该申请人涉及专利文献:5117,涉及专利:3265件
覆盖主要的IPC大类包括:G03(2644)、H01(974)、G01(319)、G02(240)、H05(218)、G06(211)、G21(64)、G05(49)、F16(33)、H02(31)
专利类型分布状况:发明公开(3264)、实用新型(1)
专利不同法律状态数据分布状况:有效专利(1343)、实质审查(1020)、失效专利(515)、无效专利(211)、公开(176)
该领域主要的发明人有:H·巴特勒(56)、W·T·特尔(43)、A·J·登博夫(38)、任伟明(37)、J·洛夫(30)、A·J·布里克(29)、王勇新(29)、N·潘迪(26)、M·J-J·维兰德(25)、A·J·登鲍埃夫(22)
详细地址:荷兰 荷兰维德霍温
专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
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发明公开 | 载物台 | CN120390982A |
发明公开 | 用于光刻过程中的多参数感测的多通道锁相相机 | CN120390909A |
发明公开 | 光学系统 | CN120390902A |
发明公开 | 用以生成用于可移动物体的加速度设定点分布曲线的方法、设定点生成器和光刻设备 | CN120380420A |
发明授权 | 用于控制制造过程的方法和相关联的设备 | CN115244467B |
发明授权 | 对诸如光刻系统的系统进行建模以供执行系统的预测性维护的方法 | CN115210651B |
发明公开 | 基于光刻设备上的系统效应的源掩模优化 | CN120359467A |
发明公开 | 致动台、电磁设备以及制造方法 | CN120344911A |
发明公开 | 基于掩模版形状测量来推断和估计掩模版温度的方法 | CN120344910A |
发明公开 | 用于静电夹持衬底的装置和方法 | CN120344908A |
排名 | 企业名称 | 专利 |
---|---|---|
1 | ASML荷兰有限公司 | 5117 |
排名 | 发明人 | 专利 |
---|---|---|
1 | H·巴特勒 | 56 |
2 | W·T·特尔 | 43 |
3 | A·J·登博夫 | 38 |
4 | 任伟明 | 37 |
5 | J·洛夫 | 30 |
6 | A·J·布里克 | 29 |
7 | 王勇新 | 29 |
8 | N·潘迪 | 26 |
9 | M·J-J·维兰德 | 25 |
10 | A·J·登鲍埃夫 | 22 |
排名 | 企业名称 | 专利 |
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1 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 3152 |
2 | 北京市金杜律师事务所 | 1497 |
3 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 465 |
4 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 3 |
排名 | 代理人 | 专利 |
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1 | 王波波 | 755 |
2 | 张启程 | 549 |
3 | 王茂华 | 504 |
4 | 王益 | 410 |
5 | 胡良均 | 380 |
6 | 吴敬莲 | 334 |
7 | 张宁 | 249 |
8 | 王静 | 249 |
9 | 王新华 | 239 |
10 | 赵林琳 | 216 |