[0001] 本发明涉及口腔用医疗器械技术领域，尤其涉及一种矫正器。

[0002] 安氏III类错颌畸形的特征为：上下颌骨及牙弓的近远中关系不调，下颌或下牙弓处于近中位置，磨牙关系为近中关系；安氏III类错颌畸形为青少年常见的一种错颌畸形，现医学上通用的治疗手段为配戴FRANKELLⅢ矫正器，使上下牙弓的咬合关系逐渐趋于正常，而对于目前的FR3矫正器来说，其结构固定，即能提供的矫正力有限，所以主要针对乳牙期的矫正治疗，对于替牙期的矫正效果普遍偏差。

[0003] 本发明所要解决的技术问题是提供一种可根据矫正情况随时调节矫正力的用于治疗安氏Ⅲ类错颌畸形的可调节式FRANKELLⅢ矫正器。

[0004] 为解决上述技术问题，本发明的技术方案是：用于治疗安氏Ⅲ类错颌畸形的可调节式FRANKELLⅢ矫正器，包括与上颌前牙上方的前庭沟对应的两上唇挡，两上唇挡之间通过唇挡连接丝相连，两所述上唇挡分别通过挡屏连接丝连接有颊屏，两所述颊屏之间设有与下前牙唇面对应的下唇弓，两所述颊屏之间设有与上切牙舌隆突的合方对应的前腭弓，两所述颊屏之间设有与最后一颗磨牙远中对应的横腭弓，两所述颊屏上位于所述横腭弓处均设有上合支托和下合支托，所述横腭弓上设有螺旋扩弓器。

[0005] 作为优选的技术方案，所述螺旋扩弓器包括位于所述横腭弓上并相对设置的基托，两所述基托之间螺纹连接有螺杆，两所述基托之间位于所述螺杆两侧设有滑杆，所述螺杆上位于两所述基托之间设有螺杆调节孔，所述螺杆上位于所述螺杆调节孔两侧的螺纹螺旋方向相反。

[0006] 由于采用了上述技术方案，用于治疗安氏Ⅲ类错颌畸形的可调节式FRANKELLⅢ矫正器，包括与上颌前牙上方的前庭沟对应的两上唇挡，两上唇挡之间通过唇挡连接丝相连，两所述上唇挡分别通过挡屏连接丝连接有颊屏，两所述颊屏之间设有与下前牙唇面对应的下唇弓，两所述颊屏之间设有与上切牙舌隆突的合方对应的前腭弓，两所述颊屏之间设有与最后一颗磨牙远中对应的横腭弓，两所述颊屏上位于所述横腭弓处均设有上合支托和下合支托，所述横腭弓上设有螺旋扩弓器；本发明可以针对矫正情况随时旋转调节螺旋扩弓器，变被动矫正力为主动矫正力，从而获得矫正临床所需的矫正效果，对于替牙期这种骨骼发育的高峰期来说，本发明尤为适用。附图说明

[0007] 以下附图仅旨在于对本发明做示意性说明和解释，并不限定本发明的范围。其中：

[0008] 图1是本发明实施例的立体结构示意图；

[0009] 图2是本发明实施例螺旋扩弓器的立体结构示意图。

[0010] 图中：1-上唇挡；2-唇挡连接丝；3-颊屏；4-挡屏连接丝；5-下唇弓；6-前腭弓；7-横腭弓；8-上合支托；9-下合支托；10-螺旋扩弓器；101-基托；102-螺杆；103-滑杆。

[0011] 下面结合附图和实施例，进一步阐述本发明。在下面的详细描述中，只通过说明的方式描述了本发明的示范性实施例。毋庸置疑，本领域的普通技术人员可以认识到，在不偏离本发明的精神和范围的情况下，可以用各种不同的方式对所描述的实施例进行修正。因此，附图和描述在本质上是说明性的，而不是用于限制权利要求的保护范围。

[0012] 如图1和图2共同所示，用于治疗安氏Ⅲ类错颌畸形的可调节式FRANKELLⅢ矫正器，包括与上颌前牙上方的前庭沟对应的两上唇挡1，两所述上唇挡1的外形根据实际情况确定，两上唇挡1之间通过唇挡连接丝2相连，两所述上唇挡1分别通过挡屏连接丝4连接有颊屏3，两所述颊屏3均从上颌前庭沟延伸至下颌前庭沟底，远中盖过最后一颗磨牙，近中达尖牙的远中；两所述颊屏3之间设有与下前牙唇面对应的下唇弓5，两所述颊屏3之间设有与上切牙舌隆突的合方对应的前腭弓6，前腭弓6由所述颊屏3引出，从上尖牙与第一前磨牙间的合间隙通过合面，在前腭部形成弓形，弓的前部紧贴上切牙舌隆突的合方；两所述颊屏3之间设有与最后一颗磨牙远中对应的横腭弓7，两所述颊屏3上位于所述横腭弓7处均设有上合支托8和下合支托9，以上结构均为本领域技术人员所熟知的，在此不再赘述。

[0013] 所述横腭弓7上设有扩弓器10，所述螺旋扩弓器10包括位于所述横腭弓7上并相对设置的基托101，两所述基托101之间螺纹连接有螺杆102，两所述基托101之间位于所述螺杆102两侧设有滑杆103，所述螺杆102上位于两所述基托101之间设有螺杆调节孔，所述螺杆102上位于所述螺杆调节孔两侧的螺纹螺旋方向相反；本实施例可以针对矫正情况随时旋转调节螺旋扩弓器10，变被动矫正力为主动矫正力，从而获得矫正临床所需的矫正效果，对于替牙期这种骨骼发育的高峰期来说，本实施例尤为适用。

[0014] 以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征及本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。