1.一种流动控制装置，包括：
壳体，其限定流动路径且包括至少一个流动端口以允许在所述流动路径和所述壳体的外部位置之间的流体连通；
补偿腔室；
调节器组合件，其在相对的第一和第二方向上可移动以与所述至少一个流动端口配合以改变沿着所述流动路径的流动，其中所述调节器组合件限定暴露于所述流动路径内的流体流动的第一表面以使所述流体流动建立跨过所述第一表面变化的压力，以及暴露于所述补偿腔室的相对的第二表面；以及
用于移动所述调节器组合件以便改变所述流动路径的驱动装置；
其中，所述补偿腔室与所述调节器组合件的第一表面的局部区域处于压力连通以建立补偿腔室压力，所述补偿腔室压力作用于调节器组合件的第二表面以便使得调节器组合件在第一和第二方向中的一个方向上偏置；以及
所述补偿腔室压力是所述局部区域的位置的函数。
2.根据权利要求1所述的装置，与同井筒相关联的流动一起使用。
3.根据权利要求1或2所述的装置，配置成在井筒内在井下位置处使用。
4.根据权利要求1或2所述的装置，其中调节器组合件可移动以便改变流动路径，从而在流动的流体内施加压力波动，以提供无线通信。
5.根据权利要求1或2所述的装置，其中调节器组合件在流动路径开放的方向上偏置。
6.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述第一表面的局部区域的位置确定补偿腔室压力并影响通过第二表面施加到调节器组合件上的力的量级。
7.根据权利要求1或2所述的装置，其中补偿腔室压力与调节器组合件的第一表面的局部区域处的压力相关联。
8.根据权利要求1或2所述的装置，配置成对于通过流动路径的流体的所有流动状态形成偏置力。
9.根据权利要求1或2所述的装置，包括在补偿腔室和调节器组合件的第一表面的局部区域之间延伸的压力管道以便促进其间的压力连通。
10.根据权利要求9所述的装置，其中所述压力管道至少部分地设置成调节器组合件的一部分。
11.根据权利要求9所述的装置，其中所述压力管道限定在调节器组合件的第一表面内的端口，从而在端口的位置处作用于调节器组合件的第一表面的局部压力连通到补偿腔室。
12.根据权利要求1或2所述的装置，其中借助于流动通过流动路径的流体的流态来建立跨过调节器组合件的第一表面的压力变化。
13.根据权利要求1或2所述的装置，其中跨过调节器组合件的第一表面的压力变化通过改变在所述第一表面的区域中的流速来建立。
14.根据权利要求1或2所述的装置，包括至少部分地限定流动路径的壳体。
15.根据权利要求14所述的装置，其中所述壳体限定用于适应通过所述流动路径的流体的至少一个流动端口。
16.根据权利要求15所述的装置，其中至少一个流动端口限定在壳体的壁内或通过壳体的壁，和/或至少一个流动端口提供在所述壳体的外部和内部位置之间的流体连通，和/或至少一个流动端口允许流动路径和地下区域之间的连通。
17.根据权利要求15所述的装置，其中至少一个流动端口限定用于允许流体流入到流动路径内的流体流入端口和/或至少一个流动端口限定用于允许流体从流动路径流出的流体流出端口。
18.根据权利要求15所述的装置，其中调节器组合件与至少一个流动端口配合以便改变通过流动路径的流体。
19.根据权利要求15所述的装置，其中经由至少一个流动端口进入所述壳体的流体建立流态，其产生跨过调节器组合件的第一表面 的可变压力。
20.根据权利要求15所述的装置，包括至少两个流动端口，其在使用中限定对应的流体流，其碰撞以便生成低流速和高压力的区域。
21.根据权利要求15所述的装置，其中至少一个流动端口限定有助于产生通过流动路径的所需流态的几何形状。
22.根据权利要求15所述的装置，其中至少一个流动端口相对于壳体的中心轴线倾斜地对准。
23.根据权利要求15所述的装置，其中至少一个流动端口限定补偿调节器组合件的第一表面的几何形状的几何形状。
24.根据权利要求14所述的装置，其中壳体包括或限定至少一个旁通流动端口。
25.根据权利要求1或2所述的装置，其中调节器组合件的第一表面限定几何形状以便有助于产生跨过所述表面的所需流态和压力分布。
26.根据权利要求25所述的装置，其中调节器组合件的第一表面限定几何形状，其用于将跨过所述第一表面的压力变化最小化。
27.根据权利要求25所述的装置，其中调节器组合件的第一表面限定几何形状，其沿着所述流动路径的方向转移流体流。
28.根据权利要求25所述的装置，其中调节器组合件的第一表面限定锥形轮廓。
29.根据权利要求25所述的装置，其中调节器组合件的第一表面限定抛物线的锥形轮廓。
30.根据权利要求1或2所述的装置，配置成安装到井筒内的现有设备中。
31.根据权利要求1或2所述的装置，配置成作为井筒完井的一部分安装于井筒内。
32.根据权利要求2所述的装置，其中与井筒相关联的流动为生产流动或注入流动。
33.根据权利要求5所述的装置，其中流动路径全开。
34.根据权利要求7所述的装置，其中补偿腔室压力基本上等于 调节器组合件的第一表面的局部区域处的压力。
35.根据权利要求16所述的装置，其中地下区域为生产区域或注入区域。
36.根据权利要求27所述的装置，其中沿着所述流动路径方向的流体流被逐渐转移。
37.一种控制流量的方法，包括：
提供流动控制装置，其中所述流动控制装置包括；
壳体，其限定流动路径且包括至少一个流动端口以允许在所述流动路径和所述壳体的外部位置之间的流体连通；
补偿腔室；
调节器组合件，其在相对的第一和第二方向上可移动以与所述至少一个流动端口配合以改变沿着所述流动路径的流动，其中所述调节器组合件限定暴露于所述流动路径内的流体流动的第一表面以使所述流体流动建立跨过所述第一表面变化的压力，以及暴露于所述补偿腔室的相对的第二表面；以及
驱动装置，其用于移动所述调节器组合件以便改变所述流动路径；
所述方法进一步包括：
允许流体流动通过流动路径，以使所述流体流动建立跨过调节器组合件的第一表面变化的压力；以及
将压力从所述调节器组合件的所述第一表面的局部区域连通到补偿腔室以便建立补偿腔室压力，补偿腔室压力是所述局部区域的位置的函数且其作用于调节器组合件的所述第二表面以便将调节器组合件在第一和第二方向中的一个方向上偏置。
38.一种流动控制装置，包括：
壳体，其限定流动路径且包括至少一个流动端口以允许在所述流动路径和所述壳体的外部位置之间的流体连通且彼此压力连通的流动路径和补偿腔室；
调节器组合件，其在相对的第一和第二方向上可移动以与所述至少一个流动端口配合以改变沿着所述流动路径的流动，其中所述调节器组合件限定暴露于所述流动路径内的流体流动的第一表面以使所 述流体流动建立跨过所述第一表面变化的压力，以及暴露于所述补偿腔室的相对的第二表面；以及
驱动装置，用于移动所述调节器组合件以便改变所述流动路径；
其中所述补偿腔室与所述调节器组合件的所述第一表面的局部区域压力连通以建立补偿腔室压力，其作用于调节器组合件的所述第二表面以便将所述调节器组合件在第一和第二方向中的一个方向上偏置；以及
其中所述第一表面限定轮廓，其配置成借助于流动通过流动路径的流体的作用而将施加在所述第一表面上的压力变化最小化。
39.根据权利要求38所述的装置，其中调节器组合件的第一表面限定几何形状，用于沿着所述流动路径的方向转移流体流。
40.根据权利要求38或39所述的装置，其中调节器组合件的第一表面限定锥形轮廓。
41.根据权利要求38或39所述的装置，其中第一表面限定抛物线的锥形轮廓。
42.根据权利要求38或39所述的装置，其中所述补偿腔室经由设置于所述调节器组合件的第一表面上的端口与流动路径压力连通。
43.根据权利要求39所述的装置，其中沿着所述流动路径方向的流体流被逐渐转移。
44.一种控制流量的方法，包括：
提供流动控制装置，其中所述流动控制装置包括；
壳体，其限定流动路径且包括至少一个流动端口以允许在所述流动路径和所述壳体的外部位置之间的流体连通；
补偿腔室；
调节器组合件，其在相对的第一和第二方向上可移动以与所述至少一个流动端口配合以改变沿着所述流动路径的流动，其中所述调节器组合件限定暴露于所述流动路径内的流体流动的第一表面以使所述流体流动建立跨过所述第一表面变化的压力，以及暴露于所述补偿腔室的相对的第二表面；以及
驱动装置，其用于移动所述调节器组合件以便改变所述流动路径；
所述方法进一步包括：在所述流动路径和补偿腔室之间建立压力连通；
由所述驱动装置使得调节器组合件移动以便改变流动路径；以及
使得流体通过流动路径，从而所述第一表面的轮廓将施加在所述表面上的压力变化最小化。
45.一种流动控制装置，包括：
壳体，其限定流动路径且包括至少一个流动端口以允许在所述流动路径和所述壳体的外部位置之间的流体连通；
补偿腔室；
调节器组合件，其在相对的第一和第二方向上可移动以与所述至少一个流动端口配合以改变沿着所述流动路径的流动，其中所述调节器组合件限定暴露于流动路径内的流体流动的第一表面以使所述流体流动建立跨过所述第一表面变化的压力，以及暴露于所述补偿腔室的相对的第二表面；以及
驱动装置，其用于移动调节器组合件以便改变流动路径；
其中所述补偿腔室与所述调节器组合件的所述第一表面的局部区域压力连通以建立补偿腔室压力，其作用于调节器组合件的所述第二表面以便将所述调节器组合件在第一和第二方向中的一个方向上偏置；以及
其中所述第一表面限定抛物线的锥形轮廓，其配置成借助于流动通过流动路径的流体的作用而将施加在所述第一表面上的压力变化最小化。