Vane pump

本発明は、ベーンポンプに関する。

従来、ベーンポンプとして、ポンプ室が形成されるケーシングと、当該ケーシング内で回転するロータと、当該ロータに回転軸の径方向に出入可能に設けられ、ケーシング内のポンプ室を複数に区画する複数のベーンと、を備えるものが知られている（例えば特許文献１参照）。

この特許文献１では、ロータは、一端がケーシング外に突出したシャフトに回転可能に軸支されており、当該シャフトに連結されたモータによってロータを回転させることで、ベーンによって区画される複数のポンプ室の容積を周期的に増減させて各ポンプ室に吸入した流体を吐出するようにしている。

特開昭５３−２７０４号公報

しかしながら、かかる従来の技術では、ケーシング外に突出したシャフトに連結したモータを駆動源としてロータを回転させているため、回転軸方向の厚さを薄くすることができず、ベーンポンプの回転軸方向の小型化が図り難かった。

そこで、本発明は、回転軸方向の小型化を図ることのできるベーンポンプを得ることを目的とする。

請求項１の発明にあっては、ケーシング内で回転する回転部の基体部に、当該回転部の回転軸の径方向外側に開口する複数のスリットを形成し、各スリットにベーンを突没可能に収容し、ケーシング内で前記基体部の周囲に形成された環状室を前記複数のベーンで区画して複数のポンプ室を形成し、前記回転部をモータを駆動源として回転させることで前記ポンプ室の容積を周期的に増減させて当該ポンプ室に吸入した流体を吐出するベーンポンプにおいて、前記モータが、前記回転部に設けられるとともに、周方向に沿って複数の磁極に着磁された着磁部が形成されたロータと、前記回転軸方向に延在するとともに周方向に沿って複数配置された爪磁極が前記ロータの着磁部の周面と対向するように配置されるステータと、を有するクローポール型モータであることを特徴とする。

請求項２の発明にあっては、請求項１に記載のベーンポンプにおいて、前記ステータが前記ケーシングを挟んで外側に配置されるとともに前記回転部のロータが内側に配置されており、前記ベーンとして磁性を有するベーンを用いるとともに、前記ステータの爪磁極を、前記ベーンの突出方向先端に対向するように延在させたことを特徴とする。

請求項１の発明によれば、回転部に設けられたロータにステータを対向配置したクローポール型モータを駆動源として回転部を回転させるようにしたため、ベーンポンプの回転軸方向の厚さを薄くすることができ、ベーンポンプの回転軸方向の小型化を図ることができる。

請求項２の発明によれば、ステータの爪磁極を、ベーンの突出方向先端に対向するように延在させることで、ステータの爪磁極による磁力によって磁性を有するベーンが径方向外側に吸引されるため、環状室の摺接面にベーンをより一層密着させることができ、ポンプ効率を向上させることができる。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。 なお、以下の各実施形態には、同様の構成要素が含まれている。 よって、以下では、それら同様の構成要素については、重複する説明を省略し、共通の符号を付与することとする。

（第１実施形態）図１は、本実施形態にかかるベーンポンプの回転軸と直交する断面での断面図、図２は、ベーンポンプの回転軸を含む断面での断面図、図３は、ベーンポンプの分解斜視図、図４は、ステータの斜視図である。 なお、以下では、便宜上、図２および図３の上側を回転軸Ａｘの軸方向一方側、下側を軸方向他方側とする。

まずは、図１を参照して、ベーンポンプ１の作動流体の吸入および吐出に関わる構成について説明する。

本実施形態にかかるベーンポンプ１では、図１に示すように、ケーシング２内で、円環状のリング３の略円筒状の内周面３ａと回転軸Ａｘを中心に回転する回転部４の略円柱状の基体部５の外周面５ａとの間に、作動流体（液体）を収容する環状室６が形成されている。 環状室６の幅ｗは、回転軸Ａｘの周方向に沿って変化している。 本実施形態では、内周面３ａの中心Ｃと回転軸Ａｘとを平行にずらして、リング３の内周面３ａと回転部４の基体部５とを偏心させてある。 このため、環状室６の幅ｗは、図１の右端の位置で最小となり、当該右端の位置から時計回り方向に徐々に拡がって左端の位置で最大となり、当該左端の位置から右端の位置に向けて時計回り方向に徐々に狭まって最小となっている。

基体部５には、回転部４の回転軸Ａｘに対して放射状に伸びて径外方向に開口する複数（本実施形態では４つ）のスリット７が形成されており、各スリット７には略角棒状または略帯板状のベーン８が突没可能に収容されている。 ベーン８は、回転部４の回転に伴って生じる遠心力とスリット７内の回転軸Ａｘ側に導入される作動流体の与圧によって、スリット７内で径外方向に付勢されている。 このため、ベーン８は内周面３ａと摺接しながら回転部４とともに回転することになる。

環状室６は、周方向に一定のピッチで配置された複数のベーン８によって、同数（本実施形態では４つ）のポンプ室９に区画されている。 回転部４およびベーン８の回転に伴い、ポンプ室９の容積は、環状室６の幅ｗの変化に従って変化することになる。 すなわち、各ポンプ室９の容積は、図１の右端の位置で最小となっている。 そして、回転部４の回転方向ＲＤ（図１の時計回り方向）への回転に伴って漸増し、左端の位置で最大となる。 その位置からさらに回転部４が時計回り方向に回転すると、ポンプ室９の容積は漸減し、右端の位置で最小となる。 つまり、本実施形態では、回転部４の１周回のうち図１の下半分の区間でポンプ室９の容積が拡大し、上半分の区間でポンプ室９の容積が縮小する。 このため、リング３の内周面３ａおよびケーシング２（第１のケーシング１０）に、ポンプ室９の容積が拡大する区間に臨ませて吸入開口１１を設けるとともに、ポンプ室９の容積が縮小する区間に臨ませて吐出開口１２を設けてある。 吸入開口１１は、第１のケーシング１０の側面上に突設された吸入パイプ１３内の吸入通路１４と連通し、吐出開口１２は、吸入パイプ１３と平行に突設された吐出パイプ１５内の吐出通路１６と連通している。

したがって、図１において、回転部４が回転方向ＲＤに回転すると、隣接する２枚のベーン８によって区画されるポンプ室９は、右端の位置から容積を拡大させながら左端の位置まで移動する。 このため、吸入通路１４から吸入開口１１を介してポンプ室９内に作動流体が流入する。 そして、ポンプ室９は、左端の位置から容積を縮小しながら右端の位置まで移動する。 このため、当該ポンプ室９から吐出開口１２を介して吐出通路１６に作動流体が流出する。 複数のポンプ室９についてこのような作動流体の流入および流出が順次行われ、以て、ベーンポンプ１による連続的な作動流体の吸入および吐出が実現されている。

次に、図１〜図４を参照して、本実施形態にかかるベーンポンプ１の各部の構成を詳細に説明する。

図２に示すように、回転部４の基体部５に形成されたスリット７は、軸方向他方側で、底壁部１７によって塞がれており、ベーン８は、この底壁部１７と摺接しながらスリット７内を往復動するようになっている。 すなわち、本実施形態では、この底壁部１７がガイド壁部に相当するものである。 なお、底壁部１７には、スリット７の径内側に連通する連通孔１７ａが形成されており、この連通孔１７ａを介してスリット７内に、底壁部１７の裏側（軸方向他方側）から作動流体の与圧が導入されるようになっている。 この与圧は、吐出圧と吸入圧の中間の圧力となっている。

底壁部１７は、回転軸Ａｘを中心とし当該回転軸Ａｘと直交する円板状に形成されており、基体部５の外周面５ａより外側までフランジ状に張り出している。 そして、この底壁部１７の外周縁に、略円筒状のスカート部１８が突設されている。 スカート部１８は、回転軸Ａｘと同心となっており、基体部５から離間する側（軸方向他方側）に向けて略一定の厚みで突出している。

このスカート部１８は、クローポール型モータ４０を駆動源として回転部４を回転させる際に、回転子（ロータ）として機能するものであり、コイル４３の巻回されたステータコア４２の爪磁極４５に対応して周方向に沿ってＮ極Ｓ極が交互に着磁された着磁部１８ａを含んでいる。 スカート部１８のうち少なくとも着磁部１８ａとして機能する部分は、磁性材料によって構成される。 この場合、スカート部１８のうち爪磁極４５に対向する部分のみを磁性材料（例えばフェライト磁石やサマリウムコバルト磁石等の硬磁性材料）によって構成してもよいし、スカート部１８全体を磁性材料によって構成しても良いし、回転部４全体を磁性材料によって構成してもよい。 この場合、樹脂材料に磁性材料からなる粉状や粒状の磁性フィラーを混合して、回転部４やスカート部１８を成形することも可能である。

また、図１，図３に示すように、基体部５の外周面５ａは一定のピッチで径内方向に凹設され、これにより羽根部５ｂが形成されている。 この羽根部５ｂは、基体部５（回転部４）とともに回転し、吸入開口１１と対峙するときにはポンプ室９への作動流体の吸入性能を高めるとともに、吐出開口１２と対峙するときにはポンプ室９からの作動流体の排出性能を高めている。

また、図２に示すように、基体部５（回転部４）の中央部には、シャフト２１を回転自在に支持する軸受部２２が固定されている。 この軸受部２２は、メタルブッシュ等の滑り軸受としてもよいし、ニードルベアリング等の転がり軸受としてもよい。

そして、回転部４は、ケーシング２によって形成される内部空間２ａ（図２参照）内で回転軸Ａｘ回りに回転するように構成されている。 本実施形態では、ケーシング２は、軸方向一方側（図２および図３の上側）に位置する第１のケーシング１０と、軸方向他方側（図２および図３の下側）に位置する第２のケーシング２３と、環状室６の外周面（リング３の内周面３ａ）を形成するリング３と、を備えている。

リング３は、図３にも示すように、環状室６の外周面を形成する筒状部３ｂと、筒状部３ｂの軸方向他方側から回転軸Ａｘの径外方向に張り出すフランジ部３ｃとを備え、さらに、吸入通路１４および吐出通路１６の側壁の一部を成すリブ３ｄを備えている。 円板環状のフランジ部３ｃから回転軸Ａｘの軸方向に筒状部３ｂとリブ３ｄとが略同じ高さで立設された形状となっている。

このリング３は、図２に示すように、第１のケーシング１０に形成された凹部１０ｂ内に収容される。 すなわち、この凹部１０ｂは、リング３の筒状部３ｂとリブ３ｄを嵌合する形状に凹設されている。 また、リング３のフランジ部３ｃの外周部３ｅは、凹部１０ｂの反対側で第２のケーシング２３の環状壁部２３ａと接触しており、この部分が第１のケーシング１０と第２のケーシング２３とによって挟持されることで、リング３が回転軸Ａｘの軸方向に固定されている。

第２のケーシング２３には、回転部４のスカート部１８を収容する略円環状の凹部２３ｂと、回転部４の軸受部２２のうち第２のケーシング２３側（軸方向他方側、図２および図３の下側）に突出する部分を収容する凹部２３ｃとが形成されている。

凹部２３ｂの外周にある環状壁部２３ａより径外側の領域は、第１のケーシング１０との当接面となる。 この当接面には、Ｏリング３４用の溝部２３ｄを略円環状に形成し、この溝部２３ｄ内に装着したＯリング３４によって、第１のケーシング１０と第２のケーシング２３との境界部分でのシールを確保してある。 なお、この境界部分以外の部材同士の境界部分（例えばリング３のフランジ部３ｃと第１のケーシング１０との間の境界面等）にも適宜にシール部材（例えばガスケットやＯリング等）を介在させ、各境界部分のシール性能を向上させるようにしてもよい。

凹部２３ｃの底壁部２３ｅと、第１のケーシング１０の突起部１０ｃとの間にはシャフト２１が架設され、このシャフト２１の中心が回転軸Ａｘとなっている。 シャフト２１は、回転部４の中心に設けた軸受部２２を貫通し、当該軸受部２２に回転自在に支持されている。

また、図２に示すように、凹部２３ｂと凹部２３ｃとの間には、回転部４の反対側（軸方向他方側、図２の下側）から回転部４側に向けて突設された環状の突起部２３ｆが形成されており、この突起部２３ｆの裏側となる環状の凹部２３ｊ内にクローポール型モータ４０をなすステータ４１が収容されている。

すなわち、本実施形態では、ベーンポンプ１は、回転部４を回転駆動させる着磁部１８ａを有したスカート部（ロータ）１８と、スカート部１８に回転駆動力を伝達するステータ４１と、ステータ４１で発生させた磁界を制御する制御基板としての基板２４と、を備えたクローポール型モータ４０を駆動源としている。

そして、本実施形態にかかるクローポール型モータ４０は、第２のケーシング２３の隔壁部２３ｇを間に挟んで内側（回転軸Ａｘ側）にステータ４１を配置しかつステータ４１の外側にスカート部（ロータ）１８を配置した、いわゆるアウタロータ型構造をしている。

ステータ４１は、スカート部１８の内周側に対向して配置された略環状のステータコア４２と、当該ステータコア４２の中空部内に図示せぬ絶縁部材を介して配置される環状のコイル４３と、を備えている。

さらに、ステータコア４２は、第１コア４２ｂと第２コア４２ａとから構成されている。 なお、ステータコア４２を構成する第１コア４２ｂおよび第２コア４２ａは圧粉鉄心で構成されている。

これら第１コア４２ｂおよび第２コア４２ａは、コイル４３をステータ４１の軸方向から挟み込む一対の底壁部４４ｂ、４４ａと、この底壁部４４ｂ、４４ａの外縁からそれぞれ屈曲して軸方向に延在する爪磁極４５ｂ、４５ａと、底壁部４４ｂ、４４ａの内方から突出形成される内壁部と、で構成されている。 そして、爪磁極４５ｂ、４５ａが、隔壁部２３ｇを介してスカート部（ロータ）１８の着磁部１８ａの内周面（周面）１８ｄに対向配置されている。

本実施形態では、第１コア４２ｂおよび第２コア４２ａを、周方向にかけてそれぞれの爪磁極４５ｂ、４５ａが互いに重ならないようにオフセットさせ、内壁部どうしを当接させることで、内壁部と爪磁極４５ｂ、４５ａの間に生じる中空部にコイル４３を収容している。 この時、爪磁極４５ｂ、４５ａは、周方向に沿って等間隔で複数（本実施形態では、８つ）設けられる。 そして、第１コア４２ｂを構成する爪磁極４５ｂと第２コア４２ａを構成する爪磁極４５ａとを交互に逆方向に延在させることで、スカート部（ロータ）１８の着磁部１８ａに対向するＳ極とＮ極を構成している。

そして、このようなクローポール型のステータ４１を用い、コイル４３に通電することで発生した磁束を、爪磁極４５ｂ，４５ａからスカート部１８へと効率良く伝達させることで回転部４を回転させている。 よって、第２のケーシング２３のうち、少なくとも、ステータコア４２の外周部とスカート部１８との間に介在する隔壁部２３ｇは、透磁性を有するものとする必要がある。 このため、隔壁部２３ｇあるいは第２のケーシング２３の全体が、透磁性を有する材料（例えばステンレススチールや、樹脂材料等）で形成されている。

基板２４は、凹部２３ｃを回転部４の反対側（軸方向他方側）から塞ぐようにして取り付けられており、基板２４のステータコア４２を設けた表面２４ａに対して反対側（軸方向他方側、図２の下側）となる裏面２４ｂには、各種電子部品（図示せず）が実装されており、クローポール型モータ４０の駆動回路やその他の回路が形成されている。

さらに、基板２４を、基板カバー２５によって、回転部４の反対側（軸方向他方側）から覆っている。 なお、基板カバー２５には、基板２４との間に電子部品を配置する間隔を確保するため、突条２５ａを設けている。

第１のケーシング１０および第２のケーシング２３は、いずれも回転軸Ａｘに沿う軸方向視で略正方形状の外形状を呈している。 そして、これらケーシング１０，２３の四隅に、これらを締結するねじ２６の貫通孔１０ａ，２３ｋを形成してある。 これら貫通孔１０ａ，２３ｋおよび基板カバー２５の四隅に形成された貫通孔２５ｂにねじ２６を挿通して、ナット２７を螺結することで、ベーンポンプ１が組み立てられる。

なお、ベーンポンプ１をなす上記各構成部品の材料や製造方法は、上述した着磁性や透磁性の他、耐摩耗性、耐食性、耐膨潤性、成形性、部品精度等を考慮して適宜に選択される。

ここで、本実施形態では、回転部４に、その回転に伴って上記回転軸Ａｘの軸方向一方側（図２，図３において上側）への流体力を発生させる流体力発生部２８を設け、回転部４を、底壁部１７を設けた側と反対側に位置する第１のケーシング１０に押し付けるようにしている。

本実施形態では、流体力発生部２８として、スカート部１８の軸方向他方側の端面１８ｂに、回転部４の回転方向ＲＤに対して傾斜する傾斜面２８Ａを設けてある。 傾斜面２８Ａは、回転方向ＲＤの手前側から先方側にかけて軸方向他方側から一方側に向けて傾斜して設定してある。 このため、回転部４の回転に伴ってこの傾斜面２８Ａに当たった作動流体は、回転部４に流体力を作用させ、軸方向一方側に押し上げることになる。

そして、かかる軸方向一方側に向けて作用する流体力（推力）を受けながら回転する回転部４を摺動可能に支持するため、第１のケーシング１０には、スラスト支持部を設けてある。 具体的には、第１のケーシング１０においてシャフト２１を嵌挿して支持する部分を軸方向他方側へ突出させて突起部１０ｃを形成し、この突起部１０ｃの頂面に、ワッシャ３０を介して、回転部４（基体部５）の中央部に形成した凹部の底面を突き当てている。

なお、図２に示すように、底壁部１７の軸方向一方側の端面１７ｂとリング３の軸方向他方側の端面３ｆとの間の隙間３１は狭く設定し、これら端面１７ｂ，３ｆ間の隙間からのリーク流量を可及的に減らしてある。 また、軸受部２２の軸方向他方側にもワッシャ３０を介在させてある。

このように、本実施形態では、流体力発生部２８によって回転部４を回転軸Ａｘの軸方向一方側に押し上げるようにしている。

また、本実施形態では、図２に示すように、スカート部１８と第２のケーシング２３との間に、略筒状の隙間（環状隙間）３２，３３を設けてある。 隙間３２は、スカート部１８の外周面１８ｃと第２のケーシング２３の環状壁部２３ａの内周面２３ｈとの間の隙間であり、隙間３３は、隔壁部２３ｇの外周面２３ｉとスカート部１８の内周面１８ｄとの間の隙間である。 このようにスカート部１８を設けて、第２のケーシングとの間に筒状の隙間３２，３３を回転軸Ａｘの軸方向に所定区間に亘って形成し、クリアランスの大きさを適宜に設定する（比較的微少な隙間とする）ことで、吐出行程にあるポンプ室９（図１で上側にあるポンプ室９）から吸入行程にあるポンプ室９（図１で下側にあるポンプ室９）へ、基体部５の軸方向他方側を経由してリークする作動流体の通流抵抗を大きくしリーク流量を低減することができる。

また、これら隙間（微小隙間）３２，３３は回転軸Ａｘと同心であるため、回転部４が軸方向一方側に移動した場合においても、回転部４の軸方向他方側の部分と第２のケーシング２３との間における作動流体のリーク流量を低減することができる。

そして、このスカート部１８は、クローポール型モータ４０を構成する回転子（ロータ）として機能する部分である。 すなわち、回転子として機能させるスカート部１８ならびにその周囲の構造を有効に利用することで、当該スカート部１８の径外側および径内側の筒状の隙間（微小隙間）３２，３３によってリーク流量を効率良く減らしている。

以上の本実施形態によれば、回転部４に設けられたスカート部１８の着磁部１８ａにステータ４１の爪磁極４５を対向配置したクローポール型モータ４０を駆動源として回転部４を回転させるようにしたため、ベーンポンプ１の回転軸Ａｘ方向の厚さを薄くすることができ、ベーンポンプ１の回転軸方向の小型化を図ることができる。

また、クローポール型モータは、構造が単純であることから生産性が良く、しかも製造コストを低く抑えることができるという利点を有しており、このようなクローポール型モータを用いることでベーンポンプの製造コストの削減を図ることが可能となる。

（第２実施形態）図５は、本実施形態にかかるベーンポンプの回転軸を含む断面での断面図、図６は、ステータの斜視図である。

本実施形態にかかるベーンポンプ１Ａでは、ケーシング２内で、第２のケーシング２３の略円筒状の環状壁部２３ａの内周面２３ｍと回転軸Ａｘを中心に回転する回転部４の略円柱状の基体部５の外周面との間に、作動流体（液体）を収容する環状室６が形成されている。 環状室６の幅は、上記第１実施形態と同様に回転軸Ａｘの周方向に沿って変化しており、内周面２３ｍの中心Ｃと回転軸Ａｘとを平行にずらすことで、内周面２３ｍと回転部４の基体部５とを偏心させている。

基体部５には、回転部４の回転軸Ａｘに対して放射状に伸びて径外方向に開口する複数のスリット７が形成されており、各スリット７には略角棒状または略帯板状のベーン８が突没可能に収容されている。 ベーン８は、回転部４の回転に伴って生じる遠心力によって、スリット７内で径外方向に付勢されている。 このため、ベーン８は内周面２３ｍと摺接しながら回転部４とともに回転することになる。

そして、回転部４をクローポール型モータ５０を駆動源として回転させることでポンプ室の容積を周期的に増減させて当該ポンプ室に吸入した流体を吐出するようにしている。

次に、本実施形態にかかるベーンポンプ１Ａの各部の構成を詳細に説明する。

回転部４の基体部５に形成されたスリット７は、軸方向他方側で、底壁部１７によって塞がれており、ベーン８は、この底壁部１７と摺接しながらスリット７内を往復動するようになっている。 なお、上記第１実施形態のように底壁部１７にスリット７の径内側に連通する連通孔を形成してもよい。

そして、基体部５の外周縁には、スカート部１８が突設されており、このスカート部１８は、コイル５３の巻回されたステータコア５２の爪磁極５５に対応して周方向に沿ってＮ極Ｓ極が交互に着磁された着磁部１８ａを含んでいる。

また、基体部５（回転部４）の中央部には、シャフト２１を回転自在に支持する軸受部２２が固定されている。

そして、回転部４は、ケーシング２によって形成される内部空間内で回転軸Ａｘ回りに回転するように構成されている。 本実施形態では、ケーシング２は、軸方向一方側（図５の上側）に位置する第１のケーシング１０と、軸方向他方側（図５の下側）に位置する第２のケーシング２３と、を備えている。

第２のケーシング２３には、回転部４のスカート部１８を収容する略円環状の凹部２３ｂと、回転部４の軸受部２２のうち第２のケーシング２３側（軸方向他方側、図５の下側）に突出する部分を収容する凹部２３ｃとが形成されている。

なお、凹部２３ｂの外周にある環状壁部２３ａより径外側の領域は、第１のケーシング１０との当接面となっている。 そして、Ｏリング３４によって、第１のケーシング１０と第２のケーシング２３との境界部分でのシールが確保されている。

凹部２３ｃの底壁部２３ｅと、第１のケーシング１０の突起部１０ｃとの間にはシャフト２１が架設され、このシャフト２１の中心が回転軸Ａｘとなっている。 シャフト２１は、回転部４の中心に設けた軸受部２２を貫通し、当該軸受部２２に回転自在に支持されている。

また、図５に示すように、環状壁部２３ａの裏側には、回転部４の反対側（軸方向他方側、図５の下側）から回転部４側に向けて凹む環状の凹部２３ｎが設けられており、当該凹部２３ｎ内にクローポール型モータ５０をなすステータ５１が収容されている。

ここで、本実施形態にかかるクローポール型モータ５０は、第２のケーシング２３の隔壁部２３ｇを間に挟んで内側（回転軸Ａｘ側）にスカート部（ロータ）１８を配置しかつスカート部（ロータ）１８の外側にステータ５１を配置した、いわゆるインナーロータ型構造をしている。

ステータ５１は、スカート部１８の外周側に対向して配置された略環状のステータコア５２と、当該ステータコア５２の中空部内に図示せぬ絶縁部材を介して配置される環状のコイル５３と、を備えている。

さらに、ステータコア５２は、第１コア５２ｂと第２コア５２ａとから構成されている。 なお、ステータコア５２を構成する第１コア５２ｂおよび第２コア５２ａは圧粉鉄心で構成されている。

これら第１コア５２ｂおよび第２コア５２ａは、コイル５３をステータ５１の軸方向から挟み込む一対の底壁部５４ｂ、５４ａと、この底壁部５４ｂ、５４ａの内縁からそれぞれ屈曲して軸方向に延在する爪磁極５５ｂ、５５ａと、底壁部５４ｂ、５４ａの外方から突出形成される外壁部５７ｂ，５７ａと、で構成されている。 そして、爪磁極５５ｂ、５５ａが、隔壁部２３ｇを介してスカート部（ロータ）１８の着磁部１８ａの外周面（周面）１８ｃに対向配置されている。

本実施形態では、第１コア５２ｂおよび第２コア５２ａを、周方向にかけてそれぞれの爪磁極５５ｂ、５５ａが互いに重ならないようにオフセットさせ、外壁部５７ｂ，５７ａどうしを当接させることで、外壁部５７ｂ，５７ａと爪磁極５５ｂ、５５ａの間に生じる中空部にコイル５３を収容している。 この時、爪磁極５５ｂ、５５ａは、周方向に沿って等間隔で複数（本実施形態では、８つ）設けられる。 そして、第１コア５２ｂを構成する爪磁極５５ｂと第２コア５２ａを構成する爪磁極５５ａとを交互に逆方向に延在させることで、スカート部（ロータ）１８の着磁部１８ａに対向するＳ極とＮ極を構成している。

また、各爪磁極５５ｂ、５５ａの先端に対応する位置の底壁部５４ｂ、５４ａには、ステータコア５２の材料コストを低減させる目的から切欠部５６が形成されている。 この切欠部５６は、回転部４を回転駆動させる時に発生する磁路を基準として、磁路を除いた非磁路領域の部位を切り欠くことで形成されている。

そして、このようなクローポール型のステータ５１を用い、コイル５３に通電することで発生した磁束を、爪磁極５５ｂ，５５ａからスカート部１８へと効率良く伝達させることで回転部４を回転させている。

基板２４は、当該基板２４の中央部に凹部２３ｃを挿通させることで取り付けられており、この基板２４に、上記第１実施形態と同様に、各種電子部品（図示せず）が実装されてクローポール型モータ５０の駆動回路やその他の回路が形成されている。

さらに、基板２４を、基板カバー２５によって、回転部４の反対側（軸方向他方側）から覆っている。

以上の本実施形態によっても、上記第１実施形態と同様の作用、効果を得ることができる。

（第３実施形態）図７は、本実施形態にかかるベーンポンプの回転軸を含む断面での断面図、図８は、ステータの斜視図である。

本実施形態にかかるベーンポンプ１Ｂは、磁性を有するベーン８を用いている点および、クローポール型モータ５０Ｂの第１コア５２ｂの爪磁極５５ｂに、第２コア５２ａの底壁部５４ａよりも軸方向一方側（図７の上側）に突出した延在部５８ｂが形成されている点が上記第２実施形態と異なっているが、その他の構成は、基本的に上記第２実施形態と同様である。

具体的には、本実施形態では、磁性を有するベーン８として、鉄等の磁性材料で形成された基部の外表面全体を樹脂でコーティングしたものを用いている。 なお、ベーン８は、磁性を有していればよく、樹脂材料に磁性材料からなる粉状や粒状の磁性フィラーを混合することで磁性を有するようにしてもよい。

そして、第１コア５２ｂの爪磁極５５ｂに形成された延在部５８ｂが、図７に示すように、ベーン８の突出方向先端（径外方側端部）８ａに対向するようにステータ５１を配置することで、延在部５８ｂを、コイル５３に通電することで発生した磁束によって磁性を有するベーン８を吸引するベーン吸引用磁極として機能させている。

以上の本実施形態によっても、上記第１および第２実施形態と同様の作用、効果を得ることができる。

また、本実施形態によれば、ステータ５１の第１コア５２ｂの爪磁極５５ｂを、ベーン８の突出方向先端８ａに対向するように延在させることで、第１コア５２ｂの爪磁極５５ｂによる磁力によって磁性を有するベーン８が径方向外側に吸引されるため、第２のケーシング２３の内周面２３ｍ（環状室の摺接面）にベーン８をより一層密着させることができ、ポンプ効率を向上させることができる。

（第４実施形態）図９は、本実施形態にかかるベーンポンプの回転軸を含む断面での断面図、図１０は、ステータの斜視図である。

本実施形態にかかるベーンポンプ１Ｃは、クローポール型モータ５０Ｃの第２コア５２ａの爪磁極５５ａにも、第２コア５２ａの底壁部５４ａよりも軸方向一方側（図９の上側）に突出した延在部５８ａが形成されている点が上記第３実施形態と異なっているが、その他の構成は、基本的に上記第３実施形態と同様である。

そして、第１コア５２ｂの爪磁極５５ｂに形成された延在部５８ｂおよび、第２コア５２ａの爪磁極５５ａに形成された延在部５８ａが、ベーン８の突出方向先端（径外方側端部）８ａに対向するようにステータ５１を配置している。 このように、本実施形態では、爪磁極５５ｂの延在部５８ｂおよび爪磁極５５ａの延在部５８ａをベーン吸引用磁極として機能させている。

以上の本実施形態によっても、上記第１〜第３実施形態と同様の作用、効果を得ることができる。

特に、本実施形態によれば、第１コア５２ｂの爪磁極５５ｂに、第２コア５２ａの底壁部５４ａよりも軸方向一方側（図９の上側）に突出した延在部５８ｂを設けるとともに、第２コア５２ａの爪磁極５５ａに、第２コア５２ａの底壁部５４ａよりも軸方向一方側（図９の上側）に突出した延在部５８ａを設けているため、爪磁極５５ｂに延在部５８ｂを設けただけの構造と比べてベーン８と内周面２３ｍとの密着性が増し、ポンプ効率をより一層向上させることができるようになる。

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記各実施形態には限定されず、種々の変形が可能である。

例えば、ベーンポンプの回転部やリング、ケーシングの詳細な構成は上記実施形態には限定されない。

また、上記第１および第２実施形態においても、上記第３および第４実施形態のように磁性を有するベーンを用いることが可能である。

本発明の第１実施形態にかかるベーンポンプの回転軸と直交する断面での断面図である。

本発明の第１実施形態にかかるベーンポンプの回転軸を含む断面での断面図である。

本発明の第１実施形態にかかるベーンポンプの分解斜視図である。

本発明の第１実施形態にかかるステータの斜視図である。

本発明の第２実施形態にかかるベーンポンプの回転軸を含む断面での断面図である。

本発明の第２実施形態にかかるステータの斜視図である。

本発明の第３実施形態にかかるベーンポンプの回転軸を含む断面での断面図である。

本発明の第３実施形態にかかるステータの斜視図である。

本発明の第４実施形態にかかるベーンポンプの回転軸を含む断面での断面図である。

本発明の第４実施形態にかかるステータの斜視図である。

符号の説明

１，１Ａ，１Ｂ，１Ｃ ベーンポンプ ２ ケーシング ２ａ 内部空間 ３ リング（ケーシング）
３ａ 内周面 ４ 回転部 ５ 基体部 ５ａ 外周面 ６ 環状室 ７ スリット ８ ベーン ８ａ 突出方向先端 ９ ポンプ室 １０ 第１のケーシング（ケーシング）
１７ 底壁部 １８ スカート部（ロータ）
１８ａ 着磁部 １８ｃ 外周面（周面）
１８ｄ 内周面（周面）
２３ 第２のケーシング（ケーシング）
４０，５０，５０Ｂ，５０Ｃ クローポール型モータ ４１，５１ ステータ ４２，５２ ステータコア ４３，５３ コイル ４５，５５ 爪磁極 ５８ａ，５８ｂ 延在部 Ａｘ 回転軸