1.一种制作光纤尖端的方法，该方法包含：
a)粗糙化光纤的尾端的至少一部份；以及
b)蚀刻已粗糙化的尾端以形成一光纤尖端。
2.如权利要求1的方法，其中上述光纤尖端的一表面具有许多小面。
3.如权利要求2的方法，其中上述小面被粗糙化成凹面。
4.如权利要求2或3的方法，其中上述每一小面用以在多个角度分散入射辐射。
5.如权利要求2至4其中任一方法，其中上述小面的大小在10微米至100微米的范围内。
6.如权利要求1至5其中任一方法，其中上述光纤尖端具有一蜂巢状表面结构。
7.如权利要求1至6其中任一方法，其中上述方法包含以磨蚀法粗糙化上述尾端。
8.如权利要求7的方法，其中上述方法包含以粒子束磨蚀上述尾端。
9.如权利要求8的方法，其中上述方法还包含：
a)转动上述尾端；以及
b)将上述转动的尾端暴露于粒子束中。
10.如权利要求8至9的方法，其中上述粒子束至少包含下列粒子其中之一：
a)氧化铝；
b)立方氮化硼；
c)碳化硅；
d)二氧化硅；
e)氧化锆；
f)二氧化锆；
g)碳化硅树脂；
h)金刚砂；以及
i)氧化镁。
11.如权利要求8至10其中任一方法，其中上述粒子所具有的平均尺寸至少包含下列其中之一尺寸：
a)在25微米至100微米之间；以及
b)接近50微米。
12.如权利要求7至10其中任一方法，其中上述粒子束藉由使用压缩气体而产生。
13.如权利要求11的方法，其中上述压缩气体包含至少一种下列气体：
a)空气；
b)氮气；
c)二氧化碳；以及
d)一不易然气体。
14.如权利要求12或13的方法，其中上述压缩气体具有大约2.8巴的压力。
15.如权利要求1至14其中任一方法，其中上述方法包含使用酸进行蚀刻上述光纤尾端。
16.如权利要求15的方法，其中上述酸包含下列至少一种酸：
a)氢氟酸；
b)氢氟酸与正磷酸的混合物；以及
c)氢氟酸、正磷酸以及氟化物化合物的混合物。
17.如权利要求15或16的方法，其中上述酸至少处于下列至少一种状态：
a)气相；以及
b)液相。
18.如权利要求15至17其中任一方法，其中上述方法包含对上述光纤尾端进行10到
15分钟的蚀刻。
19.如权利要求1至18其中任一方法，其中上述方法包含对上述光纤尾端进行塑型。
20.如权利要求19的方法，其中上述方法包含在磨蚀上述光纤尾端之前，先对上述光纤尾端进行塑型。
21.如权利要求19或20的方法，其中上述方法包含对上述光纤尾端进行塑型，以使上述光纤尾端的朝向上述光纤的一端逐渐变细。
22.如权利要求18至20其中任一方法，其中上述方法包含对上述光纤尾端进行塑型，而将其塑型成圆锥状。
23.如权利要求19至22其中任一方法，其中上述方法包含藉由预蚀刻上述光纤尾端而对其进行塑型。
24.如权利要求23的方法，其中上述方法包含使用一酸对上述光纤尾端进行预蚀刻。
25.如权利要求24的方法，其中上述方法包含对上述光纤尾端进行45至180分钟的预蚀刻。
26.如权利要求1至25其中任一方法，其中上述方法包含从上述光纤移除一聚合物涂布而暴露出上述光纤尾端。
27.如权利要求1至26其中任一方法，其中上述光纤至少为下列的一种光纤：
a)石英玻璃光纤；
b)掺氟石英玻璃光纤；以及
c)掺锗石英玻璃光纤。
28.一光纤，上述光纤包含一具有许多小面的表面结构的光纤尖端。
29.如权利要求28的光纤，其中上述小面是粗糙的并且为凹面。
30.如权利要求28或29的光纤，其中上述每一个小面可以在多个角度分散辐射与收集入射辐射。
31.如权利要求28至30其中任一光纤，其中上述小面的大小在10微米至100微米的范围内。
32.如权利要求28至31其中任一光纤，其中上述光纤尖端具有一蜂巢状表面结构。
33.如权利要求28至32其中任一光纤，其中上述光纤尖端大致上为圆锥形。
34.如权利要求28至33其中任一光纤，其中上述光纤尖端的朝向上述光纤的一端逐渐变细。
35.一作用于身体的一部份的装置，该装置包含：
a)一光学系统，用以产生或侦测辐射；以及
b)一光纤，该光纤在其第一端与上述光学系统连接，该光纤的第二端包含一尖端，该尖端的至少一部份具有圆锥形或是多面的表面结构，而使得经由该尖端发射或接收的辐射至少有一部份是在垂直光纤轴的方向上。
36.如权利要求35的装置，其中上述光纤尖端具有蜂巢状表面结构。
37.如权利要求35或36的装置，其中上述光纤尖端为圆锥形。
38.如权利要求35至37其中任一装置，其中上述光学系统包含一辐射源，用以产生由上述光纤尖端发射而出的辐射。
39.如权利要求35至38其中任一装置，其中上述光学系统包含一侦测器，用以侦测经由光纤尖端所接收的辐射。
40.如权利要求35至39其中任一装置，其中上述光学系统包含：
a)一第一辐射源，用以发射具第一波长的辐射；
b)一第二辐射源，用以发射具第二波长的辐射；以及
c)光学组件，用以将上述第一辐射源和上述第二辐射源与上述光纤的第一端光学连接。
41.如权利要求40的装置，其中上述光学组件包含一光学开关，用以选择上述哪一个辐射源与上述光纤连接。
42.如权利要求40或41的装置，其中上述第一辐射源至少为下列辐射源的其中一种：
a)一固态激光；
b)一气态激光；
c)二极管激光；以及
d)发光二极管。
43.如权利要求40至42其中任一装置，其中上述第一辐射源发射出第一波长介于650纳米与670纳米之间的激光辐射。
44.如权利要求40至43其中任一装置，其中上述第二辐射源至少为下列辐射源的其中一种：
a)一固态激光；
b)一气态激光；
c)高功率二极管激光；以及
d)发光二极管。
45.如权利要求40至44其中任一装置，其中上述第一辐射源与第二辐射源由一在低功率模式运作时可以发射第一辐射而在高功率模式运作时可以发射第二辐射的二极管激光所形成。
46.如权利要求40至45其中任一装置，其中上述第二辐射源发射第二波长介于480纳米与830纳米之间的激光辐射，以活化一光感物质。
47.如权利要求40至46其中任一装置，其中至少一上述辐射源是以一脉冲模式运作。
48.如权利要求47的装置，其中上述辐射源以脉冲模式运作以达到至少下列一种作用：
a)减少热积聚；
b)在上述光纤尖端放置的液体中产生空穴作用；
c)在上述光纤尖端放置的液体中产生震波；
d)造成牙齿硬组织的脱落；
e)产生光声效应；
f)改良信号噪声比；
g)减少热由上述装置消散；以及
h)减少功率消耗。
49.如权利要求40至48其中任一装置，其中上述装置包含一连接上述光学组件的处理单元，用以达成下列作用：
a)接收光激发荧光辐射；以及
b)使用接收到辐射测量在一腔室中的细菌数量。
50.如权利要求40至49其中任一装置，其中上述装置包含一处理单元，用以控制上述第一辐射源与第二辐射源中的至少一个辐射源，以及一光学开关。
51.如权利要求40至50其中任一装置，其中上述装置用以进行至少一种下列功能：
a)使用光激发荧光测量一腔室内的细菌数量；以及
b)使用光热疗法、光声疗法、与光动力疗法等疗法的其中至少一种疗法消灭一腔室内的细菌；
c)将至少一腔室与一肿瘤暴露于辐射中；
d)用以侦测荧光；以及
e)辨识与治疗牙齿腔室内的细菌。
52.如权利要求51的装置，其中上述腔室包含牙根管。
53.一作用于身体的一部位的方法，该方法包含：
a)放置一光纤尖端接近上述物体的至少一部位，其中，上述光纤尖端具有多面的表面结构，而使得由上述光纤尖端发射的辐射或藉由上述光纤尖端接收的辐射至少有一部份在垂直一光纤轴的方向上；以及
b)使用一连接上述光纤的光学系统来产生辐射或侦测辐射。
54.一用以辨识与治疗牙齿腔室内细菌的装置，其中该装置包含：
a)一第一辐射源，用发射具第一波长的辐射；
b)一第二辐射源，用发射具第二波长的辐射；以及
c)光学组件，其将上述第一辐射源与第二辐射源以光学连接至上述腔室，而用以：
i)使用光激发荧光测量上述腔室内的细菌数量；以及
ii)使用光热疗法、光声疗法、与光动力疗法等疗法的其中至少一种疗法消灭具有大量细菌存在的腔室中的细菌。
55.一辨识与治疗牙齿腔室内细菌的方法，该方法包含：
a)使用光激发荧光测量上述腔室内的细菌数量；
b)使用光热疗法、光声疗法、与光动力疗法等疗法的其中至少一种疗法消灭具有大量细菌存在的腔室中的细菌；
c)使用光激发荧光重新测量上述腔室内的细菌数量以提供上述治疗的效能的回应。
56.一改良一物体表面结构而因此改良其光学特性的方法，该方法包含：
a)粗糙化上述物体的一表面；以及
b)蚀刻已粗糙化的表面，使得上述物体具有一许多小面的表面结构。
57.如权利要求56的方法，其中上述小面是粗糙的。
58.如权利要求57的方法，其中上述每一个小面是用以在多个角度上分散入射辐射。
59.如权利要求56至58其中任一方法，其中上述光纤尖端具有蜂巢表面结构。
60.如权利要求56至59其中任一方法，其中上述方法包含藉由磨蚀而粗糙化上述表面。
61.如权利要求60的方法，其中上述方法包含使用粒子束粗糙化上述表面。
62.如权利要求61的方法，其中上述粒子束包含至少一种下列粒子：
a)氧化铝；
b)立方氮化硼；
c)碳化硅；
d)二氧化硅；
e)氧化锆；
f)二氧化锆；
g)碳化硅树脂；
h)金刚砂；以及
i)氧化镁。
63.如权利要求61至62其中任一方法，其中上述粒子所具有的平均尺寸至少包含下列其中之一尺寸：
a)在25微米至100微米之间；以及
b)大约50微米。
64.如权利要求61至63其中任一方法，其中上述方法包含使用压缩气体以产生上述粒子束。
65.如权利要求64的方法，其中上述压缩气体包含至少一种下列气体：
a)空气；
b)氮气；
c)二氧化碳；以及
d)一不易然气体。
66.如权利要求64或65的方法，其中上述压缩气体具有大约2.8巴的压力。
67.如权利要求64至66其中任一方法，其中上述方法包含使用酸蚀刻上述表面。
68.如权利要求67的方法，其中上述酸包含下列至少一种酸：
a)氢氟酸；
b)氢氟酸与正磷酸的混合物；以及
c)氢氟酸、正磷酸以及氟化物化合物的混合物。
69.如权利要求67或68的方法，其中上述酸至少处于下列至少一种状态：
a)气相；以及
b)液相。
70.如权利要求67至69其中任一方法，其中上述方法包含对上述光纤尾端进行10到
15分钟的蚀刻。