ASML荷兰有限公司
该申请人涉及专利文献：5207，涉及专利：3328件
覆盖主要的IPC大类包括：G03(2687)、H01(995)、G01(325)、G02(241)、H05(221)、G06(213)、G21(64)、G05(49)、F16(34)、H02(32)
专利类型分布状况：发明公开(3327)、实用新型(1)
专利不同法律状态数据分布状况：有效专利(1357)、实质审查(1047)、失效专利(526)、无效专利(212)、公开(186)
该领域主要的发明人有：H·巴特勒(56)、W·T·特尔(44)、A·J·登博夫(38)、任伟明(37)、J·洛夫(30)、王勇新(30)、A·J·布里克(29)、N·潘迪(26)、M·J-J·维兰德(25)、A·J·登鲍埃夫(22)
详细地址：荷兰 荷兰维德霍温
相关专利文献 (5207件)
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明公开 | 用于改变衬底的形状的系统 | CN120660046A |
| 发明公开 | 光刻设备、具有平行传感器的检测系统和方法 | CN120641832A |
| 发明公开 | 量测方法和相关联的量测装置 | CN120641763A |
| 发明公开 | 用于减少带电粒子束系统中的污染的装置 | CN120615226A |
| 发明公开 | 量测方法和相关联的量测工具 | CN120615181A |
| 发明公开 | 光刻设备和校准光刻设备的位置测量系统的方法 | CN120615179A |
| 发明授权 | 插补器模型的配置 | CN115427894B |
| 发明授权 | 图案形成装置 | CN113811816B |
| 发明公开 | 用于测量物体的表面形貌的方法和装置 | CN120604173A |
| 发明公开 | 在光刻设备上执行维护动作的方法 | CN120604172A |
近10年该领域专利申请趋势
专利分类情况
IPC分类
核心专利文献
相关企业
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | ASML荷兰有限公司 | 5207 |
相关发明人
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | H·巴特勒 | 56 |
| 2 | W·T·特尔 | 44 |
| 3 | A·J·登博夫 | 38 |
| 4 | 任伟明 | 37 |
| 5 | J·洛夫 | 30 |
| 6 | 王勇新 | 30 |
| 7 | A·J·布里克 | 29 |
| 8 | N·潘迪 | 26 |
| 9 | M·J-J·维兰德 | 25 |
| 10 | A·J·登鲍埃夫 | 22 |
相关代理机构
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 3200 |
| 2 | 北京市金杜律师事务所 | 1539 |
| 3 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 465 |
| 4 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 3 |
相关代理人
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 王波波 | 755 |
| 2 | 张启程 | 561 |
| 3 | 王茂华 | 506 |
| 4 | 王益 | 417 |
| 5 | 胡良均 | 393 |
| 6 | 吴敬莲 | 334 |
| 7 | 张宁 | 254 |
| 8 | 王静 | 249 |
| 9 | 王新华 | 239 |
| 10 | 赵林琳 | 224 |
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