ASML荷兰有限公司
该申请人涉及专利文献：5539，涉及专利：3604件
覆盖主要的IPC大类包括：G03(2896)、H01(1040)、G01(349)、G02(267)、H05(237)、G06(229)、G21(65)、G05(53)、F16(40)、H02(38)
专利类型分布状况：发明公开(3603)、实用新型(1)
专利不同法律状态数据分布状况：有效专利(1355)、实质审查(1276)、失效专利(588)、无效专利(222)、公开(163)
该领域主要的发明人有：H·巴特勒(60)、W·T·特尔(46)、任伟明(40)、A·J·登博夫(38)、王勇新(35)、J·洛夫(30)、A·J·布里克(29)、M·J-J·维兰德(27)、N·潘迪(26)、方伟(26)
详细地址：荷兰 荷兰维德霍温
相关专利文献 (5539件)
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明公开 | 用于半导体量测系统和方法中的多芯光纤的波前测量 | CN122055915A |
| 发明公开 | 具有热调节Z载物台的晶圆载物台 | CN122055808A |
| 发明公开 | 用于样本评估的脉冲压缩 | CN122055807A |
| 发明公开 | 表面构件 | CN122055675A |
| 发明公开 | 对带电粒子束成像进行畸变校正的系统和方法 | CN122003729A |
| 发明公开 | 监测性能的方法、制造器件的方法、计算机程序和光刻装置 | CN121986301A |
| 发明公开 | 光刻装置中使用的磁悬浮定位器组件、具有该组件的光刻装置、该组件的操作方法以及包括操作或使用该装置方法的设备的制造方法 | CN121969999A |
| 发明公开 | 翻新衬底支撑件的方法 | CN121969996A |
| 发明公开 | 用于波长校准的方法和组件 | CN121969904A |
| 发明公开 | 为聚焦量测学设计聚焦目标的方法 | CN121941959A |
近10年该领域专利申请趋势
专利分类情况
IPC分类
核心专利文献
相关企业
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | ASML荷兰有限公司 | 5539 |
相关发明人
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | H·巴特勒 | 60 |
| 2 | W·T·特尔 | 46 |
| 3 | 任伟明 | 40 |
| 4 | A·J·登博夫 | 38 |
| 5 | 王勇新 | 35 |
| 6 | J·洛夫 | 30 |
| 7 | A·J·布里克 | 29 |
| 8 | M·J-J·维兰德 | 27 |
| 9 | N·潘迪 | 26 |
| 10 | 方伟 | 26 |
相关代理机构
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 3354 |
| 2 | 北京市金杜律师事务所 | 1717 |
| 3 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 465 |
| 4 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 3 |
相关代理人
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 王波波 | 755 |
| 2 | 张启程 | 586 |
| 3 | 王茂华 | 507 |
| 4 | 王益 | 449 |
| 5 | 胡良均 | 430 |
| 6 | 吴敬莲 | 334 |
| 7 | 郑振 | 287 |
| 8 | 张宁 | 265 |
| 9 | 王静 | 249 |
| 10 | 王新华 | 239 |
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