ASML荷兰有限公司
该申请人涉及专利文献：5400，涉及专利：3490件
覆盖主要的IPC大类包括：G03(2817)、H01(1027)、G01(337)、G02(256)、H05(229)、G06(221)、G21(64)、G05(51)、F16(39)、H02(35)
专利类型分布状况：发明公开(3489)、实用新型(1)
专利不同法律状态数据分布状况：有效专利(1347)、实质审查(1196)、失效专利(569)、无效专利(215)、公开(163)
该领域主要的发明人有：H·巴特勒(59)、W·T·特尔(45)、A·J·登博夫(38)、任伟明(37)、王勇新(32)、J·洛夫(30)、A·J·布里克(29)、N·潘迪(26)、M·J-J·维兰德(25)、A·J·登鲍埃夫(22)
详细地址：荷兰 荷兰维德霍温
相关专利文献 (5400件)
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明公开 | 静电夹具装置 | CN121464402A |
| 发明公开 | 光刻设备、在所述光刻设备中使用的具有多个感测元件的均一性传感器、确定辐射束的性质的方法、以及确定用于光刻系统的光学元件的校准的方法 | CN121464401A |
| 发明公开 | 光刻设备以及相关方法 | CN121464396A |
| 发明公开 | 量测靶 | CN121464393A |
| 发明公开 | 用于曝光衬底边缘的系统和方法及包括该系统的光刻设备 | CN121444018A |
| 发明公开 | 识别诸如曝光设备之类的机器上的维修动作的方法 | CN121420244A |
| 发明公开 | EUV辐射能量传感器 | CN121420242A |
| 发明授权 | 极紫外光源中的目标提供控制装置和方法 | CN113475164B |
| 发明公开 | 表膜隔膜、表膜及其制造方法 | CN121399541A |
| 发明授权 | 使用机器学习来生成用于晶片检查的预测图像的系统和方法 | CN114521234B |
近10年该领域专利申请趋势
专利分类情况
IPC分类
核心专利文献
相关企业
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | ASML荷兰有限公司 | 5400 |
相关发明人
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | H·巴特勒 | 59 |
| 2 | W·T·特尔 | 45 |
| 3 | A·J·登博夫 | 38 |
| 4 | 任伟明 | 37 |
| 5 | 王勇新 | 32 |
| 6 | J·洛夫 | 30 |
| 7 | A·J·布里克 | 29 |
| 8 | N·潘迪 | 26 |
| 9 | M·J-J·维兰德 | 25 |
| 10 | A·J·登鲍埃夫 | 22 |
相关代理机构
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 3296 |
| 2 | 北京市金杜律师事务所 | 1636 |
| 3 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 465 |
| 4 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 3 |
相关代理人
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 王波波 | 755 |
| 2 | 张启程 | 574 |
| 3 | 王茂华 | 507 |
| 4 | 王益 | 441 |
| 5 | 胡良均 | 415 |
| 6 | 吴敬莲 | 334 |
| 7 | 张宁 | 256 |
| 8 | 王静 | 249 |
| 9 | 王新华 | 239 |
| 10 | 赵林琳 | 232 |
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