ASML荷兰有限公司
该申请人涉及专利文献：4972，涉及专利：3150件
覆盖主要的IPC大类包括：G03(2574)、H01(934)、G01(308)、G02(226)、H05(212)、G06(201)、G21(62)、G05(47)、F16(33)、H02(28)
专利类型分布状况：发明公开(3149)、实用新型(1)
专利不同法律状态数据分布状况：有效专利(1326)、实质审查(963)、失效专利(501)、无效专利(211)、公开(149)
该领域主要的发明人有：H·巴特勒(55)、W·T·特尔(41)、A·J·登博夫(38)、任伟明(35)、J·洛夫(30)、A·J·布里克(29)、王勇新(28)、N·潘迪(26)、M·J-J·维兰德(25)、A·J·登鲍埃夫(22)
详细地址：荷兰 荷兰维德霍温
相关专利文献 (4972件)
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明公开 | 确定图案形成装置的光学特性的分量的子集 | CN119960264A |
| 发明公开 | 利用机器学习从原始图像自动选择高品质平均扫描电镜图像 | CN119960262A |
| 发明公开 | 用于预测抗蚀剂变形的方法 | CN119960261A |
| 发明授权 | 用于预测与过程相关联的过程度量的方法和设备 | CN115349109B |
| 发明公开 | 用于光刻设备的反射镜层和反射镜 | CN119923599A |
| 发明授权 | 光刻设备、量测系统、照射源及其方法 | CN114902142B |
| 发明授权 | 极紫外光源中的目标扩展速率控制 | CN113966061B |
| 发明授权 | 用于性质联合插值和预测的设备和方法 | CN113366498B |
| 发明授权 | 辐射系统 | CN113396644B |
| 发明授权 | 用于晶片接地的方法、设备和系统 | CN114287051B |
近10年该领域专利申请趋势
专利分类情况
IPC分类
核心专利文献
相关企业
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | ASML荷兰有限公司 | 4972 |
相关发明人
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | H·巴特勒 | 55 |
| 2 | W·T·特尔 | 41 |
| 3 | A·J·登博夫 | 38 |
| 4 | 任伟明 | 35 |
| 5 | J·洛夫 | 30 |
| 6 | A·J·布里克 | 29 |
| 7 | 王勇新 | 28 |
| 8 | N·潘迪 | 26 |
| 9 | M·J-J·维兰德 | 25 |
| 10 | A·J·登鲍埃夫 | 22 |
相关代理机构
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 3067 |
| 2 | 北京市金杜律师事务所 | 1437 |
| 3 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 465 |
| 4 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 3 |
相关代理人
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 王波波 | 755 |
| 2 | 张启程 | 530 |
| 3 | 王茂华 | 501 |
| 4 | 王益 | 382 |
| 5 | 胡良均 | 360 |
| 6 | 吴敬莲 | 334 |
| 7 | 王静 | 249 |
| 8 | 王新华 | 239 |
| 9 | 张宁 | 227 |
| 10 | 赵林琳 | 205 |
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