이 단층막인 경우에는, 그 표면에 친수기가 경사지기 쉬워진다.

    <그 밖의 성분>

    본 발명의 치과용 조성물에는, 더 필요에 따라, 그 밖의 성분이 포함되어 있어도 된다.

    그 밖의 성분으로서는, 예를 들면, 중합 개시제, 중합촉진제, 자외선 흡수제, 힌더드아민계 광안정제(HALS), 용제, 필러, 산화방지제, 중합억제제, 색소, 항균제, X선 조영제, 증점제, 형광제 등을 들 수 있다.

    중합 개시제

    본 발명의 치과용 조성물로부터 후술하는 본 발명의 치과용 경화물(치과용 친수성 경화물)을 제조할 때, 그 조성물을 경화 시키고, 예를 들면 단층막의 형태로 한다. 여기에서, 중합 개시제는, 치과 분야에서 사용되는 일반적인 중합 개시제를 사용할 수 있으며, 통상, 중합성 모노머의 중합성과 중합 조건을 고려하여 선택된다.

    본 발명의 치과용 조성물의 경화를 상온에서 실시하는 경우에는, 예를 들면, 산화제 및 환원제를 조합한 레독스(Redox)계 중합 개시제가 적합하다. 레독스계의 중합 개시제를 사용하는 경우, 산화제와 환원제가 별도로 포장된 형태를 취하며, 사용하기 직전에 양자(兩者)를 혼합할 필요가 있다.

    산화제로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 다이아실퍼옥사이드류, 퍼옥시에스터류, 다이알킬퍼옥사이드류, 퍼옥시케탈류, 케톤퍼옥사이드류 및 하이드로퍼옥사이드류 등의 유기 과산화물을 들 수 있다. 상기 유기 과산화물로서는, 예를 들면, 벤조일퍼옥사이드, 2,4-다이클로로벤조일퍼옥사이드 및 m-톨루오일퍼옥사이드 등의 다이아실퍼옥사이드류; t-뷰틸퍼옥시벤조에이트, 비스-t-뷰틸퍼옥시아이소프탈레이트, 2,5-다이메틸-2,5-비스(벤조일퍼옥시)헥세인, t-뷰틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 및 t-뷰틸퍼옥시아이소프로필카보네이트 등의 퍼옥시에스터류; 다이큐밀퍼옥사이드, 다이-t-뷰틸퍼옥사이드 및 라우로일퍼옥사이드 등의 다이알킬퍼옥사이드류; 1,1-비스(t-뷰틸퍼옥시)-3,3,5-트라이메틸사이클로헥세인 등의 퍼옥시케탈류; 메틸에틸케톤퍼옥사이드 등의 케톤퍼옥사이드류; t-뷰틸하이드로퍼옥사이드 등의 하이드로퍼옥사이드류 등을 들 수 있다.

    또한, 환원제로서는, 특별히 한정되지 않지만, 통상 제3급 아민이 사용된다. 제3급 아민으로서는, 예를 들면, N,N-다이메틸아닐린, N,N-다이메틸-p-톨루이딘, N,N-다이메틸-m-톨루이딘, N,N-다이에틸-p-톨루이딘, N,N-다이메틸-3,5-다이메틸아닐린, N,N-다이메틸-3,4-다이메틸아닐린, N,N-다이메틸-4-에틸아닐린, N,N-다이메틸-4-i-프로필아닐린, N,N-다이메틸-4-t-뷰틸아닐린, N,N-다이메틸-3,5-다이-t-뷰틸아닐린, N,N-비스(2-하이드록시에틸)-p-톨루이딘, N,N-비스(2-하이드록시에틸)-3,5-다이메틸아닐린, N,N-비스(2-하이드록시에틸)-3,4-다이메틸아닐린, N,N-비스(2-하이드록시에틸)-4-에틸아닐린, N,N-비스(2-하이드록시에틸)-4-i-프로필아닐린, N,N-비스(2-하이드록시에틸)-4-t-뷰틸아닐린, N,N-다이(2-하이드록시에틸)-3,5-다이-i-프로필아닐린, N,N-비스(2-하이드록시에틸)-3,5-다이-t-뷰틸아닐린, 4-다이메틸아미노벤조산에틸, 4-다이메틸아미노벤조산n-뷰톡시에틸, 4-다 이메틸아미노벤조산(2-메타크릴로일옥시)에틸, 트라이메틸아민, 트라이에틸아민, N-메틸다이에탄올아민, N-에틸다이에탄올아민, Nn-뷰틸다이에탄올아민, N-라우릴다이에탄올아민, 트라이에탄올아민, (2-다이메틸아미노)에틸메타크릴레이트, N,N-비스(메타크릴로일옥시에틸)-N-메틸아민, N,N-비스(메타크릴로일옥시에틸)-N-에틸아민, N,N-비스(2-하이드록시에틸)-N-메타크릴로일옥시에틸아민, N,N-비스(메타크릴로일옥시에틸)-N-(2-하이드록시에틸)아민, 트리스(메타크릴로일옥시에틸)아민 등을 들 수 있다.

    이들 유기 과산화물/아민계 외에는, 큐멘하이드로퍼옥사이드/싸이오유레아계, 아스코르브산/Cu 2 + 염계, 유기 과산화물/아민/설핀산(또는 그 염)계 등의 레독스계 중합 개시제를 사용할 수 있다. 또한, 중합 개시제로서, 트라이뷰틸보레인, 유기 설핀산 등도 적합하게 사용된다.

    또한, 본 발명의 치과용 조성물을, 방사선, 예를 들면, 자외선에 의해 경화 시킬 경우에는, 광중합 개시제를 혼합물에 첨가한다. 또한, 열에 의해 경화 시킬 경우에는, 열중합 개시제를 첨가한다.

    광중합 개시제로서는, 광라디칼 중합 개시제, 광양이온 중합 개시제, 및 광음이온 중합 개시제 등을 들 수 있지만, 이들 광중합 개시제 중에서도, 광라디칼 중합 개시제가 바람직하다.

    상기 광라디칼 중합 개시제로서는, 예를 들면, 이르가큐어-127(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 이르가큐어-651(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 이르가큐어-184(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 다로큐어-1173(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 벤조페논, 4-페닐벤조페논, 이르가큐어-500(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 이르가큐어-2959(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 이르가큐어-907(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 이르가큐어-369(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 이르가큐어-1300(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 이르가큐어-819(시바·스페셜티·케미칼즈사제), Speedcure CPTX(LAMBSON사제), Speedcure DETX(LAMBSON사제), Speedcure CTX(LAMBSON사제), Speedcure ITX(LAMBSON사제), 이르가큐어-379EG(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 이르가큐어-1800(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 다로큐어-TPO(시� ��·스페셜티·케미칼즈사제; (2,4,6-트라이메틸벤조일)다이페닐포스핀옥사이드), 다로큐어-4265(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 이르가큐어-OXE01(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 이르가큐어-OXE02(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 엑사큐어-KT55(런벨티사제), 엑사큐어-ONE(런벨티사제), 엑사큐어-KIP150(런벨티사제), 엑사큐어-KIP100F(런벨티사제), 엑사큐어-KT37(런벨티사제), 엑사큐어-KTO46(런 벨 티사제), 엑사큐어-1001M(런벨티사제), 엑사큐어-KIP/EM(런벨티사제), 엑사큐어-DP250(런벨티사제), 엑사큐어-KB1(런벨티사제), 캄퍼퀴논, 2-에틸안트라퀴논, N,N-다이메틸-p-톨루이딘, 벤질, 2,3-펜테인다이온, 벤질다이메틸케탈, 벤질다이에틸케탈, 2-클로로싸이옥산톤, 2,4-다이에틸싸이옥산톤, 2,4,6-트라이메틸벤조일다이페닐포스핀옥사이드, 2,6-다이메톡시벤조일다이페닐포스핀� �사이드, 2,6-다이클로로벤조일다이페닐포스핀옥사이드, 2,3,5,6-테트라메틸벤조일다이페닐포스핀옥사이드, 벤조일 비스(2,6-다이메틸페닐)포스포네이트, 2,4,6-트라이메틸벤조일에톡시페닐포스핀옥사이드, 3,3'-카보닐비스(7-다이에틸아미노)쿠마린, 3-(4-메톡시벤조일)쿠마린, 3-티에닐쿠마린, 2,4,6-트리스(트라이클로로메틸)-s-트라이아진, 2,4,6-트리스(트라이브로모메틸)-s-트라이아진, 2-메틸-4,6-비스(트라이클로로메틸)-s-트라이아진 등을 들 수 있다.

    이들 광중합 개시제 중에서도, 이르가큐어-127(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 이르가큐어-184(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 다로큐어-1173(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 이르가큐어-500(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 이르가큐어-819(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 다로큐어-TPO(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 엑사큐어-ONE(런벨티사제), 엑사큐어-KIP100F(런벨티사제), 엑사큐어-KT37(런벨티사제) 및 엑사큐어-KTO46(런벨티사제)캄퍼퀴논 등이 바람직하다.

    상기 광양이온 중합 개시제로서는, 예를 들면, 이르가큐어-250(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 이르가큐어-784(시바·스페셜티·케미칼즈사제), 엑사큐어-1064(런벨티사제), CYRAURE UVI6990(유니언카바이드일본사제), 아데카옵토머- SP-172(아사히덴카사제), 아데카옵토머- SP-170(아사히덴카사제), 아데카옵토머- SP-152(아사히덴카사제), 아데카옵토머- SP-150(아사히덴카사제) 등을 들 수 있다.

    또한 광중합 개시제를 사용하는 경우, 광경화성을 촉진시키기 위해서, 광중합 개시제와 환원제를 병용할 수 있다.

    환원제로서는, 주로, 제3급 아민류, 알데하이드류, 싸이올기를 가진 화합물 등을 들 수 있고, 이들은, 각각 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.

    제3급 아민류의 예로서는, 2-다이메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, N,N-비스〔(메타)아크릴로일옥시에틸〕-N-메틸아민, 4-다이메틸아미노벤조산에틸, 4-다이메틸아미노벤조산뷰틸, 4-다이메틸아미노벤조산뷰톡시에틸, N-메틸다이에탄올아민, 4-다이메틸아미노벤조페논 등을 들 수 있다.

    알데하이드류의 예로서는, 다이메틸아미노벤즈알데하이드, 테레프탈알데하이드 등을 들 수 있다.

    싸이올기를 가진 화합물의 예로서는, 2-머캅토벤조옥사졸, 데케인싸이올, 3-머캅토프로필트라이메톡시실란, 싸이오벤조산 등을 들 수 있다.

    또한, 상기 광중합 개시제를 사용하는 경우에는, 광중합 촉진제를 병용해도 된다. 광중합 촉진제로서는, 예를 들면, 2,2-비스(2-클로로페닐)-4,5'-테트라페닐-2'H-<1,2'>비이미다졸일, 트리스(4-다이메틸아미노페닐)메테인, 4,4'-비스(다이메틸아미노)벤조페논, 2-에틸안트라퀴논, 캄퍼퀴논 등을 들 수 있다.

    상기 열중합 개시제로서는, 예를 들면, 메틸아이소뷰틸케톤퍼옥사이드, 사이클로헥사논퍼옥사이드 등의 케톤퍼옥사이드류;

    아이소뷰틸퍼옥사이드, o-클로로벤조일퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드 등의 다이아실퍼옥사이드류;

    트리스(t-뷰틸퍼옥시)트라이아진, t-뷰틸큐밀퍼옥사이드 등의 다이알킬퍼옥사이드류;

    2,2-비스(4,4-다이-t-뷰틸퍼옥시사이클로헥실)프로페인, 2,2-디아(t-뷰틸퍼옥시)뷰테인 등의 퍼옥시케탈류;

    α-큐밀퍼옥시네오데카노에이트, t-뷰틸퍼옥시피발레이트, 2,4,4-트라이메틸펜틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-뷰틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-뷰틸퍼옥시-3,5,5-트라이메틸헥사노에이트 등의 알킬퍼에스터류;

    다이-3-메톡시뷰틸퍼옥시다이카보네이트, 비스(4-t-뷰틸사이클로헥실)퍼옥시다이카보네이트, t-뷰틸퍼옥시아이소프로필카보네이트, 다이에틸렌글라이콜비스(t-뷰틸퍼옥시카네이트) 등의 퍼카보네이트류 등을 들 수 있다.

    상기 광중합 개시제 및 열중합 개시제는, 모두, 각각 1종 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.

    상기 광중합 개시제 및 열중합 개시제의 사용량은, 화합물(I) 및 (II)의 합계에 대하여, 바람직하게는 0.01∼20중량%의 범위, 보다 바람직하게는 0.05∼10중량%의 범위, 더욱 바람직하게는 0.1∼5중량%의 범위이다.

    자외선 흡수제, 힌더드아민 계 광안정제

    본 발명의 치과용 친수성 경화물, 예를 들면 치과용 단층막을, 예를 들면 방오(防汚) 재료 등으로 사용하고, 장기간 외부에 노출되어도 변질되지 않도록 하기 위해서는, 본 발명의 조성물에, 자외선 흡수제, 힌더드아민계 광안정제를 더 첨가한 내후(耐候) 처방의 조성물로 하는 것이 바람직하다. 이것은, 이 치과용 단층막을 가진 치과용 보철물을 얻을 때도 동일하다.

    상기 자외선 흡수제는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 벤조트라이아졸계 자외선 흡수제, 트라이아진계 자외선 흡수제, 벤조페논계 자외선 흡수제, 벤조에이트계 자외선 흡수제, 프로페인이산에스터계 자외선 흡수제, 옥사닐리드계 자외선 흡수제 등의 여러 가지의 자외선 흡수제를 사용할 수 있다.

    상기 자외선 흡수제로서는, 예를 들면, 2-(2H-벤조트라이아졸-2-일)-p-크레졸, 2-(2H-벤조트라이아졸-2-일)-4-tert-뷰틸페놀, 2-(2H-벤조트라이아졸-2-일)-4,6-다이-tert-뷰틸페놀, 2-(2H-벤조트라이아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐에틸)페놀, 2-(2H-벤조트라이아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸뷰틸)-6-(1-메틸-1-페닐에틸)페놀, 2-(2H-벤조트라이아졸-2-일)-4-(3-온-4-옥사이드데실)-6-tert-뷰틸-페놀, 2-{5-클로로(2H)-벤조트라이아졸-2-일}-4-(3-온-4-옥사이드데실)-6-tert-뷰틸-페놀, 2-{5-클로로(2H)-벤조트라이아졸-2-일}-4-메틸-6-tert-뷰틸-페놀, 2-(2H-벤조트라이아졸-2-일)-4,6-다이-tert-펜틸페놀, 2-{5-클로로(2H)-벤조트라이아졸-2-일}-4,6-다이-tert-뷰틸페놀, 2-(2H-벤조트라이아졸-2-일)-4-tert-옥틸페놀, 2-(2H-벤조트라이아졸-2-일)-4-메틸6-n-도데실페놀, 메틸-3-{3-(2H-벤조트라이아졸-2-일)-5-tert-뷰틸-4-하� �드록시페닐}프로피오네이트/폴리에틸렌글라이콜300의 반응성 생성물 등의 벤조트라이아졸계 자외선 흡수제; 2-(4-페녹시-2-하이드록시-페닐)-4,6-다이페닐-1,3,5-트라이아진, 2-(2-하이드록시-4-옥사-헥사데실옥시)-4,6-다이(2,4-다이메틸-페닐)-1,3,5-트라이아진, 2-(2-하이드록시-4-옥사-헵타데실옥시)-4,6-다이(2,4-다이메틸-페닐)-1,3,5-트라이아진, 2-(2-하이드록시-4-iso-옥틸옥시-페닐)-4,6-다이(2,4-다이메틸-페닐)-1,3,5-트라이아진, 상품명 티누빈400(시바·스페셜티·케미칼즈 주식회사제), 상품명 티누빈405(시바·스페셜티·케미칼즈 주식회사제), 상품명 티누빈460(시바·스페셜티·케미칼즈 주식회사제), 상품명 티누빈479(시바·스페셜티·케미칼즈 주식회사제) 등의 트라이아진계 자외선 흡수제; 2-하이드록시-4-n-옥톡시벤조페논 등의 벤조페논계 자외선 흡수제; 2,4-다이-tert-뷰틸페닐-3,5-다이-tert-뷰틸-4-하이드록시벤조에이트 등의 벤조에이트 계 자외선 흡수제; 프로페인다이옥산-{(4-메톡시페닐)-메틸렌}-다이메틸에스터, 상품명 호스터빈PR-25(클라리언트·재팬 주식회사제), 상품명 호스터빈 B-CAP(클라리언트·재팬 주식회사제) 등의 프로페인다이옥산에스터계 자외선 흡수제; 2-에틸-2'-에톡시-옥사닐리드, 상품명 Sanduvor VSU(클라리언트·재팬 주식회사제) 등의 옥사닐리드계 자외선 흡수제 등을 들 수 있다. 이들 자외선 흡수제 중에서도 트라이아진계 자외선 흡수제가 바람직한 경향이 있다.

    상기 힌더드아민계 광안정제(Hindered Amin Light Stabilizers: 약칭 HALS)는, 통상, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 골격을 가진 화합물의 총칭이며, 분자량에 의해, 저(低)분자량 HALS, 중(中)분자량 HALS, 고(高)분자량 HALS 및 반응형 HALS로 대별(大別)된다. 힌더드아민계 광안정제로서는, 예들 들면, 상품명 티누빈111FDL(시바·스페셜티·케미칼즈 주식회사제), 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트(상품명 티누빈123(시바·스페셜티·케미칼즈 주식회사제), 상품명 티누빈144(시바·스페셜티·케미칼즈 주식회사제), 상품명 티누빈292(시바·스페셜티·케미칼즈 주식회사제), 상품명 티누빈765(시바·스페셜티·케미칼즈 주식회사제), 상품명 티누빈770(시바·스페셜티·케미칼즈 주식회사제), N,N'-비스(3-아미노프로필)에틸렌다이아민-2,4-비스[N-뷰틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노]-6-클로로-1,3,5-트라이아진 축합물(상품명 CHIMASSORB119FL(시바·스페셜티·케미칼즈 주식회사제), 상품명 CHIMASSORB2020FDL(시바·스페셜티·케미칼즈 주식회사제), 석신산다이메틸-1-(2-하이드록시에틸)-4-하이드록시-2,2,6,6- 테트라메틸피페리딘 중축합물(상품명 CHIMASSORB622LD(치바·스페셜티·케미칼즈 주식식회사제), 폴리[{6-(1,1,3,3-테트라메틸-뷰틸)아미노-1,3,5-트라이아진-2,4-다이일}{(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노}헥사메틸렌{(2,2,6,6-테트라메틸라우릴-4-피페리딜)이미노}](상품명 CHIMASSORB944FD(시바·스페셜티·케미칼즈 주식회사제), 상품명 Sanduvor3050 Liq.(클라리언트·재팬 주식회사제), 상품명 Sanduvor3052 Liq.(클라리언트·재팬 주식회사제), 상품명 Sanduvor3058 Liq.(클라리언트·재팬 주식회사제), 상품명 Sanduvor3051 Powder.(클라리언트·재팬 주식회사제), 상품명 Sanduvor3070 Powder.(클라리언트·재팬 주식회사제), 상품명 VP Sanduvor PR-31(클라리언트·재팬 주식회사제), 상품명 호스터빈 N20(클라리언트·재팬 주식회사제), 상품명 호스터빈 N24(클라리언트·재팬 주식회사제), 상품명 호스� �빈 N30(클라리언트·재팬 주식회사제), 상품명 호스터빈 N321(클라리언트·재팬 주식회사제), 상품명 호스터빈 PR-31(클라리언트·재팬 주식회사제), 상품명 호스터빈 845(클라리언트·재팬 주식회사제), 상품명 닐로스탭 S-EED(클라리언트·재팬 주식회사제) 등을 들 수 있다.

    상기 자외선 흡수제 및 힌더드아민계 광안정제의 첨가량은, 특별히 한정은 되지 않지만, 화합물(I) 및 (II)의 합계에 대하여, 자외선 흡수제는, 통상 0.1∼20중량%, 바람직하게는 0.5∼10중량%이며, 힌더드아민계 광안정제는, 통상 0.1∼10중량%, 바람직하게는 0.5∼5중량%, 보다 바람직하게는 1∼3중량%의 범위이다. 자외선 흡수제, 힌더드아민계 광안정제의 첨가량이 상기 범위 내인 경우에는, 본 발명의 조성물로부터 얻어지는 경화물, 예를 들면 단층막의 내후성 개량 효과가 커진다. 자외선 흡수제, 힌더드아민계 광안정제의 첨가량이 상기 범위 미만인 경우에는, 얻어지는 경화물, 예를 들면 단층막의 내후성의 개량 효과가 작아지는 경향이 있다. 한편, 자외선 흡수제, 힌더드아민계 광안정제의 첨가량이 상기 범위를 초과하는 경우에는, 본 발명의 치과용 조성물의 경화 시, 상기 화합물(I)과 상기 화합물(II)의 공중합 반응이 불충분한 경우가 있다.

    용제

    본 발명의 조성물은, 화합물(I) 및 화합물(II)에 더하여 화합물(III)을 포함하기 때문에, 그 조성물에 용제를 포함하지 않는 경우에도, 친수기가 표면에 편석(偏析)된 경화물을 얻을 수 있다. 그러나, 조성물로부터 경화물, 예를 들면 단층막을 제작할 때의 작업성 등을 고려하면, 본 발명의 조성물에는 용제를 포함하고 있어도 된다.

    상기 용제로서는, 표면이 친수성의 경화물이 얻어지는 한 특별히 제한은 없지만, 본 발명에서 사용하는 단량체 조성물에 포함되는 구성성분에 대하여 반응하거나, 그 구성성분과 염을 형성하거나 하는 등 상호작용이 너무 강한 용제, 및 비점이 너무 높은 용제, 예를 들면 비점이 200℃를 초과하는 용제는 바람직하지 않다. 예를 들면, 에탄올아민, 다이에탄올아민, 트라이에탄올아민, N-에틸-에탄올아민, N-(2-에틸헥실)에탄올아민, N-뷰틸-다이에탄올아민, N-헥실-다이에탄올아민, N-라우릴-다이에탄올아민, N-세틸-다이에탄올아민 등의 하이드록시에틸아미노 구조를 가지는 에탄올아민계 화합물〔NRaRb(CH 2 CH 2 OH): Ra 및 Rb는 독립하여, 수소, 탄소수 1∼15의 알킬기, 또는 CH 2 CH 2 OH기이다.〕은, 화합물(I)에 포함되는 친수기와 상호작용, 예를 들면 설포기로 대표되는 음이온성 친수기와는 염 또는 염에 가까운 형태를 형성하기 쉽고, 또한 증발하기 어렵기 때문에, 도포된 혼합물로부터 용제를 제거하려고 해도, 외기와 접하는 표면으로 이동하기 어려워 내부에 잔류하는 경향이 있다. 따라서, 화합물(I)에 포함되는 친수기가, 도포물의 외기와 접하는 표면에 대한 경사(집중화)가 일어나기 어려운 경향이 있다. 그 때문에, 상기 에탄올아민계 화합물은 용제로서는 바람직하지 않다.

    상술한 바와 같은 용제를 제외하고, 화합물(I), 화합물(II), 및 화합물(III)의 용해성 등을 고려하여, 적절한 용제를 사용할 수 있다.

    예를 들면, 종래의 조성물에서는 비교적 극성이 높은 용제, 예를 들면 용해도 파라미터(SP값)σ가, 9.3(cal/cm 3 ) 1/2 이상의 용제가 바람직하게 사용되고 있지만, 본 발명의 조성물에서는, SP값이 9.3 미만의 용제를 사용한 경우이어도, 그 조성물로부터 친수기가 표면에 편석된 경화물을 얻을 수 있다.

    또한, 비교적 많은 용제를 포함하는 상태(저고형분)에서, 본 발명의 조성물을 사용하는 경우는, 저극성의 용제만을 대량으로 사용하면, 화합물(I) 또는 화합물(II)이 분리되어, 균일한 조성의 조성물을 제작할 수 없는 경우가 있고, 그 상태의 조성물을 기재에 도포하면, 균일한 조성의 도포물(예를 들면, 도막)을 얻을 수 없는 경우가 있다. 따라서, 용해성의 관점에서, 본 발명의 조성물에는, 고극성의 용제가 적어도 1종 포함되어 있는 것이 바람직한 경향이 있다. 이와 같은 고극성의 용제로서는, 용해도 파라미터(SP값) σ로 9.0(cal/cm 3 ) 1/2 이상의 용제가 바람직하다.

    상기 바람직한 SP값의 범위에 있는 용제로서는, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 아이소프로판올(IPA), 1-뷰탄올, 아이소뷰탄올, 1-펜탄올(1-아밀알코올), 아이소펜탄올, 2-펜탄올, 3-펜탄올, 사이클로헥세인올, 1-메톡시-2-프로판올(메톡시프로판올), 2-메톡시-1-프로판올, 2-메톡시-1-에탄올(메톡시에탄올), 2-아이소프로폭시-1-에탄올, 아세토니트릴, 아세톤 및 물 등을 들 수 있다. 이들 용제 중에서도, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 1-뷰탄올, 1-펜탄올(1-아밀알코올) 등의, SP값으로 9.0(cal/cm 3 ) 1/2 이상의 1급 알코올, 및 1-메톡시-2-프로판올(메톡시프로판올), 2-메톡시-1-에탄올(메톡시에탄올), 2-아이소프로폭시-1-에탄올 등의 SP값으로 9.0(cal/cm 3 ) 1/2 이상의 알콕시알코올이 보다 바람직하다.

    여기서 말하는 용해 파라미터(SP값)는 이하에 나타내는 간이계산법에 의해 용이하게 계산할 수 있다.

    용해 파라미터 σ의 계산식

    1) 1mol 당의 증발 잠열

    Hb=21×(273＋Tb) (단위: cal/mol), Tb: 비점(℃)

    2) 25℃에서의 1mol 당의 증발 잠열

    H25=Hb×{1＋0.175×(Tb-25)/100} (단위: cal/mol), Tb: 비점(℃)

    3) 분자간 결합 에너지 E=H25-596 (단위: cal/mol)

    4) 용제 1ml(cm 3 ) 당의 분자간 결합 에너지

    E1=E×D/Mw (단위: cal/cm 3 ), D: 밀도(g/cm 3 ), MW: 분자량

    5) 용해 파라미터(SP값) σ=(E1) 1/2 (단위: cal/cm 3 ) 1/2

    다만, 본 발명의 치과용 조성물은, 치과 재료에 사용되는 것을 고려하면, 용제는, 상압에서의 비점이 40∼180℃의 범위 내에 있는 액체인 것이 바람직하다. 예를 들면, 물이나, 메탄올, 에탄올, 아이소프로판올, n-프로판올, 뷰탄올, 사이클로헥세인올 등의 알코올계, 클로로폼, 염화메틸렌, 클로로벤젠 등의 할로겐계, 헥세인, 사이클로헥세인, 톨루엔, 자일렌 등의 탄화수소계, 아세톤, 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논 등의 케톤계, 아세트산에틸, 아세트산뷰틸 등의 에스터계, 에터계 등을 들 수 있지만, 본 발명은, 이러한 예시에만 한정되는 것은 아니다. 이들 중, 도포 후에 비교적 용이하게 증발시킬 수 있는 용제, 예를 들면, 물, 메탄올, 에탄올, 아이소프로판올, n-프로판올, 뷰탄올, 프로필렌글라이콜모노메틸에터(PGM), 2-메톡시-1-에탄올(EGM), 아세톤 등이 바람직하다. 이와 같은 용제는, 1종 단독으로 사용해도 되고, 혹은, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.

    본 발명의 조성물에 포함되는 용제의 양은, 본 발명에 의해 얻어지는 경화물, 예를 들면 단층막의 물성, 경제성 등을 고려하여 적절히 결정할 수 있다.

    용제의 사용량은, 상기 조성물에 함유되는 고형분(화합물(I)∼(III) 및 "그 밖의 성분" 중, 용제를 제외한 구성성분의 합계량)의 농도(고형분/(고형분＋용제)×100)으로, 통상 1중량% 이상, 바람직하게는 10∼90중량%, 보다 바람직하게는 20∼80중량%, 더욱 바람직하게는 30∼70중량%의 범위이다.

    필러

    본 발명의 치과용 조성물에는, 치과용 컴포지트 레진(composite resin)을 조제하는 경우 등 필요에 따라, 필러를 포함하고 있어도 된다. 여기서, 필러는, 치과 분야에서 사용되는 일반적인 필러를 사용할 수 있다. 필러는, 통상, 유기 필러와 무기 필러로 대별된다.

    유기 필러로서는, 예를 들면, 폴리메타크릴산메틸, 폴리메타크릴산에틸, 메타크릴산메틸-메타크릴산에틸 공중합체, 가교형 폴리메타크릴산메틸, 가교형 폴리메타크릴산에틸, 에틸렌-아세트산바이닐 공중합체 및 스타이렌-뷰타다이엔 공중합체; 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE), 테트라플루오로에틸렌-에틸렌 공중합체, 테트라플루오로에틸렌-헥사플루오로프로필렌 공중합체(FEP), 폴리불화바이닐리덴(PVDF), 폴리트라이플루오로염화에틸렌(PCTFE) 등의 불소 수지 등의 미분말을 들 수 있다.

    무기 필러로서는, 예를 들면, 각종 유리류(이산화규소(석영, 석영 유리, 실리카 겔 등), 알루미나, 규소를 주성분으로 하고, 필요에 따라, 중금속, 붕소 및 알루미늄 등의 산화물을 함유한다), 각종 세라믹류, 규조토, 카올린, 점토 광물(몬모릴노나이트 등), 활성 백토, 합성 제올라이트, 마이카, 불화칼슘, 불화이테르븀, 인산칼슘, 황산바륨, 이지르코니아, 이산화티탄, 하이드록시아파타이트 등의 미분말을 들 수 있다. 이와 같은 무기 필러의 구체적인 예로서는, 예를 들면, 바륨보로실리케이트 글라스(퀸블레이소브 T3000, 쇼트 8235, 쇼트 GM27884 및 쇼트 GM39923 등), 스트론튬보로알루미노실리케이트 글라스(레이소브 T4000, 쇼트 G018-093 및 쇼트 GM32087 등), 란탄 글라스(쇼트 GM31684 등), 플루오로알루미노실리케이트 글라스(쇼트 G018-091 및 쇼트 G018-117 등), 지르코늄 및/또는 세슘 함유의 보로알루미노실리케이트 글라스(쇼트 G018-307, G018-308 및 G018-310 등)를 들 수 있다.

    또한, 이들 무기 필러에 중합성 모노머를 미리 첨가하여, 페이스트상(狀)으로 한 후, 중합 경화 시켜, 분쇄하여 얻어지는 유기 무기 복합 필러를 사용해도 지장없다.

    또한, 치과 조성물에 있어서, 입경이 0.1㎛ 이하인 마이크로 필러가 배합된 조성물은, 치과용 컴포지트 레진에 적합한 태양(態樣)의 하나이다. 이러한 입경이 작은 필러의 재질로서는, 실리카(예를 들면, 상품명 아에로질), 알루미나, 지르코니아, 티타니아 등이 바람직하다. 이와 같은 입경이 작은 무기 필러의 배합은, 컴포지트 레진의 경화물의 연마 활택성을 얻는데 있어서 유리하다.

    이와 같은 필러에 대하여는, 목적에 따라, 실란 커플링제 등에 의해 표면 처리가 실시되는 경우가 있다. 이러한 표면처리제로서는, 공지의 실란 커플링제, 예를 들면, γ-메타크릴옥시알킬트라이메톡시실란(메타크릴옥시기와 규소 원자 사이의 탄소수: 3∼12), γ-메타크릴옥시알킬트라이에톡시실란(메타클릴옥시기와 규소 원자 사이의 탄소수: 3∼12), 바이닐트리메톡시실란, 바이닐에톡시실란 및 바이닐트리아세톡시실란 등의 유기 규소 화합물이 사용된다. 표면처리제의 농도는, 필러 100중량%에 대하여, 통상 0.1∼20중량%, 바람직하게는 1∼10중량%의 범위에서 사용된다.

    또한, 경화 후의 표면으로부터 불소 이온 서방성(徐放性)을 기대하는 경우, 플루오로알루미노실리케이트 글라스 필러, 불화칼슘, 불화나트륨, 모노플루오로인산나트륨 등의 불소 이온 서방성 필러를 첨가할 수도 있다.

    이들 필러는 1종 단독으로 또는 2 종류 이상을 조합하여 적절히 사용된다. 필러의 배합량은, 컴포지트 레진 페이스트의 조작성(점조도)이나 그 경화물의 기계적 물성을 고려하여 적절히 결정하면 되고, 치과 조성물 중에 포함되는 필러 이외의 전(全)성분 100중량부에 대하여, 통상 10∼2000중량부, 바람직하게는 50∼1000중량부, 보다 바람직하게는 100∼600중량부이다.

    그 밖의 첨가제

    본 발명의 치과용 조성물에는, 그 밖의, 이하의 성분도 포함할 수 있다.

    항균성을 기대하는 경우는, 예를 들면, 세틸피리디늄클로라이드, 12-(메타)아크릴로일옥시도데실피리디늄브로마이드 등의 항균 활성을 가지는 계면활성제나 광촉매성 산화 티탄을 첨가할 수 있다.

    X선 조영성을 부여하는 경우는, 바륨, 이테르븀, 스트론튬, 란탄 등의 중금속 원소를 포함하는 유리 필러(예를 들면, 바륨보로알루미노실리케이트 글라스 등), 불화이테르븀, 황산바륨 등의 미분(微粉)을 첨가할 수 있다.

    점성이나 도포성을 조정하는 경우에는, 폴리아크릴산나트륨, 알긴산나트륨, 아라비아검 등의 증점제나, 평균 입경이 0.1㎛ 이하인 마이크로 필러 실리카〔예를 들면, 일본아에로질(주)제, 상품명: 아에로질〕를 첨가할 수 있다.

    ＜조제 방법＞

    본 발명의 치과용 조성물은, 상기 화합물(I), 상기 화합물(II), 상기 계면활성제(III), 및, 필요에 따라, 상기 "그 밖의 성분"을 혼합함으로써 얻을 수 있다.

    여기서, 본 발명의 치과용 조성물은, 이들 성분을 한 번에 혼합함으로써 얻을 수 있고, 혹은, 일단, 상기 화합물(I) 및 상기 화합물(II)을 포함하지만, 상기 계면활성제(III) 및 상기 중합 개시제를 포함하지 않는 중합성 조성물을 조제하고, 이 중합성 조성물에 대하여, 상기 계면활성제(III), 및, 필요에 따라 상기 중합 개시제 등 그 밖의 성분을 배합함으로써 얻을 수도 있다.

    또한, 용제를 거의 또는 전혀 포함하지 않는 치과용 조성물은, 시작부터 용제를 사용하는 일 없이 상기 화합물(I), 상기 화합물(II), 상기 계면활성제(III) 등을 혼합함으로써 얻어도 되고, 혹은, 일단, 상기 용제를 포함하는 희석 치과용 조성물을 제조하여 두고, 그 후, 이 희석 치과용 조성물에 관하여, 상기 화합물(I) 및 상기 화합물(II)이 반응을 일으키지 않는 적당한 조건하에서 용제 제거를 실시함으로써 얻어도 된다.

    〔치과용 경화물〕

    본 발명의 치과용 경화물은, 상술한 본 발명의 치과용 조성물을 경화하여 얻을 수 있다. 여기서, 본 발명의 치과용 경화물은, 일정한 친수성을 가지는 점에서, 본 명세서에 있어서, "치과용 친수성 경화물" 또는 "친수성 경화물"이라고 부르는 경우가 있다. 또한, 본 명세서의 문맥상, 본 발명의 치과용 경화물을 가리키는 것이 분명한 경우에는, 편의상 "경화물"이라고 부르는 경우도 있다.

    여기서, 본 발명의 치과용 경화물(치과용 친수성 경화물)이 취할 수 있는 형태는 특별히 한정되지 않지만, 본 발명의 적합하고 또한 전형적인 태양에 있어서는, 단층막의 형태를 가진다. 이와 같은 단층막을, 본 발명에서는, "치과용 단층막"이라고 부르는 경우가 있다.

    ＜치과용 단층막＞

    본 발명의 치과용 단층막은, 상술한 치과용 조성물을 경화함으로써 얻어지는 가교 수지, 즉, 치과용 친수성 경화물로 형성된다. 즉, 본 발명의 치과용 단층막은, 치과용 친수성 경화물로 이루어지는 단층막이다.

    또한, 본 명세서에 있어서는, 이와 같은 치과용 단층막의 것을 편의상 "단층막"이라고 부르는 경우도 있다.

    본 발명에 있어서, 이 단층막의 음이온성 친수기, 양이온성 친수기, 및 수산기로부터 선택되는 적어도 하나의 친수기의 표면 농도(Sa)와 단층막의 막두께 1/2 지점에 있어서의 친수기의 농도(심부 농도)(Da)로부터 구할 수 있는 친수기 농도의 경사도(음이온 농도비)(Sa/Da)는, 1.1 이상이며, 바람직하게는 1.2 이상, 보다 바람직하게는 1.3 이상이며, 더욱 바람직하게는 1.5 이상이다.

    본 발명의 단층막은, 통상, 치면(齒面)이나 치과용 보철물 등의 적어도 편면(片面) 상에 설치되어 상기 친수기를 가지는 피막으로서 설치되어 있다. 그리고 이 단층막 중에서는, 상기 친수기가, 치면이나 치과용 보철물 등의 존재하는 측의 막심부(膜深部)에서 표면까지 분포되며, 특히 단층막이 외기와 접하는 최표면에 많이 분포되도록 농도차(경사도(친수기 농도비)(Sa/Da))를 가지고 있다.

    이는, 하기 "형성 방법"에서 후술하는 바와 같이, 상기 치과용 조성물을, 치면이나 치과용 보철물 등에 도포하여, 열, 방사선 등에 의해 경화되면, 음이온성 친수기, 양이온성 친수기, 및 수산기로부터 선택되는 적어도 1종의 친수기가 외기와 접하는 표면에 편석(경사화)된 후, 상기 치과용 조성물의 경화물로 이루어지는 단층막이 형성되기 때문이라고 생각된다.

    이와 같이, 본 발명의 치과 재료를 구성하는 단층막은, 그 표면에 상기 친수기가 고농도로 존재하므로, 방오성 또는 셀프 클리닝성 등이 뛰어나다.

    상기 경사도(친수기 농도비)는, 소정의 단층막 샘플을 비스듬하게 절단하고, 단층막의 외기와 접하고 있던 표면과, 단층막의 막두께 1/2 지점에 있어서의, 음이온성 친수기(예를 들면, 설포기, 카복실기, 인산기 등), 양이온성 친수기(예를 들면, 4급 암모늄기 등), 및 수산기를 가지는 기의 농도를, 비행(飛行) 시간형 2차 이온질량분석장치(TOF-SIMS)를 이용하여 프래그먼트(fragment) 이온 강도로 하고 각각 측정하여, 그 값(상대 강도)으로부터 구한다.

    예를 들면, 도 1에 나타내는 시료 조제와 같이 샘플을 비스듬하게 절단하고, 비행 시간형 2차 이온질량분석장치(TOF-SIMS)를 이용하여, 설포기, 카복실기, 인산기, 4급 암모늄기, 및 수산기 등의 친수기를 가지는 친수성 화합물의 프래그먼트 이온에 관하여, 그 친수성 화합물에서 유래하는 외표면의 프래그먼트 이온 농도(Sa)와 상기 중간 지점과의 프래그먼트 이온 농도(Da)를 측정한다. 그리고, 이와 같은 값으로부터 외기와 접하는 막의 외표면과 막의 내표면과 외표면과의 중간 지점의 친수성 화합물에서 유래하는 친수기의 농도의 비, 즉 친수기 농도의 경사도(Sa/Da)를 구할 수 있다.

    본 발명의 치과 재료를 구성하는 단층막의 물접촉각은 통상 50° 이하이고, 바람직하게는 30° 이하이다.

    물접촉각이 상기 수치 이하인 단층막은, 친수성이 높고, 물과 친숙해지기(젖기) 쉬워 친수성 재료로서 뛰어나다. 그 때문에, 예를 들면, 방오 재료, 방오 피막 또는 셀프 클리닝 코트 등에 유용하다. 예를 들어, 셀프 클리닝 코트로서 사용하면 물이 오염과 코팅면의 사이로 들어가 오염을 띄워 제거할 수 있기 때문에 방오 효과가 뛰어나다. 또한 친수성의 단층막은, 물이 퍼짐으로써 증발 면적이 확대되고, 증발 속도가 향상되어 건조가 빨라지게 된다.

    상기 물접촉각이 상기 상한값 이하인 경우는, 본 발명의 단층막은, 방오 재료로서 특히 바람직하게 사용된다. 또한, 상기 물접촉각은 통상 0° 이상이다.

    화합물(III)을 포함하는 조성물을 경화함으로써, 용제 없이 화합물(I)에서 유래하는 친수기가, 단층막의 표면에 편석(경사화)되는 것이 가능하게 되고, 보다 폭넓은 조건에서 고친수성의 경화물을 얻을 수 있게 됨과 동시에, 화합물(I)과 화합물(II)의 분리를 억제하는 상용(相溶) 효과라고 생각되는 효과에 의해, 경화물의 투명성도 상대적으로 높아진다. 또한, 극성 용제의 증발에 동반시켜 표면에 편석(경사화)시키는 종래의 방법(예를 들면, 국제공개 2007/064003호 공보)에서는 경사화할 수 없었던 일반적인 친수성의 중합성 화합물(예를 들면, 국제공개 2007/064003호 공보에서 청구항에 기재된 범위의 화합물을 제외한 친수성 중합성 화합물)을 포함하는 조성물로부터도, 화합물(III)을 포함함으로써, 친수기가 표면에 편재(경사화)된 친수성의 경화물을 얻을 수 있게 된다. 또한, 상기 공보에 기재된 친수성 화합물을 포함하는 조성물에서는, 보다 표면에 친수기가 편석(경사화)된, 보다 높은 친수성의 경화물, 예를 들면 단층막이 얻어지는 경향으로 이어진다. 또한, 종래에서는 경사화가 곤란했던 용해 파라미터(SP값)가 9.3 미만인 저극성 용제를 사용해도, 비교적 용이하게 표면에 친수기가 편석(경사화)된 친수성의 경화물을 얻을 수 있게 된다. 따라서, 이들의 경화물로 이루어지는 높은 친수성과 투명성을 가지는 단층막이 종래보다 용이하게 폭넓은 재료로 얻을 수 있게 되어, 치과 재료에 대한 응용도 가능하게 되었다.

    본 발명의 단층막의 막두께는, 통상 0.0001∼500㎛, 바람직하게는 0.05∼500㎛, 보다 바람직하게는 0.1∼300㎛, 보다 바람직하게는, 0.1∼100㎛, 더욱 바람직하게는 0.5∼100㎛, 더욱더 바람직하게는 1∼50㎛, 특히 바람직하게는 2∼30㎛의 범위이다.

    ＜형성 방법＞

    본 발명의 치과용 경화물, 예를 들면 상기 단층막의 형성 방법에는 특별히 제한은 없지만, 예를 들면, 중합성 조성물인 상기 치과용 조성물을 기재의 표면에 도포하고, 필요에 따라 그 중합성 조성물에 포함되어 있는 용제를 제거한 후, 중합성 조성물을 경화 시키는 방법을 들 수 있다. 이 방법에 의하면, 상기 단층막을 적합하게 형성할 수 있다.

    여기서, 상기 도포는, 붓에 의한 도포, 또는 딥 코트나 스프레이 코트, 스핀 코트, 바 코트 등의 상법(常法)에 따라 실시할 수 있다. 후술하는 본 발명에 관련되는 치과용 보철물을 제조하는 경우, 상기 도포는, 예를 들면, 후술하는 실시예에서 나타내는 바와 같이 딥 코트에 의해 적합하게 실시할 수 있다.

    또한, 상술한 종래 공지의 도공 방법으로 폴리머 필름 상에 단층막을 형성하고, 그 필름을 첩합함으로써 본 발명의 치과용 보철물을 얻을 수도 있다.

    기재

    여기서, 본 발명의 치과용 조성물에 의한 도포의 대상이 되는 기재는, 치아 또는 치과용 보철물이다. 기재로서 사용되는 치과용 보철물의 예로서는, 인레이(Inlay), 크라운(Crown), 브릿지(Bridge), 부분 의치, 총의치, 임플란트(Implant) 등을 들 수 있다. 또한 본 발명에 있어서 보철물은, 치과용 수복(修復) 재료, 마우스피스, 치과 교정구, 구강내 장구(裝具)이어도 된다. 또한 인공 치아 내지 천연 치아이어도 된다. 이들 재료로서, 구체적으로는, 치아질, 및, 치과용 보철물로서 통상 사용할 수 있는 각종 금속, 세라믹, 수지(레진), 및 컴포지트 레진 등을 들 수 있다. 여기서, 본 발명에서 상기 기재로서 사용할 수 있는 세라믹으로서, 예를 들면, 유리, 실리카, 금속 산화물 등을 들 수 있고, 상기 무기 필러와 동일한 것이어도 된다. 또한, 본 발명에서 상기 기재로서 사용할 수 있는 수지로서, 폴리아크릴산에스터 및 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 등의 폴리메타크릴산에스터 등의 각종 아크릴 수지, 아크릴산에스터와 각종 모노머와의 공중합 재료, 메틸메타크릴레이트(MMA) 등의 메타크릴산에스터와 각종 모노머와의 공중합 재료, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스타이렌, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 염화바이닐 수지, 실리콘 수지, 폴리에터에터케톤(PEEK) 수지, 폴리에터케톤(PEK) 수지, 폴리에터케톤케톤(PEKK) 수지, 폴리에터에터케톤케톤(PEEKK) 수지, 폴리에터케톤에터케톤케톤(PEKEKK) 수지, 폴리설폰(PSU), 폴리에터설폰(PES), 폴리페닐설폰(PPSU), 및 상기 수지를 포함하는 각종 폴리머 알로이 재료 등을 들 수 있고, 상기 유기 필러와 동일� �� 것이어도 된다. 또한, 컴포지트 레진으로서, 상기 유기 무기 복합 필러와 동일한 재질의 것을 사용해도 된다.

    여기서, 본 발명의 치과용 조성물을, 치면(齒面)이나 치과용 보철물으로의 코팅제로서 사용하는 경우, 표면과의 밀착성을 증강시키기 위해서, 치면이나 치과용 보철물에 대하여 여러 가지의 전처리를 실시할 수 있다. 예를 들면, 구강 내에서 천연 치아에 도포하는 경우에는, 인산 수용액, 옥살산 수용액, 시트르산 수용액, 주석산 수용액, 염화제2철 수용액에 의해 에칭 처리를 실시하거나, 치아질에 접착성을 가지는 기능성 모노머가 배합된 접착성의 프라이머나 본딩제를 미리 도포할 수도 있다.

    또한, 치과용 보철물로서 사용하는 기재가 세라믹스, 컴포지트 레진, 금속 등인 경우에는, 샌드 블래스트 처리나, 실란 커플링제나 인산모노머를 포함하는 프라이머 처리를 실시할 수도 있다. 또한, 의치상(義齒床) 레진과 같이, 기재가 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)나 폴리카보네이트 등과 같은 레진인 경우에는, 염화메틸렌이나 아세톤, 메틸아이소뷰틸케톤 등의 용제를 도포하여 기재 처리를 실시할 수도 있다.

    또한, 본 발명에서 사용되는 상기 기재의 표면은 필요에 따라, 기재 표면을 활성화하는 것을 목적으로, 코로나 처리, 오존 처리, 산소 가스 혹은 질소 가스 등을 사용한 저온 플라즈마 처리, 글로우 방전 처리, 화학 약품 등에 의한 산화 처리, 화염 처리 등의 물리적 또는 화학적 처리를 실시할 수도 있다. 또한 이들 처리 대신에 혹은 이들 처리에 더하여 프라이머 처리, 언더코트 처리, 앵커코트 처리를 실시해도 된다.

    상기 프라이머 처리, 언더코트 처리, 앵커코트 처리에 사용하는 코트제로서는, 예를 들면, 폴리에스터계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리우레탄계 수지, 에폭시 수지, 페놀계 수지, (메타)아크릴계 수지, 폴리아세트산바이닐계 수지, 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀계 수지 또는 그 공중합체 내지 변성 수지, 셀룰로오스계 수지 등의 수지를 비이클(vehicle)의 주성분으로 하는 코트제를 사용할 수 있다. 상기 코트제로서는, 용제형 코트제, 수성형(水性型) 코트제 중 어느 하나이어도 된다.

    이들 코트제 중에서도, 변성 폴리올레핀계 코트제, 에틸바이닐알코올계 코트제, 폴리에틸렌이민계 코트제, 폴리뷰타다이엔계 코트제, 폴리우레탄계 코트제; 폴리에스터계 폴리우레탄 에멀젼 코트제, 폴리염화바이닐 에멀젼 코트제, 레탄아크릴에멀젼 코트제, 실리콘아크릴 에멀젼 코트제, 아세트산바이닐아크릴 에멀젼 코트제, 아크릴 에멀젼 코트제; 스타이렌-뷰타다이엔 공중합체 라텍스 코트제, 아크릴니트릴-뷰타다이엔 공중합체 라텍스 코트제, 메틸메타크릴레이트-뷰타다이엔 공중합체 라텍스 코트제, 클로로프렌 라텍스 코트제, 폴리뷰타다이엔 라텍스의 고무계 라텍스 코트제, 폴리아크릴산에스터 라텍스 코트제, 폴리염화바이닐리덴 라텍스 코트제, 폴리뷰타다이엔라텍스 코트제, 혹은 이들 라텍스 코트제에 포함되는 수지의 카복실산 변성물 라텍스 혹은 디스퍼젼(dispersion)으로 이루어지는 코트제가 바람직하다.

    이들 코트제는, 예를 들면, 그라비아 코트법, 리버스롤 코트법, 나이프 코트법, 키스 코트법 등에 의해 도포할 수 있고, 기재에 대한 도포량은, 건조 상태에서, 통상 0.05g/m 2 ∼10g/m 2 이다.

    이들 코트제 중에서는, 폴리우레탄계 코트제가 보다 바람직하다. 폴리우레탄계의 코트제는, 그 코트제에 포함되는 수지의 주쇄 혹은 측쇄에 우레탄 결합을 가진 것이다. 폴리우레탄계 코트제는, 예를 들면, 폴리에스터폴리올, 폴리에터폴리올, 또는 아크릴폴리올 등의 폴리올과 아이소시아네이트 화합물을 반응시켜 얻어지는 폴리우레탄을 포함하는 코트제이다.

    이들 폴리우레탄계 코트제 중에서도, 축합계 폴리에스터폴리올, 락톤계 폴리에스터폴리올 등의 폴리에스터폴리올과 톨릴렌다이아이소시아네이트, 헥사메틸렌다이아이소시아네이트, 자일렌다이아이소시아네이트 등의 아이소시아네이트 화합물을 혼합하여 얻어지는 폴리우레탄계 코트제가, 밀착성이 뛰어나기 때문에 바람직하다.

    폴리올 화합물과 아이소시아네이트 화합물을 혼합하는 방법은, 특별히 한정되지 않는다. 또한 배합비도 특별히 제한되지 않지만, 아이소시아네이트 화합물이 너무 적으면 경화 불량을 일으키는 경우가 있기 때문에 폴리올 화합물의 OH기와 아이소시아네이트 화합물의 NCO기가 당량 환산으로 2/1∼1/40의 범위인 것이 적합하다.

    본 발명에 있어서의 기재에서는, 상기 표면 활성화 처리된 기재면을 포함해도 된다.

    이와 같이 하여 기재 표면에 본 발명의 친수성 경화물로 이루어지는 단층막을 형성한 것은, 기재와 단층막을 포함하는 적층체로 하여 사용할 수 있다.

    또한, 본 명세서에 있어서, 기재로서 사용되는 상기 치과용 보철물은, 후술하는 본 발명에 관련되는 치과용 보철물과의 구별을 위해 "기재 보철물"이라고 부르는 경우가 있다. 후술하는 바와 같이, "기재 보철물" 표면에 본 발명의 친수성 경화물로 이루어지는 단층막을 형성하여 얻어지는 것은, 후술하는 본 발명에 관련되는 치과용 보철물로서 사용할 수 있다.

    용제 제거

    본 발명의 치과용 조성물에 관하여는, 해당 조성물이 상기 용제를 포함하는 경우에는, 치면이나 치과용 수복 재료 등에 조성물을 도포 후, 후술하는 경화를 실시하기 전에, 가열 등에 의해 용제를 충분히 제거하는 것이 바람직하다. 상기 조성물로부터의 용제의 제거가 불충분한 경우, 화합물(I)에서 유래하는 친수기(음이온성 친수기, 양이온성 친수기, 및 수산기로부터 선택되는 적어도 하나의 친수기)가, 도포물의 외기와 접하는 표면으로의 이동이 보다 적게 되기 때문에, 얻어지는 단층막의 친수성 등이 보다 작아지는 경향이 있다. 또한, 도포물의 외기와 접하는 표면으로 상기 친수기가 이동한 경우이어도, 상기 조성물 중에 용제가 잔존하면, 외기와 접하는 표면에 존재하는 대기(소수성)와의 반발하는 상호작용이 일어나, 도포물의 내부로 그 친수기가 보다 이동되기 쉬워지는 경향이 있다. 그 때문에, 얻어지는 단층막의 친수기가 외기와 접하는 표면에 대한 경사가 불충분하게 되는 경우가 있고, 또한 친수성이 저하되는 경우가 있으며, 치면이나 치과용 수복 재료 등과의 밀착성도 더 저하되는 경향이 있다. 따라서, 상기 조성물 중의 경화 직전의 잔존 용제는 보다 적은 것이 바람직한 경향이 있어, 통상 10중량% 이하, 바람직하게는 5중량% 이하, 보다 바람직하게는 3중량% 이하, 더욱 바람직하게는 1중량% 이하이다.

    용제 제거 시의 온도는 적시(適時) 결정할 수 있지만, 통상 실온∼200℃의 범위, 바람직하게는 30∼150℃의 범위, 더욱 바람직하게는 40∼120℃의 범위이다.

    상기 조성물로부터의 용제 제거를 위한 시간은 적시 결정하면 되지만, 생산성을 고려한 경우, 단시간쪽이 바람직한 경향이 있다. 예를 들면, 통상 30분 이하, 바람직하게는 10분 이하, 바람직하게는 5분 이하의 시간에서 건조하면 된다. 용제 제거 시의 분위기는 대기이어도 질소 등의 불활성 가스이어도 상관없지만, 분위기의 습도가 낮은 쪽이, 얻어지는 단층막의 외관이 악화(오렌지 껍질(orange peel), 투명성 저하 등)되지 않는 등 바람직한 경향이 있다. 구체적으로는, 분위기의 습도는 80% 이하가 바람직하고, 65% 이하가 보다 바람직하고, 55% 이하가 더욱 바람직하다.

    바람을 수반하여 용제를 제거하는 경우의 풍속은, 바람직하게는 30m/초 이하, 보다 바람직하게는 0.1∼30m/초의 범위, 더욱 바람직하게는 0.2∼20m/초의 범위, 특히 바람직하게는 0.3∼10m/초의 범위이다.

    용제 제거 시의 압력은 특별히 한정되지 않으며, 상압 또는 감압이 비교적 바람직하지만, 미가압(未加壓)이어도 된다.

    경화

    본 발명의 치과용 친수성 경화물은, 상기 치과용 조성물을 상기 기재 등에 도포한 후, 경화함으로써 얻을 수 있다. 여기서, 상기 치과용 조성물이 상기 용제를 포함하는 경우, 경화는, 상기 기재 등에 도포한 후, 필요에 따라, 상기 용제 제거를 더 실시하고 나서 실시할 수 있다.

    여기서, 상기 치과용 조성물의 경화는, 상기 화합물(I)과 상기 화합물(II)이, 상기 계면활성제(III)의 존재하에서 공중합함으로써 이루어진다.

    상기 경화 방법에는 특별히 제한은 없고, 예를 들면, 열 또는 방사선을 사용하여, 혹은 양자를 병용하여 경화할 수 있다.

    본 발명의 치과용 조성물은, 전술한 중합 개시제의 중합 방식에 따라 적절한 조건에서 경화할 수 있다.

    상기 경화는 대기하에서 실시할 수도 있지만, 질소 등의 불활성 가스 분위기하에서 실시한 경우는 경화 시간을 단축할 수 있는 점에서 바람직하다.

    열을 이용하여 경화하는 경우, 통상, 상기 치과용 조성물에 유기 과산화물 등의 열라디칼 발생제를 첨가하여 실온으로부터 300℃ 이하의 범위에서 가열한다.

    방사선을 이용하여 경화하는 경우, 방사선으로서는 파장 영역이 0.0001∼800nm 범위의 에너지선을 사용할 수 있다. 상기 방사선은, α선, β선, γ선, X선, 전자선, 자외선, 가시광 등으로 분류되어 있고, 상기 혼합물의 조성에 따라 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 이들 방사선 중에서도 자외선이 바람직하고, 자외선의 출력 피크는, 바람직하게는 200∼450nm의 범위, 보다 바람직하게는 230∼445nm의 범위, 더욱 바람직하게는 240∼430nm 범위, 특히 바람직하게는 250∼400nm의 범위이다. 상기 출력 피크의 범위의 자외선을 사용한 경우에는, 경화 시의 황변 및 열변형 등의 문제가 적고, 또한 자외선 흡수제를 첨가한 경우도 비교적 단시간에 경화를 완결할 수 있다.

    또한, 상기 조성물 중에 자외선 흡수제, 힌더드아민계 안정제가 첨가되어 있는 경우에는, 출력 피크가 250∼280nm 또는 370∼430nm의 범위의 자외선을 사용하는 것이 바람직하다.

    한편, 상기 조성물 중에, 캄퍼퀴논이나 다로큐어-TPO 등 가시광을 흡수하는 광중합 개시제가 첨가되고 있는 경우에는, 경화에 사용하는 방사선으로서 가시광을 사용할 수도 있다. 이 경우, 출력 피크가 400∼500nm의 범위의 광을 사용하는 것이 바람직하다.

    방사선에 의해 상기 조성물의 중합을 실시하는 경우에는, 산소에 의한 중합 저해를 회피할 목적으로, 상기 조성물을 기재 등에 도포하고, 필요에 따라 건조를 실시한 후, 그 도포층을 피복재(필름 등)로 피복하고 방사선을 조사하여 중합해도 된다. 피복재로 그 도포층을 피복 할 때에는, 그 도포층과 피복재 사이에 공기(산소)를 포함하지 않도록 밀착하는 것이 바람직하다.

    산소를 차단함으로써, 예를 들면, (광)중합 개시제량 및 방사선 조사량을 줄일 수 있는 경우가 있다.

    상기 피복재로서는, 산소가 차단되는 재료이면 어떤 재료 및 형태이어도 상관없지만, 조작성의 면에서 필름이 바람직하고, 그들 필름 중에서도 방사선 중합이 용이한 투명 필름이 바람직하다. 필름의 두께는 통상 3∼200㎛의 범위이며, 그들 중에서도 5∼100㎛가 바람직하고, 10∼50㎛이면 더욱 바람직하다.

    상기 피복재로서 바람직하게 사용되는 필름의 재질로서는, 예를 들면, 폴리바이닐알코올(PVA), 에틸렌·바이닐알코올 공중합체 등의 바이닐알코올계 중합체, 폴리아크릴아미드, 폴리아이소프로필아크릴아미드, 폴리아크릴로니트릴, 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리스타이렌(PS), 2축연신 폴리프로필렌(OPP)을 들 수 있다.

    또한, 장치는 고가이지만, 0.01∼0.002nm의 범위의 전자선을 방사선으로서 사용하면, 단시간에 중합을 완결할 수 있기 때문에 바람직하다.

    예를 들면, 가시광 조사에 의한 광중합 개시제를 함유하고 있는 본 발명의 치과용 조성물의 경우는, 그 치과용 조성물을 소정의 형상으로 가공한 후, 공지의 광조사 장치를 이용하여 소정의 시간 가시광을 조사함으로써, 원하는 경화물을 얻을 수 있다. 조사 강도, 조사 강도 등의 조건은, 치과용 조성물의 경화성에 따라 적절히 변경할 수 있다. 또한, 가시광을 비롯한, 광조사에 의해 경화된 경화물을, 적절한 조건에서 더 열처리를 함으로써, 경화물의 기계적 물성을 향상시킬 수도 있다.

    또한, 조작의 간편성의 관점에서, 광조사에 의해 치과용 조성물을 경화시키는 방법이 바람직하다.

    〔치과용 조성물 및 치과용 경화물의 용도〕

    상술한 본 발명의 치과용 조성물은, 상기 치과용 경화물의 형태로, 치과 재료로서 적합하게 사용할 수 있다. 여기서, 본 발명에 있어서, 이 치과 재료의 적합한 예로서, 상기 치과용 단층막을 가지는 치과용 보철물을 들 수 있다.

    이 본 발명에 관련되는 치과용 보철물은, 상술한 본 발명의 치과용 조성물을 경화하여 얻어지는 단층막을 가지고 있다. 본 발명에 관련되는 치과용 보철물은, 구체적으로는, 상기 "기재"의 항(項)에서 상술한 치과용 보철물(즉, "기재 보철물")과, 상술한 본 발명의 치과용 조성물을 경화하여 얻어지는 단층막을 포함한다. 본 발명의 전형적인 태양(態樣)에 있어서, 상기 단층막은, 상기 기재 보철물의 표면의 일부 또는 전부를 덮는 태양으로 위치되어 있다. 이와 같은 본 발명에 관련되는 치과용 보철물은, 상기 "기재"의 항에서 상술한 치과용 보철물(즉, "기재 보철물")을 기재로서 채용하고, 이 기재 보철물에 대하여, 상기 "형성 방법"에 기재된 방법을 적용함으로써 얻을 수 있다.

    본 발명의 치과용 조성물의 용도의 구체적인 예로서는, 치과용 복합 충전재료, 치관용 재료, 합착(合着)용 재료 등의 치과용 컴포지트 레진, 치열 교정용 접착제, 와동도포(窩洞塗布)용 접착제 및 치아열홈 봉쇄재 등의 치과용 접착제, 의치상용 재료, 의치상용 점막 조정재, 피셔 실란트(fissure sealant), 치면이나 치과용 보철물에의 코팅제, 표면 활택제(滑澤劑) 등을 들 수 있지만, 상술한 바와 같이 용제를 포함하는 경우에는, 경화 후에 경질의 얇은 피막을 생성시킬 수 있으므로, 각종의 코팅 용도, 예를 들면, 피셔 실란트, 치면이나 치과용 보철물에의 치과용 코팅제나 표면 스테인(stain)이나 표면 활택제, 지각(知覺) 과민 억제제, 치과용 매니큐어 등으로서 적합하게 사용할 수 있다.

    본 발명의 치과용 경화물의 사용 방법은, 치과 재료의 사용법으로서 일반적으로 알려져 있는 것이면, 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 본 발명의 치과용 조성물의 경우를 우식 와동 충전용 컴포지트 레진으로 하여 사용하는 경우는, 구강 내의 와동에 그 치과용 조성물을 충전한 후, 공지의 광조사 장치를 이용하여 광경화 시킴으로써, 목적을 달성할 수 있다. 또한, 치관용 컴포지트 레진으로서 사용하는 경우는, 적절한 형상으로 가공한 후, 공지의 광조사 장치를 이용하여 광경화시키고, 소정의 조건에서 열처리를 더 실시함으로써, 원하는 치관 재료를 얻을 수 있다.

    실시예

    이하, 실시예에 의해 본 발명을 더 상세히 설명하지만, 본 발명이 이들 실시 예에만 한정되는 것은 아니다.

    여기서, 본 명세서에 있어서의 이하의 기재에 있어서, "고형분 농도"는, 조성물 전체의 양에서 차지하는, 용제 이외의 성분의 합계량의 비율을 의미한다.

    또한, 본 발명에 있어서 피막의 물성 평가는, 하기와 같이 실시했다.

    ＜음이온 농도비의 측정＞

    도 1에 나타내는 시료 조제(調製)와 같이 샘플을 비스듬하게 절단하고, 비행 시간형 2차 이온질량분석장치(TOF-SIMS)를 이용하여, 상기 외표면의 음이온 농도(Sa)와 상기 중간 지점의 음이온 농도(Da)를 측정하고, 그 값으로부터 외기와 접하는 막의 외표면과 막의 내표면과 외표면과의 중간 지점의 음이온 농도의 비, 즉 음이온 농도의 경사도(Sa/Da)를 구했다.

    (분석 장치와 측정 조건)

    TOF-SIMS: ION·TOF사제 TOF. SIMS 5

    1차 이온: Bi 3 2 + (가속 전압 25kV)

    측정 면적: 350-500㎛ 2

    측정에는 대전 보정용 중화총(中和銃)을 사용

    (시료 조제 등)

    도 1에 나타내는 바와 같이, 기재(10)의 표면에 코트층(20)이 설치된 샘플을 절삭 방향(30)으로 향하여, 정밀 기울기 절삭을 실시한 후, 10×10mm 2 정도의 크기로 잘라내고, 측정면에 메쉬를 맞대고, 샘플 홀더에 고정하고, 외기와 접하는 코트층 표면(40) 및 막의 내부인 코트층 내부(50)(막두께 1/2의 지점, 기재(10)에 접하는 코트층의 내표면)에서 비행 시간형 2차 이온질량분석장치(TOF-SIMS)를 이용하여 음이온 농도를 측정했다.

    (평가)

    평가는 이하의 계산식으로 실시했다. 또한, 각 측정점의 이온 농도는, 상대 강도(토탈 검출 이온에 대한)를 사용했다.

    Sa/Da(음이온 농도비, 경사도)=코트층 표면(40)에서의 음이온 농도/코트층(20)의 막두께 1/2의 지점에서의 음이온 농도

    ＜물접촉각의 측정＞

    쿄와계면과학사제의 물접촉각 측정 장치 CA-V형을 이용하여, 1 샘플에 관하여 3개소 측정하고, 이들 값의 평균값을 물접촉각의 값으로 했다.

    ＜색차(色差)의 측정＞

    코팅 시험편(사이즈: 20mm×70mm×2mm 두께)을 친유성 착색제(오오츠카식품(주) 본커리 Gold 중신(中辛)(도구 제거))에 담그고, 40℃에서 6시간 유지했다. 유수(流水) 세정 후, 시험체편을 증류수에 담그고, 실온에서 12∼18시간 유지했다. 이것을 6회 반복하고, 7번째의 유수 세정 후, 시험편의 측색값(測色値)을 분광측색계(코니카미놀타제:CM-2500d, C광원, 측색시야 2도)로 측정했다. 착색제 침지 전의 측색값을 기준으로 하여, 침지 후의 색차 △E*ab를 구했다. △E*ab의 수치가 클수록, 내오염성이 뒤떨어지는 것을 의미한다.

    여기서, 색차 △E*ab는, L*a*b* 표색계로 나타냈을 때의, 착색제 침지 전에 있어서의 측색값(L*0, a*0, b*0) 및 착색제 침지 후에 있어서의 측색값(L*1, a*1, b*1)을 사용하여, 하기 식

    △E*ab=〔(L*1 - L*0) 2 ＋ (a*1 - a*0) 2 ＋ (b*1 - b*0) 2 〕 1/2

    에 근거하여 산출된다.

    〔조제예 1〕

    (중합성 조성물 1의 조제)

    표 1의 배합비에 따라, 고형분 농도 80wt%의 균일한 중합성 조성물 1을 조제했다. 또한, 표 1에 기재된 기호로 표시되는 화합물은 하기 화학식으로 표시되는 화합물이다.

    [표 1]

    〔조제예 2〕

    (중합성 조성물 2의 조제)

    표 2의 배합비에 따라, 고형분 농도 80wt%의 균일한 중합성 조성물 2를 조제했다. 또한, 표 2에 기재된 기호로 표시되는 화합물은 하기 화학식으로 표시되는 화합물이다.

    [표 2]

    〔조제예 3〕

    (중합성 조성물 3의 조제)

    표 3의 배합비에 따라, 고형분 농도 80wt%의 균일한 중합성 조성물 3을 조제했다. 또한, 표 3에 기재된 기호로 표시되는 화합물은 하기 화학식으로 표시되는 화합물이다.

    [표 3]

    〔조제예 4-1〕

    (화합물(III) 용액의 조제: DS-Na-1)

    하기 화학식으로 표시되는 다이스테아릴설포석신산나트륨(이하 DS-Na라고 약칭한다) 10g, 물 30g, 및 1-메톡시-2-프로판올(이하 PGM라고 약칭한다) 60g을 호모믹서(프라이믹스 주식회사, 로봇믹스(등록상표) S-model)를 이용하여 15000rpm으로 3분간 뒤섞어, 고형분 농도 10wt%의 DS-Na혼합액을 조제했다.

    〔조제예 4-2〕

    (화합물(III) 용액의 조제: DS-Na-2)

    다이스테아릴설포석신산나트륨(이하 DS-Na라고 약칭한다) 10g, 에탄올 64g, 및 물 26g을 호모믹서(프라이믹스 주식회사, 로봇믹스(등록상표) S-model)를 이용하여 15000rpm으로 3분간 뒤섞어, 고형분 농도 10wt%의 DS-Na혼합액을 조제했다.

    〔조제예 4-3〕

    (화합물(III) 용액의 조제: DT-Na)

    조제예 4-2의 DS-Na를, 하기 화학식으로 표시되는 다이트라이데카닐설포석신산나트륨(이하 DT-Na라고 약칭한다)으로 변경하여, 고형분 농도 10wt%의 DT-Na혼합액을 조제했다.

    〔조제예 4-4〕

    (화합물(III) 용액의 조제: DH-NH4)

    하기 화학식으로 표시되는 다이헥실설포석신산암모늄(이하 DH-NH4라고 약칭한다) 10g, 에탄올 70g, 및 물 20g을 호모믹서(프라이믹스 주식회사, 로봇믹스(등록상표) S-model)를 이용하여 15000rpm으로 3분간 뒤섞어, 고형분 농도 10wt%의 DH-NH4 혼합액을 조제했다.

    〔조제예 4-5〕

    (화합물(III) 용액의 조제: LS-Na)

    조제예 4-2의 DS-Na를, 하기 화학식으로 표시되는 도데실황산나트륨(라우릴황산나트륨이라고도 한다. 이하 LS-Na라고 약칭한다)로 변경하여, 고형분 농도 10wt%의 LS-Na혼합액을 조제했다.

    ＜기재의 전(前)처리＞

    코트용 기재로서 사용하는 투명 아크릴판(닛토수지공업제, CLAREX-001)은, 미리 이하와 같이 전처리하여 사용했다.

    아세톤과 IPA(아이소프로필알코올)의 혼합액(중량비로 1:1)에, 사용 기재를 5분간 침지 후, 꺼내서 에어 블로우를 실시했다. 이어서, 40℃의 송풍 건조기로 5분간 건조한 기재를 코팅에 사용했다.

    (기재에 대한 코트와 평가)

    〔실시예 1〕

    조제예 1에서 얻어진 고형분 농도 80wt%의 중합성 조성물 1: 100g과 조제예 4-1에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 DS-Na-1 용액(화합물(III) 용액) 0.8g(화합물(I)과 화합물(II)의 합계 중량에 대하여 0.1중량%), 희석 용제로서 메탄올 62g, 광중합 개시제로서 다로큐어-1173(시바·스페셜티·케미칼즈사제) 2.4g(화합물(I)과 화합물(II)의 합계 중량에 대하여 3.0중량%)를 혼합하여 고형분 농도 50wt%의 코팅 용액을 조제했다. 이 용액에, 상기 "기재의 전처리"에 기재된 방법에 의해 미리 전처리한 투명 아크릴판(닛토수지공업제, CLAREX-001)을 침지하고, 1mm/sec로 인상(引上)함으로써, 기재 표면에 용액을 도포했다. 50∼60℃ 온풍 건조기에 5분간 넣고, 도포물 중에 포함되는 용제를 제거했다.

    용제가 충분히 제거된 샘플을 UV컨베이어(고압 수은 램프, 160W/cm, 높이 19cm, 컨베이어 속도 5m/분, 조도 200mW/cm 2 , 적산(積算) 광량 600mJ/cm 2 , 우시오전기 UIT-150로 측정) 내에 넣어 통과시키는 것으로 UV조사하여, 투명 아크릴판 위에 막두께 3.5㎛의 친수성의 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플을 평가했다. 결과를 표 4-1에 게재한다.

    〔실시예 2〕

    실시예 1의 희석 용제를 메탄올 41.3g과 프로필렌글라이콜모노메틸에터(PGM) 20.7g의 혼합 용제로 변경하는 이외는, 실시예 1과 동일한 조작을 실시했다. 조제한 고형분 농도 50wt%의 코팅 용액을, 실시예 1과 동일하게 투명 아크릴판 위에 도포 후, 용제의 제거, UV조사를 실시하여, 투명 아크릴판 위에 막두께 4㎛의 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플을 평가했다. 결과를 표 4-1에 게재한다.

    〔실시예 3〕

    실시예 1의 희석 용제를 에탄올 55.8g과 증류수 6.2g의 혼합 용제로 변경하는 이외는, 실시예 1과 동일한 조작을 실시했다. 조제한 고형분 농도 50wt%의 코팅 용액을, 실시예 1과 동일하게 투명 아크릴판 위에 도포 후, 용제의 제거, UV조사를 실시하여, 투명 아크릴판 위에 막두께 3.5㎛의 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플을 평가했다. 결과를 표 4-1에 게재한다.

    〔실시예 4〕

    (계면활성제의 첨가와 용제의 제거)

    알루미늄 포일로 차광된 도 2에 나타내는 하기 실험장치에, 조제예 1의 중합성 조성물 1:125g과, 조제예 4-1의 고형분 농도 10wt%의 DS-Na-1 혼합액 1g을 장입 하고, 액 중에 건조공기(노점-30℃ 이하)를 버블링시키면서 감압하(＜100mmHg)에서 3일간 유지(실온)하여 탈용제했던바, 얇고 유백탁(乳白濁)한 중합성의 고점조 액체를 얻었다. 이 고점조 액체를 GC(내부 표준 물질법)로 분석했던바, 잔용제(殘溶劑)(메탄올)는 ＜0.1wt%이었다. GC조건을 이하에 기재한다.

    GC 분석 조건

    GC 기종명: 시마즈제작소, GC-2010

    컬럼: J＆W Science, DB-624, φ0.53mm×75m(막두께 3㎛)

    캐리어 가스: He 100cm/초

    Inj. : 240℃

    Det. : FID, 260℃

    샘플의 조제

    IS(내부 표준 물질): 2-메톡시-1-에탄올 50mg

    샘플: 중합성 조성물 100mg

    희석 용제: 다이클로로메테인 10ml

    주입량: 1μl

    (코팅 용액의 조제)

    상기에서 얻어진 중합성의 고점조 액체(용제 함유량＜0.1wt%) 10.0g에, 중합 개시제로서 다로큐어-1173(BASF) 0.3g을 첨가하고, 교반봉을 이용하여 정성껏 뒤섞음으로써, 고형분 농도 100wt%의 코팅 용액을 얻었다.

    (기재에의 코팅, UV조사)

    투명 아크릴판(닛토수지공업제, CLAREX-001)에, 상기 코팅 용액을 바코터 ＃10으로 도포하고, 실온(23℃-27%RH)에서 30분간 정치(靜置) 후, UV조사(무전극 방전 램프, H밸브 240W/cm, 조도 200mW/cm 2 , 적산 광량 150mJ/cm 2 , 우시오 UIT-150으로 측정)하여, PC판 위에 14㎛의 친수성 표면을 가지는 가교 수지로 이루어지는 단층막을 형성시켰다. 마지막으로, 막표면을 유수 세정하고, 에어건으로 건조하여 평가용 샘플로 했다. 평가 결과를 표 4-1에 게재한다.

    〔실시예 5〕

    조제예 2에서 얻어진 고형분 농도 80wt%의 중합성 조성물 2: 100g과 조제예 4-1에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 DS-Na-1 용액(화합물(III) 용액) 0.8g(화합물(I)과 화합물(II)의 합계 중량에 대하여 0.1중량%), 희석 용제로서 메탄올 113.3g과 PGM 56.7g의 혼합 용제, 광중합 개시제로서 다로큐어-1173(시바·스페셜티·케미칼즈사제) 2.4g(화합물(I)과 화합물(II)의 합계 중량에 대하여 3.0중량%)을 혼합하여 고형분 농도 30wt%의 코팅 용액을 조제했다. 이 용액에, 미리 전처리한 투명 아크릴판(닛토수지공업제, CLAREX-001)을 침지하고, 1mm/sec로 끌어올림으로써, 기재 표면에 용액을 도포했다. 50∼60℃ 온풍 건조기에 5분간 넣고, 도포물 중에 포함되는 용제를 제거했다.

    용제가 충분히 제거된 샘플을 UV컨베이어(고압 수은 램프, 160W/cm, 높이 19cm, 컨베이어 속도 5m/분, 조도 200mW/cm 2 , 적산 광량 600mJ/cm 2 , 우시오전기 UIT-150으로 측정) 내에 넣어 통과시키는 것으로 UV조사하여, 투명 아크릴판 위에 막두께 0.5㎛의 친수성의 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플을 평가했다. 결과를 표 4-1에 게재한다.

    〔실시예 6〕

    실시예 5의 희석 용제를 메탄올 41.3g과 PGM 20.7g의 혼합 용제로 변경하는 이외는, 실시예 5와 동일한 조작을 실시했다. 조제한 고형분 농도 50wt%의 코팅 용액을, 실시예 5와 동일하게 투명 아크릴판 위에 도포 후, 용제의 제거, UV조사를 실시하여, 투명 아크릴판 위에 막두께 4㎛의 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플을 평가했다. 결과를 표 4-1에 게재한다.

    〔실시예 7〕

    실시예 5의 희석 용제를 메탄올 23.3g과 PGM 11.7g의 혼합 용제로 변경하는 이외는, 실시예 5와 동일한 조작을 실시했다. 조제한 고형분 농도 60wt%의 코팅 용액을, 실시예 5와 동일하게 투명 아크릴판 위에 도포 후, 용제의 제거, UV조사를 실시하여, 투명 아크릴판 위에 막두께 7㎛의 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플을 평가했다. 결과를 표 4-1에 게재한다.

    〔비교예 1〕

    투명 아크릴판(닛토수지공업제, CLAREX-001)을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플을 평가했다. 이 비교예 1은, 기판으로서의 투명 아크릴판을, 본 발명의 치과용 조성물에 의한 도포 및 경화 모두 실시하는 일 없이, 그대로 사용한 경우에 상당한다.

    결과를 표 4-1, 4-2, 5, 7에 게재한다.

    〔비교예 2〕

    치과 재료로서 사용되는 아크론(지씨(GC))의 투명 아크릴판을 제작하고, 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플을 평가했다. 의치상용 재료로서 시판되고 있는 수지를, 본 발명의 치과용 조성물에 의한 도포 및 경화 모두 실시하는 일 없이, 그대로 사용한 경우에 상당한다.

    결과를 표 4-1, 4-2, 5, 7에 게재한다.

    [표 4-1]

    〔실시예 8〕

    조제예 3에서 얻어진 고형분 농도 80wt% 중합성 조성물 3: 100g과 조제예 4-2에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 DS-Na-2 용액(화합물(III) 용액) 0.8g(화합물(I)과 화합물(II)의 합계 중량에 대하여 0.1중량%), 희석 용제로서 메탄올 41.3g과 PGM 20.7g의 혼합 용제, 광중합 개시제로서 다로큐어-1173(시바·스페셜티·케미칼즈사제) 2.4g(화합물(I)과 화합물(II)의 합계 중량에 대하여 3.0중량%)를 혼합하여 고형분 농도 50wt%의 코팅 용액을 조제했다. 이 용액에, 미리 전처리한 투명 아크릴판(닛토수지공업제, CLAREX-001)을 침지하고, 1mm/sec로 끌어올림으로써, 기재 표면에 용액을 도포했다. 50∼60℃ 온풍 건조기에 5분간 넣고, 도포물 중에 포함되는 용제를 제거했다.

    용제가 충분히 제거된 샘플을 UV컨베이어(고압 수은 램프, 160W/cm, 높이 19cm, 컨베이어 속도 5m/분, 조도 200mW/cm 2 , 적산 광량 600mJ/cm 2 , 우시오전기 UIT-150으로 측정) 내에 넣어 통과시키는 것으로 UV조사하여, 투명 아크릴판 위에 친수성의 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플을 평가했다. 결과를 표 4-2에 게재한다.

    〔실시예 9〕

    조제예 3에서 얻어진 고형분 농도 80wt% 중합성 조성물 3: 100g과 조제예 4-2에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 DS-Na-2 용액(화합물(III) 용액) 0.8g(화합물(I)과 화합물(II)의 합계 중량에 대하여 0.1중량%), 희석 용제로서 에탄올 55.8g과 증류수 6.2g의 혼합 용제, 광중합 개시제로서 다로큐어-1173(시바·스페셜티·케미칼즈사제) 2.4g(화합물(I)과 화합물(II)의 합계 중량에 대하여 3.0중량%)를 혼합하여 고형분 농도 50wt%의 코팅 용액을 조제했다. 이 용액에, 미리 전처리한 투명 아크릴판(닛토수지공업제, CLAREX-001)을 침지하고, 1mm/sec로 끌어올림으로써, 기재 표면에 용액을 도포했다. 50∼60℃ 온풍 건조기에 5분간 넣고, 도포물 중에 포함되는 용제를 제거했다.

    용제가 충분히 제거된 샘플을 UV컨베이어(고압 수은 램프, 160W/cm, 높이 19cm, 컨베이어 속도 5m/분, 조도 200mW/cm 2 , 적산 광량 600mJ/cm 2 , 우시오전기 UIT-150으로 측정) 내에 넣어 통과시키는 것으로 UV조사하여, 투명 아크릴판 위에 친수성의 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플을 평가했다. 결과를 표 4-2에 게재한다.

    〔실시예 10〕

    실시예 9에 있어서, 화합물(III) 용액을, 조제예 4-3에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 DT-Na용액으로 변경하는 이외는, 실시예 9와 동일한 조작을 실시했다. 조제한 고형분 농도 50wt%의 코팅 용액을, 실시예 9와 동일하게 투명 아크릴판 위에 도포 후, 용제의 제거, UV조사를 실시하여, 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플을 평가했다. 결과를 표 4-2에 게재한다.

    〔실시예 11〕

    실시예 9에 있어서, 화합물(III) 용액을, 조제예 4-4에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 DH-NH4 용액으로 변경하는 이외는, 실시예 9와 동일한 조작을 실시했다. 조제한 고형분 농도 50wt%의 코팅 용액을, 실시예 9와 동일하게 투명 아크릴판 위에 도포 후, 용제의 제거, UV조사를 실시하여, 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플을 평가했다. 결과를 표 4-2에 게재한다.

    〔실시예 12〕

    실시예 9에 있어서, 화합물(III) 용액을, 조제예 4-5에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 LS-Na용액으로 변경하는 이외는, 실시예 9와 동일한 조작을 실시했다. 조제한 고형분 농도 50wt%의 코팅 용액을, 실시예 9와 동일하게 투명 아크릴판 위에 도포 후, 용제의 제거, UV조사를 실시하여, 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플을 평가했다. 결과를 표 4-2에 게재한다.

    [표 4-2]

    (단층막의 막두께 방향의 음이온 농도의 경사도의 분석)

    실시예 1∼9에서 얻어진 단층막에 대하여, 그 외표면의 음이온 농도(Sa)와 막두께 방향의 중간 지점(막의 외표면과 막의 내표면의 중간 지점)의 음이온 농도(Da)를 측정하고, 이와 같은 값으로부터 음이온 농도의 경사도(Sa/Da)를 구했던바, 모두 경사도 1.1 이상이었다.

    〔조제예 5〕

    (화합물(I) 용액의 조제: ATBS-Na)

    2-아크릴아미드-2-메틸설폰산(이하 ATBS라고 약칭한다.)를 수산화나트륨으로 중화·건조하여 얻어진 2-아크릴아미드-2-메틸설폰산나트륨(이하 ATBS-Na라고 약칭한다.) 10g에 물 30g을 첨가하여 초음파로 혼합 용해하고, 이어서 1-메톡시-2-프로판올(이하 PGM라고 약칭한다.) 60g을 첨가하고 격렬하게 혼합 교반하여, 고형분 10wt%의 ATBS-Na혼합액을 조제했다.

    〔실시예 13〕

    (코팅 용액의 조제)

    화합물(I)로서 10wt%의 ATBS-Na혼합액(조제예 5) 50g, 화합물(II)로서 다이펜타에리트리톨펜타아크릴레이트(이하 A-9530으로 약칭한다.) 100g, 화합물(III)으로서 10wt%의 DS-Na-1 혼합액(조제예 4-1) 1.1g, 중합 개시제로서 다로큐어-1173 3g, 및 희석 용제로서 2-메톡시-1-에탄올(이하 EGM라고 약칭한다.)를 62g 첨가하고 혼합 용해하여, 고형분 농도 50wt%의 코팅 용액을 조제했다. 이 용액에, 미리 전처리한 투명 아크릴판(닛토수지공업제, CLAREX-001)을 침지하고, 1mm/sec로 끌어올림으로써, 기재 표면에 용액을 도포했다. 50∼60℃ 온풍 건조기에 5분간 넣고, 도포물 중에 포함되는 용제를 제거했다.

    용제가 충분히 제거된 샘플을 UV컨베이어(고압 수은 램프, 160W/cm, 높이 19cm, 컨베이어 속도 5m/분, 조도 200mW/cm 2 , 적산 광량 600mJ/cm 2 , 우시오전기 UIT-150으로 측정) 내에 넣어 통과시키는 것으로 UV조사하여, 투명 아크릴판 위에 친수성의 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플을 평가했다. 결과를 표 5에 게재한다.

    〔실시예 14〕

    실시예 13에 있어서, 화합물(III) 용액을 10wt%의 DS-Na-1 혼합액(조제예 4-1) 2.2g으로 변경하고, 희석 용제를 EGM 61g로 변경하는 이외는, 실시예 13과 동일한 조작을 실시했다. 조제한 고형분 농도 50wt%의 코팅 용액을, 실시예 13과 동일하게 투명 아크릴판 위에 도포 후, 용제의 제거, UV조사를 실시하여, 투명 아크릴판 위에 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플을 평가했다. 결과를 표 5에 게재한다.

    〔실시예 15〕

    실시예 13에 있어서, 화합물(III) 용액을 10wt%의 DS-Na-1 혼합액(조제예 4-1) 5.5g으로 변경하고, 희석 용제를 EGM 58g로 변경하는 이외는, 실시예 13과 동일한 조작을 실시했다. 조제한 고형분 농도 50wt%의 코팅 용액을, 실시예 13과 동일하게 투명 아크릴판 위에 도포 후, 용제의 제거, UV조사를 실시하여, 투명 아크릴판 위에 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플을 평가했다. 결과를 표 5에 게재한다.

    〔실시예 16〕

    실시예 13에 있어서, 화합물(III) 용액을 10wt%의 DS-Na-1 혼합액(조제예 4-1) 11g으로 변경하고, 희석 용제를 EGM 54g로 변경하는 이외는, 실시예 13과 동일한 조작을 실시했다. 조제한 고형분 농도 50wt%의 코팅 용액을, 실시예 13과 동일하게 투명 아크릴판 위에 도포 후, 용제의 제거, UV조사를 실시하여, 투명 아크릴판 위에 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플을 평가했다. 결과를 표 5에 게재한다.

    [표 5]

    〔실시예 17-19, 21 및 참고예 20〕

    (중합성 조성물의 조제)

    표 6의 배합비에 따라, 각각 중합성 조성물 5A∼5E를 조제했다. 또한, 표 6에 기재된 기호로 표시되는 화합물은 하기 화학식으로 표시되는 화합물이다.

    [표 6]

    〔실시예 17〕

    (기재에의 코트와 평가)

    중합성 조성물 5A에, 중합 개시제로서 다로큐어-1173 3g을 첨가하여, 고형분 농도 50wt%의 코팅 용액을 조제했다. 이 용액에, 미리 전처리한 투명 아크릴판(닛토수지공업제, CLAREX-001)을 침지하고, 1mm/sec로 끌어올림으로써, 기재 표면에 용액을 도포했다. 50∼60℃ 온풍 건조기에 5분간 넣고, 도포물 중에 포함되는 용제를 제거했다.

    용제가 충분히 제거된 샘플을 UV컨베이어(고압 수은 램프, 160W/cm, 높이 19cm, 컨베이어 속도 5m/분, 조도 200mW/cm 2 , 적산 광량 600mJ/cm 2 , 우시오전기 UIT-150으로 측정) 내에 넣어 통과시키는 것으로 UV조사하여, 투명 아크릴판 위에 친수성의 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플을 평가했다. 결과를 표 7에 게재한다.

    〔실시예 18, 19, 21 및 참고예 20〕

    실시예 17에 있어서, 중합성 조성물 5A를 중합성 조성물 5B∼5E로 변경하는 이외는, 실시예 17과 동일한 조작을 실시했다. 각각의 결과를 표 7에 게재한다.

    [표 7]

    ＜의치의 제작＞

    (왁스제의 의치의 제작)

    환자의 윗턱 및 아래턱의 개형 인상(槪形印象)을 뽑고, 그 개형 인상으로부터 환자에게 맞는 형태의 트레이를 제작하고, 얻어진 트레이를 사용하여 환자의 정밀 인상을 채득(採得)하였다. 채득된 정밀 인상에 근거하여, 환자에게 맞는 형태의, 상하 별개의 석고 모형을 제작했다.

    다음으로, 석고 모형의 상하를 연결하고, 상하의 교합(交合)을 재현하기 위한, 베이스 플레이트와 왁스로 이루어지는 교합상(交合床)을 제작했다.

    다음으로, 환자의 구강을 보고 턱운동의 모습을 관찰하고, 그 턱운동을 상기교합상에서 재현하고 교합 상태를 3차원적으로 채득하여 교합 위치를 결정하고, 왁스제의 의치상(윗턱용 의치상과 아래턱용 의치상의 세트)를 제작했다.

    얻어진 왁스제의 의치상에, 인공치아를 나란히 놓고, 이어서 시적(試適) 및 조정을 실시함으로써, 왁스제의 의치(윗턱용 의치와 아래턱용 의치의 세트)가 완성되었다.

    (의치용의 석고형의 제작)

    우선, 플라스크(Flask) 하형(下型)과 플라스크 상형(上型)으로 구성되는 의치 제작용 플라스크를 준비했다.

    다음으로, 왁스제의 의치와 상술한 석고 모형을 조합한 상태에서 플라스크 하형 안에 넣고, 거기에 소정량의 물과 혼합한 석고 덴탈 블라스터를 가득 흘려 넣고 잠시 방치했다. 석고가 굳어진 후에, 상술한 분리제를 석고 위에 떨어뜨리고, 붓을 이용하여 전체에 도포했다. 그 후, 상기 플라스크 하형 위에 플라스크 상형을 올리고, 거기에 석고를 틀에 가득 찰 때까지 흘려 넣고, 덮개를 닫아 석고가 완전하게 굳어질 때까지 방치했다.

    석고가 굳어진 후, 플라스크 상형과 플라스크 하형을 분리하고, 뜨거운 물로 따뜻하게 하여 왁스를 녹이고 베이스 플레이트를 제거했다.

    이상에 의해, 석고형 상형과 석고형 하형으로 이루어지는, 의치용의 석고형을 얻었다.

    이어서, 석고형 상형 및 석고형 하형의 석고면 전체에 상기 분리제를 도포했다.

    (의치의 제작)

    상기 의치용의 석고형이 제작된 의치 제작용 플라스크를 사용하여 석고형 내에서 MMA를 중합시킴으로써, PMMA로 이루어지는 의치를 얻은 후, 연마를 실시했다. 상세한 조작을 이하에 나타낸다.

    우선, 상용(床用) 레진 재료 아크론클리어 No.5(지씨사제)를 준비하고, 그 분재(粉材) 12g과 액재(液材) 5g을 용기에 칭량하여 취하고, 혼합했다. 얻어진 혼합물을 잠시 방치하여 병상(餠狀)이 되었을 때에, 병상이 된 혼합물을, 플라스크 하형 내에 제작된 석고형 하형의 오목부 위에 넉넉하게 얹혀 형태를 갖추었다.

    다음으로, 이 플라스크 하형 위에, 내부에 석고형 상형이 제작된 플라스크 상형을 얹고, 프레스기로 압력을 가했다. 다음으로, 이 플라스크 상형을 떼어내고, 오목부로부터 비어져 나온 병상상(餠狀床)용 레진 재료를 제거하고, 다시 상기 플라스크 상형을 얹고, 프레스기로 압력을 가했다. 그 후, 플라스크 클램프로, 플라스크(상기 플라스크 상형과 상기 플라스크 하형이 조립된 플라스크)를 고정했다.

    이 플라스크를 물이 들어간 냄비에 넣고, 가스 레인지로 100℃까지 30분 이상 걸쳐 서서히 가열했다. 100℃에 이르고 나서 30∼40분 가열한 후, 가열을 종료하고 30℃까지 냉각했다.

    이어서 플라스크 하형과 플라스크 상형을 분리하고, 이어서 석고형을 분할하고, 완성된 의치(PMMA제)를 꺼낸 후, 마무리의 연마를 실시했다.

    ＜의치의 전처리＞

    연마 후의 의치를, 아세톤과 IPA(아이소프로필알코올)의 혼합액(중량비로 1:1)에, 사용 기재를 5분간 침지 후, 꺼내서 에어 블로우를 실시했다. 이어서, 40℃의 송풍 건조기로 5분간 건조한 의치를 코팅에 사용했다.

    〔실시예 22〕

    조제예 1에서 얻어진 고형분 농도 80wt% 중합성 조성물 1: 300g과 조제예 4-1에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 DS-Na-1 용액(화합물(III) 용액) 2.4g(화합물(I)과 화합물(II)의 합계 중량에 대하여 0.1중량%), 희석 용제로서 메탄올 186g, 광중합 개시제로서 다로큐어-1173(시바·스페셜티·케미칼즈사제) 7.2g(화합물(I)과 화합물(II)의 합계 중량에 대하여 3.0중량%)를 혼합하고, 실시예 1과 동일한 고형분 농도 50wt%의 코팅 용액을 조제했다. 이 용액에, 상기 "의치의 전처리"에 따라 미리 전처리한 의치를 침지하고, 1mm/sec로 끌어올림으로써, 기재 표면에 용액을 도포했다. 50∼60℃ 온풍 건조기에 5분간 넣고, 도포물 중에 포함되는 용제를 제거했다.

    용제가 충분히 제거된 샘플을 UV컨베이어(고압 수은 램프, 160W/cm, 높이 19cm, 컨베이어 속도 5m/분, 조도 200mW/cm 2 , 적산 광량 600mJ/cm 2 , 우시오전기 UIT-150으로 측정) 내에 넣어 통과시키고, 뒤집어 재차 통과시키는 것으로 UV조사하여, 의치 표면 위에 친수성의 단층막을 형성했다.

    〔실시예 23〕

    조제예 2에서 얻어진 고형분 농도 80wt% 중합성 조성물 2: 300g과 조제예 4-1에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 DS-Na-1 용액(화합물(III) 용액) 2.4g(화합물(I)과 화합물(II)의 합계 중량에 대하여 0.1중량%), 희석 용제로서 메탄올 123. 9g과 PGM 62.1g의 혼합 용제, 광중합 개시제로서 다로큐어-1173(시바·스페셜티·케미칼즈사제) 7.2g(화합물(I)과 화합물(II)의 합계 중량에 대하여 3.0중량%)를 혼합하고, 실시예 6과 동일한 고형분 농도 50wt%의 코팅 용액을 조제했다. 이어서, 실시예 22와 동일하게 딥 코트, 건조, UV조사를 실시하여, 의치 표면 위에 친수성의 단층막을 형성했다.

    〔실시예 24〕

    조제예 3에서 얻어진 고형분 농도 80wt% 중합성 조성물 3: 300g과 조제예 4-2에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 DS-Na-2 용액(화합물(III) 용액) 2.4g(화합물(I)과 화합물(II)의 합계 중량에 대하여 0.1중량%), 희석 용제로서 에탄올 167.4g과 증류수 18.6g의 혼합 용제, 광중합 개시제로서 다로큐어-1173(시바·스페셜티·케미칼즈사제) 7.2g(화합물(I)과 화합물(II)의 합계 중량에 대하여 3.0중량%)를 혼합하고, 실시예 9와 동일한 고형분 농도 50wt%의 코팅 용액을 조제했다. 이어서, 실시예 22와 동일하게 딥 코트, 건조, UV조사를 실시하여, 의치 표면 위에 친수성의 단층막을 형성했다.

    〔비교예 3〕

    상기 의치에 관하여, 본 발명의 치과용 조성물의 도포를 실시하는 일 없이, 그대로 아래와 같은 평가에 제공했다.

    ＜내오염성의 평가 1＞

    실시예 22∼24에서 제작한 코팅이 끝난 의치, 및 비교예 3의 코팅하지 않은 의치를, 각각, 수세, 건조 후, 제브라(주)제의 유성(油性) 마커 "맛키 극세"(흑(黑), 품번MO-120-MC-BK)로 마크하고, 유수(流水) 세정을 실시했다. 실시예 22∼24에서 제작한 코팅이 끝난 의치는, 모두 마크의 대부분이 흘러 떨어지든지, 가볍게 문지르면 제거할 수 있었다. 한편, 비교예 3의 코팅하지 않은 의치의 마커는 문질러도 전혀 떨어지지 않았다.

    ＜내오염성의 평가 2＞

    실시예 22∼24에서 제작한 코팅이 끝난 의치, 및 비교예 3의 코팅하지 않은 의치를, 친유성 착색제(오오츠카식품(주) 본커리 Gold중신(도구 제거))에 담그고, 40℃에서 6시간 유지했다. 유수 세정 후, 시험체편을 증류수에 담그고, 실온에서 12∼18시간 유지했다. 이것을 6회 반복하고, 7번째의 유수 세정 후, 오염의 정도를 육안으로 관찰했다.

    실시예 22∼24에서 제작한 코팅이 끝난 의치에는 기름 오염의 부착도 없고, 착색도 볼 수 없었다. 한편, 비교예 3의 코팅하지 않은 의치에는, 표면이나 치간에 기름 오염이 부착되어 있었다.

    ＜의치의 제작 2＞

    (왁스제의 의치의 제작)

    환자의 윗턱 및 아래턱의 개형 인상을 취하고, 그 개형 인상으로부터 환자에게 맞는 형태의 트레이를 제작하고, 얻어진 트레이를 사용하여 환자의 정밀 인상을 채득하였다. 채득된 정밀 인상에 기초하여, 환자에게 맞는 형태의, 상하 별개의 석고 모형을 제작했다.

    다음으로, 석고 모형의 상하를 연결하고, 상하의 교합(咬合)을 재현하기 위한, 베이스 플레이트와 왁스로 이루어지는 교합상을 제작했다.

    다음으로, 환자의 구강을 보고 턱운동의 모습을 관찰하고, 그 턱운동을 상기교합상(咬合床)에서 재현하고 교합상태를 3차원적으로 채득하여 교합위치를 결정하고, 왁스제의 의치상(윗턱용 의치상와 아래턱용 의치상의 세트)를 제작했다.

    얻어진 왁스제의 의치상(義齒床)에, 미리 왁스 패턴 분리제SEP(마츠카제사제)를 도포하여 둔 인공치아(헤레우스크루트사제 e-Ha)을 나란히 놓고, 이어서 시적 (試適) 및 조정을 실시함으로써, 왁스제의 의치(윗턱용 의치와 아래턱용 의치의 세트) 가 완성되었다.

    (의치상용의 석고형의 제작)

    우선, 플라스크 하형과 플라스크 상형으로 구성되는 의치 제작용 플라스크를 준비했다.

    또한, 상기 왁스제의 의치에서 인공치아를 제거하고, 왁스제의 의치상을 준비했다.

    다음으로, 왁스제의 의치상과 상술한 석고 모형을 조립한 상태에서 플라스크 하형 내에 넣고, 거기에 소정량의 물과 혼합한 석고 덴탈 블래스터를 가득 흘려 넣고 잠시 방치했다. 석고가 굳어진 후에, 상술한 분리제를 석고 위에 떨어뜨리고, 붓을 이용하여 전체에 도포했다. 그 후, 상기 플라스크 하형 위에 플라스크 상형을 올리고, 거기에 석고를 틀에 가득 찰 때까지 흘려 놓고, 덮개를 덮어서 석고가 완전하게 굳어질 때까지 방치했다.

    석고가 굳어진 후, 플라스크 상형과 플라스크 하형을 분리하고, 뜨거운 물로 따뜻하게 하여 왁스를 녹이고 베이스 플레이트를 제거했다.

    이상에 의해, 석고형 상형과 석고형 하형으로 이루어지는, 의치상용의 석고형을 얻었다.

    여기서, 석고형 상형은 플라스크 상형 내에 제작되고, 석고형 하형은 플라스크 하형 내에 제작되었다. 석고형 상형 및 석고형 하형은, 이 2개가 조립되었을 때에, 상기 왁스제의 의치상의 형상의 공간이 형성되도록 이루어져 있다.

    이어서, 석고형 상형 및 석고형 하형의 석고면 전체에 상기 분리제를 도포했다.

    (컨벤셔널(conventional) 의치상의 제작)

    상기 의치상용의 석고형이 제작된 의치 제작용 플라스크를 사용하여, 석고형내에서 MMA를 중합시킴으로써, 컨벤셔널 의치상(윗턱 의상와 아래턱 의치상의 세트; 재질은 모두 PMMA)를 얻었다. 상세한 조작을 이하에 나타낸다.

    우선, 상용 레진 재료 아크론클리어 No. 5(지씨사제)를 준비하고, 그 분재 6중량부와 액재 2.5 중량부를 용기에 칭량하여 취하고, 혼합했다. 얻어진 혼합물을 잠시 방치하여 병상이 되었을 때에, 병상이 된 혼합물을, 플라스크 하형 내에 제작된 석고형 하형의 오목부 위에 넉넉하게 얹어 형태를 갖추었다.

    다음으로, 이 플라스크 하형 위에, 내부에 석고형 상형이 제작된 플라스크 상형을 얹고, 프레스기로 압력을 가했다. 다음으로, 이 플라스크 상형을 떼어내고, 오목부로부터 비어져 나온 병상상용 레진 재료를 제거하고, 다시 상기 플라스크 상형을 얹고, 프레스기로 압력을 가했다. 그 후, 플라스크 클램프로, 플라스크(상기 플라스크 상형과 상기 플라스크 하형이 조립된 플라스크)를 고정했다.

    이 플라스크를 물이 들어간 냄비에 넣거, 가스 레인지로 100℃까지 30분 이상 걸쳐 서서히 가열했다. 100℃에 이르고 나서 30∼40분 가열한 후, 가열을 종료하고 30℃까지 냉각했다.

    이어서 플라스크 하형과 플라스크 상형을 분리하고, 이어서 석고형을 분할하고, 완성된 의치상(PMMA제)를 꺼내 연마하여, 컨벤셔널 의치상을 얻었다.

    (CAD/CAM 의치상의 제작)

    상기에서 제작한 컨벤셔널 의치상의 3D 데이터를, 3D 스캐너를 이용하여 취득했다.

    이 3D 데이터로부터, CAD/CAM 소프트를 이용하여, 의치상용 재료로서의 PMMA 수지 블록(닛토수지공업사제 CL-000)을 절삭하여 의치상을 얻기 위한 절삭 프로그램을 작성했다.

    이 절삭 프로그램에 따라, CNC 절삭기를 이용하여 상기 수지 블록을 절삭하여, CAD/CAM 의치상을 얻었다.

    (CAD/CAM 의치의 제작)

    상기에서 제작한 CAD/CAM 의치상의 모든 소켓부에 대하여, 치과 아크릴계 레진(산메디칼사제 메타패스트)을 접착제로서 사용하여, 인공치아(헤레우스쿨저사제 e-Ha)을 접착하고, CAD/CAM 의치를 제작했다.

    ＜의치의 전처리 2＞

    상기 "의치의 제작 2"에서 작성한 CAD/CAM 의치에 관하여, 연마 후의 의치를, IPA(아이소프로필알코올)에 5분간 침지 후, 꺼내서 에어 블로우를 실시했다. 이어서, 40℃의 송풍 건조기로 5분간 건조하고, 건조 후의 의치를 코팅에 사용했다.

    〔실시예 25〕

    조제예 3에서 얻어진 고형분 80wt% 중합성 조성물 3: 300g과 조제예 4-2에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 DS-Na-2 용액(화합물(III) 용액) 2.4g(화합물(I)과 화합물(II)의 합계 중량에 대하여 0.1중량%), 희석 용제로서 에탄올 149.5g과 증류수 16.2g의 혼합 용제, 광중합 개시제로서 다로큐어-1173(시바·스페셜티·케미칼즈사제) 7.2g(화합물(I)과 화합물(II)의 합계 중량에 대하여 3.0중량%)를 혼합하여, 고형분 농도 52wt%의 코팅 용액을 조제했다.

    이 용액에, 상기 "의치의 전처리 2"에 따라 미리 전처리한 의치를 침지하고, 1mm/sec로 끌어올림으로써, 의치 표면에 용액을 도포했다. 이어서, 50∼60℃ 온풍 건조기에 5분간 넣고, 도포물 중에 포함되는 용제를 제거했다. 건조 후의 의치를, UV컨베이어(고압 수은 램프, 160W/cm, 높이 14cm, 컨베이어 속도 5m/분, 조도 400mW/cm 2 , 적산 광량 1200mJ/cm 2 , 우시오전기 UIT-250으로 측정) 내에 넣어 통과시키고, 뒤집어 재차 통과시키는 것으로 전면을 UV조사하여, 의치 표면 위에 친수성의 단층막을 형성했다.

    〔실시예 26∼30〕

    실시예 25에 있어서, 화합물(III) 용액의 종류, 및 희석 용제에 있어서의 에탄올과 증류수와의 배합량을 표 8에 나타내는 것으로 변경하는 이외는, 실시예 25와 동일한 조작을 실시하여, 각각, 표 8에 나타내는 고형분 농도를 가지는 코팅 용액을 얻었다. 각 실시예에 있어서, 조제한 코팅 용액을, 실시예 25와 동일하게 의치 표면에 도포 후, 용제의 제거, UV조사를 실시하여, 각각, 의치 표면 위에 단층막을 형성했다.

    또한, 표 8 중, 화합물(III) 용액의 항목에서 "DT-Na"이라는 것은, 화합물(III) 용액으로서, 조제예 4-3에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 DT-Na용액을 채용한 것을 의미한다.

    [표 8]

    ＜내오염성의 평가 3＞

    실시예 25∼30에서 제작한 코팅이 끝난 의치를 수세, 건조 후, 제브라(주)제의 유성 마커 "맛키 극세"(흑, 품번MO-120-MC-BK)로 마크하고, 유수 세정을 실시했다. 코팅이 끝난 의치는, 모두 마크의 대부분이 흘러 떨어지든지, 가볍게 문지르면 제거할 수 있었다.

    (가시광 경화)

    〔실시예 31〕

    조제예 3에서 얻은 고형분 농도 80wt%의 중합성 조성물 3: 1.26g과 조제예 4-2에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 DS-Na-2 용액(화합물(III) 용액) 0.010g, 희석 용매로서 에탄올 0.85g, 증류수 0.096g을 혼합하고, 광중합 개시제로서 캄퍼퀴논(와코순약제) 0.022g(합계 중량에 대하여 1.0wt%)를 혼합하여, 고형분 농도 46wt%의 코팅 용액을 조제했다.

    상기 "기재의 전처리"와 동일한 방법에 따라 미리 전처리한 투명 아크릴판(닛토수지공업제, CLAREX-001)을 기재로서 사용하고, 이 코팅 용액을 바코터 ＃30에 의해, 이 기재 표면에 용액을 도포했다. 50∼60℃ 온풍 건조기에 5분간 넣고, 도포물 중에 포함되는 용제를 제거했다.

    용제가 충분히 제거된 샘플을 가시광 조사 장치 알파라이트V(MORITA제, LED 램프, 400∼408nm, 465∼475nm: 조도 60mW/cm 2 , 적산 광량 3600mJ/cm 2 , 우시오전기 UIT-250(405nm)으로 측정)의 장치 내에 넣고, 1분간 조사시킴으로써, 투명 아크릴판 위에 막두께 18㎛의 친수성의 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플의 외관 및 물접촉각을 평가했다. 결과를 표 9-1에 게재한다.

    〔실시예 32∼42〕

    실시예 31에 있어서, 중합성 조성물 3의 양, 화합물(III) 용액의 종류, 및, 중합 개시제의 종류 및 양을, 표 9-1∼9-2에 기재된 것으로 변경하는 이외는, 실시예 31과 동일한 조작을 실시하여, 각각, 표 9-1∼9-2에 나타내는 고형분 농도를 가지는 코팅 용액을 얻었다. 각 실시예에 있어서, 조제한 코팅 용액을, 실시예 31과 동일하게 투명 아크릴판 위에 도포 후, 용제의 제거, 가시광 조사를 실시하여, 각각, 투명 아크릴판 위에 막두께 18㎛의 단층막을 형성했다. 그 후, 각 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플의 외관 및 물접촉각을 평가했다. 결과를 표 9-1∼9-2에 게재한다.

    여기서, 표 9-2 중, 화합물(III) 용액의 항목에서 "DT-Na"이라는 것은, 화합물(III) 용액으로서, 조제예 4-3에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 DT-Na용액을 채용한 것을 의미한다.

    또한, 표 9-1 및 9-2 중, 중합 개시제의 항목에서 "LUCIRIN TPO"이라는 것은, 중합 개시제로서, 캄퍼퀴논을 대신하여, LUCIRIN TPO(BASF사제)를 채용한 것을 의미한다.

    [표 9-1]

    [표 9-2]

    〔실시예 43〕

    조제예 3에서 얻은 고형분 농도 80wt%의 중합성 조성물 3: 1.25g과 조제예 4-2에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 DS-Na-2 용액(화합물(III) 용액) 0.010g, 희석 용매로서 에탄올 0.85g, 증류수 0.096g을 혼합하고, 광중합 개시제로서 캄퍼퀴논(도쿄 화성제) 0.034g(합계 중량에 대하여 1.5wt%)를 혼합하여, 고형분 농도 46wt%의 코팅 용액을 조제했다.

    상기 "기재의 전처리" 방법에 따라, 미리 전처리한 투명 아크릴판(닛토수지공업제, CLAREX-001)을 기재로서 사용하고, 이 코팅 용액을 바코터 ＃30에 의해, 이 기재 표면에 용액을 도포했다. 50∼60℃ 온풍 건조기에 5분간 넣고, 도포물 중에 포함되는 용제를 제거했다.

    용제가 충분히 제거된 샘플을 가시광 조사 장치 알파라이트V(MORITA제, LED 램프, 400∼408nm, 465∼475nm: 조도 60mW/cm 2 , 적산 광량 3600mJ/cm 2 , 우시오전기 UIT-250(405nm)으로 측정)의 장치 내에 넣고, 1분간 조사시킴으로써, 투명 아크릴판 위에 막두께 18㎛의 친수성의 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플의 외관 및 물접촉각을 평가했다. 결과를 표 10에 게재한다.

    〔실시예 44∼51〕

    실시예 43의 중합 개시제를, 표 10에 기재된 개시제 0.034g(합계 중량에 대하여 1.5wt%)로 변경하는 이외는, 실시예 43과 동일한 조작을 실시했다. 조제한 고형분 농도 46wt%의 코팅 용액을, 실시예 43과 동일하게 투명 아크릴판 위에 도포 후, 용제의 제거, 가시광 조사를 실시하여, 투명 아크릴판 위에 막두께 18㎛의 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플의 외관 및 물접촉각을 평가했다. 결과를 표 10에 게재한다.

    〔실시예 52〕

    조제예 3에서 얻은 고형분 농도 80wt%의 중합성 조성물 3: 1.20g와 조제예 4-2에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 DS-Na-2 용액(화합물(III) 용액) 0.010g, 희석 용매로서 에탄올 0.85g, 증류수 0.096g을 혼합하고, 광중합 개시제로서 캄퍼퀴논(와코순약사제) 0.034g(합계 중량에 대하여 1.5wt%) 및 N,N-다이메틸-p-톨루이딘(와코순약사제) 0.034g(합계 중량에 대하여 1.5wt%)를 혼합하여, 고형분 농도 46wt%의 코팅 용액을 조제했다.

    상기 "기재의 전처리" 방법에 따라, 미리 전처리한 투명 아크릴판(닛토수지공업제, CLAREX-001)을 기재로서 사용하고, 이 코팅 용액을 바코터 ＃30에 의해, 이 기재 표면에 용액을 도포했다. 50∼60℃ 온풍 건조기에 5분간 넣고, 도포물 중에 포함되는 용제를 제거했다.

    용제가 충분히 제거된 샘플을 가시광 조사 장치 알파라이트V(MORITA제, LED 램프, 400∼408nm, 465∼475nm: 조도 60mW/cm 2 , 적산 광량 3600mJ/cm 2 , 우시오전기 UIT-250(405nm)으로 측정)의 장치 내에 넣고, 1분간 조사시킴으로써, 투명 아크릴판 위에 막두께 18㎛의 친수성의 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플의 외관 및 물접촉각을 평가했다. 결과를 표 10에 게재한다.

    〔실시예 53〕

    실시예 52의 중합 개시제를, 2-에틸안트라퀴논(야마모토카세이사제) 0.034g(합계 중량에 대하여 1.5wt%) 및 N,N-다이메틸-p-톨루이딘(와코순약사제) 0.034g(합계 중량에 대하여 1.5wt%)로 변경하는 이외는, 실시예 52와 동일한 조작을 실시했다. 조제한 고형분 농도 46wt%의 코팅 용액을, 실시예 52와 동일하게 투명 아크릴판 위에 도포 후, 용제의 제거, 가시광 조사를 실시하여, 투명 아크릴판 위에 막두께 18㎛의 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플의 외관 및 물접촉각을 평가했다. 결과를 표 10에 게재한다.

    [표 10]

    〔실시예 54〕

    조제예 3에서 얻어진 고형분 80wt% 중합성 조성물 3: 1.25g과 조제예 4-2에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 DS-Na-2 용액(화합물(III) 용액) 0.010g, 희석 용제로서 에탄올 1.14g과 증류수 0.15g의 혼합 용제, 광중합 개시제로서 다로큐어-1173(시바·스페셜티·케미칼즈사제) 0.030g(화합물(I)과 화합물(II)의 합계 중량에 대하여 3.0중량%)를 혼합하여, 고형분 농도 40wt%의 코팅 용액을 조제했다.

    이 용액을, 상기 "기재의 전처리" 방법에 따라, 미리 전처리한 투명 아크릴판(닛토수지공업제, CLAREX-001)에, 치과용의 붓을 이용하여 도포하고, 이어서, 50∼60℃ 온풍 건조기에 5분간 넣고, 도포물 중에 포함되는 용제를 제거했다. 건조 후의 아크릴판을, UV컨베이어(고압 수은 램프, 160W/cm, 높이 14cm, 컨베이어 속도 5m/분, 조도 400mW/cm 2 , 적산 광량 1200mJ/cm 2 , 우시오전기 UIT-250으로 측정) 내에 넣어 통과시키고, 아크릴판 위에 친수성의 단층막을 형성했다. 그 후, 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플의 외관, 물접촉각을 평가했다. 결과를 표 11에 게재한다.

    〔실시예 55∼57〕

    실시예 54에 있어서, 화합물(III) 용액의 종류, 및, 용매의 종류를, 표 11에 기재된 것으로 변경하는 이외는, 실시예 54와 동일한 조작을 실시하여, 각각, 표 11에 나타내는 고형분 농도를 가지는 코팅 용액을 얻었다. 각 실시예에 있어서, 조제한 코팅 용액을, 실시예 54와 동일하게 투명 아크릴판 위에 도포 후, 용제의 제거, UV조사를 실시하여, 각각, 투명 아크릴판 위에 친수성의 단층막을 형성했다. 그 후, 각 단층막 표면을 유수 세정, 건조한 후, 얻어진 샘플의 외관 및 물접촉각을 평가했다. 결과를 표 11에 게재한다.

    여기서, 표 11 중, 화합물(III) 용액의 항목에서 "DT-Na"이라는 것은, 화합물(III) 용액으로서, 조제예 4-3에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 DT-Na용액을 채용한 것을 의미한다.

    [표 11]

    ＜마우스피스의 제작＞

    (인상 및 교합의 채득)

    유치악(有齒顎) 환자의 윗턱 및 아래턱의 정밀 인상을 채득했다. 다음으로 죠지 게이지(George gauge)를 이용하여, 환자의 아래턱 최대 전방위(前方位)의70%의 위치에 있어서의 바이트를 채득했다. 채득된 정밀 인상에 근거하여, 상형과 하형으로 이루어지는 석고 모형을 제작했다.

    (마우스피스의 제작)

    상기 채득된 바이트에 의해 상기 석고 모형을 고정하고, 교합기에 마운트했다. 바이트를 떼어내고, 파라핀 왁스(FEED Bextmill사제)로, 석고 모형 위의 언더 컷(undercut)부를 블록아웃(block out)했다.

    다음으로 파라핀 왁스를 사용하여, 상형의 석고 모형 위에 가이드를 제작했다. 코골기 방지 장치로서 이용되고 있는 IST 어플라이언스의 픽싱파트(Scheu사제)를 제1 대구치(大臼齒) 및 제2 대구치 사이의 위치에 있어서, 가이드의 뺨측에 고정했다.

    다음으로 교정용 레진 재료 오소파렛트(마츠카제사제)로, 석고 모형 위에 후리카게법(적층법)에 의해 레진을 축성(築盛)했다. 여분의 레진을 제거한 후, 압력 포트(토호치과산업사제)에 넣고, 0.2MPa, 40∼50℃ 온수 중에서, 10분간 가압 중합 했다. 냉각 후, 압력 포트로부터 꺼내고, 석고 모형 상형으로부터 윗턱 마우스피스를 떼어내어, 치아와 접촉하는 면 이외의 형태 수정, 연마를 실시했다.

    석고 모형 하형에 있어서도, 동일하게 파라핀 왁스에 의해 가이드를 제작, 제작한 윗턱 마우스피스와 함께 다시 교합기에 마운트했다. IST 픽싱파트의 포지셔닝 서포트(Scheu사제)를 이용하고, 윗턱 마우스피스의 IST 픽싱파트보다 전방에, 아래턱 마우스피스의 IST 픽싱파트의 위치를 결정하여, 가이드의 뺨측에 고정했다. 윗턱 마우스피스와 교합하도록 아래턱의 레진 축성을 실시했다. 압력 포트로 윗턱과 동일 조건에서 가압 중합을 실시한 후, 형태 수정, 연마를 실시했다.

    ＜마우스피스의 전처리＞

    상기 "마우스피스의 제작"에서 얻어진 연마 후의 마우스피스를, IPA(아이소프로필알코올)에 5분간 침지 후, 꺼내서 에어 블로우를 실시했다. 이어서, 40℃의 송풍 건조기로 5분간 건조한 마우스피스를 코팅에 사용했다.

    〔실시예 58〕

    조제예 3에서 얻어진 고형분 80wt% 중합성 조성물 3: 300g과 조제예 4-2에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 DS-Na-2 용액(화합물(III) 용액) 2.4g(화합물(I)과 화합물(II)의 합계 중량에 대하여 0.1중량%), 희석 용제로서 에탄올 149.5g과 증류수 16.2g의 혼합 용제, 광중합 개시제로서 다로큐어-1173(시바·스페셜티·케미칼즈사제) 7.2g(화합물(I)과 화합물(II)의 합계 중량에 대하여 3.0중량%)를 혼합하여, 고형분 농도 52wt%의 코팅 용액을 조제했다.

    이 용액에, 상기 "마우스피스의 전처리" 방법에 따라, 미리 전처리한 마우스피스를 침지하고, 1mm/sec로 끌어올림으로써, 마우스피스 표면에 용액을 도포했다. 이어서, 50∼60℃ 온풍 건조기에 5분간 넣고, 도포물 중에 포함되는 용제를 제거했다. 건조 후의 마우스피스를, UV컨베이어(고압 수은 램프, 160W/cm, 높이 14cm, 컨베이어 속도 5m/분, 조도 400mW/cm 2 , 적산 광량 1200mJ/cm 2 , 우시오전기 UIT-250으로 측정) 내에 넣어 통과시키고, 뒤집어 재차 통과시키는 것으로 전면을 UV조사하여, 마우스피스 표면 위에 친수성의 단층막을 형성했다.

    〔실시예 59∼63〕

    실시예 58에 있어서, 화합물(III) 용액의 종류, 및 희석 용제에 있어서의 에탄올과 증류수와의 배합량을, 표 12의 실시예 59∼63에 나타내는 것으로 변경하는 이외는, 실시예 58과 동일한 조작을 실시하여, 각각, 표 12에 나타내는 고형분 농도를 가지는 코팅 용액을 얻었다. 각 실시예에 있어서, 조제한 코팅 용액을, 실시예 58과 동일하게 마우스피스 표면에 도포 후, 용제의 제거, UV조사를 실시하여, 각각, 마우스피스 표면 위에 단층막을 형성했다.

    또한, 표 12 중, 화합물(III) 용액의 항목에서 "DT-Na"이라는 것은, 화합물(III) 용액으로서, 조제예 4-3에서 얻어진 고형분 농도 10wt%의 DT-Na용액을 채용한 것을 의미한다.

    〔비교예 4〕

    상기 마우스피스에 관하여, 본 발명의 치과 재료용 조성물의 도포를 실시하는 일 없이, 그대로 하기의 평가에 제공했다.

    ＜내오염성의 평가 4＞

    실시예 58∼63에서 제작한 코팅이 끝난 마우스피스, 및 비교예 4의 코팅하지 않은 마우스피스를, 각각, 수세, 건조 후, 제브라(주)제의 유성 마커 "맛키 극세"(흑, 품번MO-120-MC-BK)로 구치부(臼齒部)의 교합면에 길이 약 3cm 마크하고, 3분간 경과 후에 유수 세정을 실시했다. 실시예 58∼63에서 제작한 코팅이 끝난 마우스피스는, 마크의 대부분이 흘러 떨어지고, 가볍게 문지르면 제거할 수 있었다.

    한편, 비교예 4에서 제작한 코팅하지 않은 마우스피스는, 문질러도 마크가 전혀 떨어지지 않았다.

    [표 12]


    산업상의 이용 가능성

    본 발명의 치과용 조성물로부터 얻어지는 경화물, 예를 들면 단층막은, 친수성이 높고 방오성을 가지기 때문에, 여러 가지의 치과 용도에 유용하다. 그 중에서도 치과용 코트재로서 유용하고, 특히 치과용 보철물의 표면 코팅에 유용하다.

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