ASML荷兰有限公司
该申请人涉及专利文献：5281，涉及专利：3388件
覆盖主要的IPC大类包括：G03(2738)、H01(1009)、G01(329)、G02(247)、H05(222)、G06(215)、G21(64)、G05(50)、F16(38)、H02(32)
专利类型分布状况：发明公开(3387)、实用新型(1)
专利不同法律状态数据分布状况：有效专利(1358)、实质审查(1087)、失效专利(541)、无效专利(213)、公开(189)
该领域主要的发明人有：H·巴特勒(56)、W·T·特尔(45)、A·J·登博夫(38)、任伟明(37)、王勇新(31)、J·洛夫(30)、A·J·布里克(29)、N·潘迪(26)、M·J-J·维兰德(25)、A·J·登鲍埃夫(22)
详细地址：荷兰 荷兰维德霍温
相关专利文献 (5281件)
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明公开 | 电子光学板 | CN120898265A |
| 发明公开 | 用于热调节系统的消音器和光刻设备 | CN120898170A |
| 发明公开 | 流体处理结构 | CN120898168A |
| 发明授权 | 在半导体制造过程中用于确定对于一组衬底的检查策略的方法 | CN115398345B |
| 发明公开 | 用于掩模版载台清洁设备的导电聚合物 | CN120883144A |
| 发明公开 | EUV透射屏障 | CN120883130A |
| 发明公开 | 用于量测设备的照射模块 | CN120883097A |
| 发明公开 | 管状声阻尼装置、流体输送系统、冷却系统和光刻设备 | CN120883002A |
| 发明公开 | 用于热调节系统的消音器和光刻设备 | CN120858316A |
| 发明公开 | 用于模型基础对准的基于机器学习的图像产生 | CN120852555A |
近10年该领域专利申请趋势
专利分类情况
IPC分类
核心专利文献
相关企业
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | ASML荷兰有限公司 | 5281 |
相关发明人
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | H·巴特勒 | 56 |
| 2 | W·T·特尔 | 45 |
| 3 | A·J·登博夫 | 38 |
| 4 | 任伟明 | 37 |
| 5 | 王勇新 | 31 |
| 6 | J·洛夫 | 30 |
| 7 | A·J·布里克 | 29 |
| 8 | N·潘迪 | 26 |
| 9 | M·J-J·维兰德 | 25 |
| 10 | A·J·登鲍埃夫 | 22 |
相关代理机构
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 3242 |
| 2 | 北京市金杜律师事务所 | 1571 |
| 3 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 465 |
| 4 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 3 |
相关代理人
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 王波波 | 755 |
| 2 | 张启程 | 569 |
| 3 | 王茂华 | 506 |
| 4 | 王益 | 423 |
| 5 | 胡良均 | 406 |
| 6 | 吴敬莲 | 334 |
| 7 | 张宁 | 255 |
| 8 | 王静 | 249 |
| 9 | 王新华 | 239 |
| 10 | 赵林琳 | 226 |
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