专利汇可以提供一种基于数理统计的镜质体反射率校准方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且一种基于数理统计的镜质体反射率校准方法:根据来自同一口井不同深度段的若干 烃 源岩样品的 岩石 热解 数据最高裂解 温度 推算对应样品的镜质体反射率;对每一个烃源岩样品,分别取镜质体反射率实测值与镜质体反射率值之差的绝对值,计算该组绝对值的算术平均值;根据算术平均值计算烃源岩样品的样本标准偏差或平均偏差;根据Chauvenet法则计算 阀 值;分别用不同烃源岩样品的镜质体反射率实测值减去阀值;将保留镜质体反射率实测值的烃源岩样品的最高裂解温度和镜质体反射率实测值拟合一次函数求出系数;求对应烃源岩样品校正后的镜质体反射率校正值;采用统计学方法检测镜质体反射率校正值的准确性。本 发明 对于单井和区域上的热史恢复具有良好的应用前景。,下面是一种基于数理统计的镜质体反射率校准方法专利的具体信息内容。
1.一种基于数理统计的镜质体反射率校准方法,其特征在于,包括如下步骤:
1)根据来自同一口井不同深度段的若干烃源岩样品的岩石热解数据最高裂解温度推算对应样品的镜质体反射率Ro;
2)对每一个烃源岩样品,分别取镜质体反射率实测值与步骤1)推算的镜质体反射率Ro值之差的绝对值,得到一组绝对值,计算该组绝对值的算术平均值;
3)根据算术平均值计算烃源岩样品的样本标准偏差或平均偏差;
4)根据Chauvenet法则计算阀值;
5)分别用不同烃源岩样品的镜质体反射率实测值Roi减去阀值Ф:
Roi-Ф(5),
将结果大于0的烃源岩样品的镜质体反射率实测值作异常值剔除,并同时剔除最高裂解温度,保留其余烃源岩样品的镜质体反射率实测值和最高裂解温度;
6)将保留镜质体反射率实测值的烃源岩样品的最高裂解温度作为x,将对应的镜质体反射率实测值作为y,拟合x对y的一次函数:
y=ax+b(6)
求出系数a、b;
7)将步骤5)所剔除烃源岩样品的最高裂解温度作为x′、将步骤6所得系数a、b分别代入如下公式:
y′=ax′+b(7)
所得y′值为对应烃源岩样品校正后的镜质体反射率校正值;
8)若烃源岩样品有最高裂解温度以外的热应力数据,则将所述的最高裂解温度以外的热应力数据分别作为x和x′,重复步骤6)~步骤7)检验镜质体反射率校正值准确性,具体为将结果与步骤7)中利用最高裂解温度计算得到的镜质体反射率校正值比较,采用统计学方法检测镜质体反射率校正值的准确性。
2.根据权利要求1所述的一种基于数理统计的镜质体反射率校准方法,其特征在于,步骤1)所述的推算烃源岩样品的镜质体反射率实测值是采用如下公式:
Ro(Tmax)=0.0180×Tmax–7.16(1)
式中,Ro表示镜质体反射率实测值,Tmax为最高裂解温度,420℃
3.根据权利要求1所述的一种基于数理统计的镜质体反射率校准方法,其特征在于,步骤2)是采用如下公式得到平均值:
μ=∑ni=1[︱Roi–Roi(Tmax)︱]/n(2)
式中,n为样品总数。
4.根据权利要求1所述的一种基于数理统计的镜质体反射率校准方法,其特征在于,步骤3)是采用如下公式进行计算:
标准偏差σ={∑ni=1[︱Roi–Roi(Tmax)︱-μ]2/(n-1)}1/2,n>5(3)平均偏差δ=∑ni=1[︱Roi–Roi(Tmax)︱-μ]/n,n≤5(3’)
式中,Roi为第i个样品的镜质体反射率实测值,Roi(Tmax)为第i个样品的镜质体反射率推算值,n为样品总数。
5.根据权利要求1所述的一种基于数理统计的镜质体反射率校准方法,其特征在于,步骤4)是采用如下公式计算:
Ф=Zτσ (4)
式中,Ф为阀值,Zτ为一个与样品总数n相联系的系数,Zτ由样本容量决定,通过查表获得,σ为样本标准偏差。
6.根据权利要求1所述的一种基于数理统计的镜质体反射率校准方法,其特征在于,步骤8)所述最高裂解温度以外的热应力参数是4/1-甲基二苯并噻吩转化率或甾烷异构化参数、或Ts/(Ts+Tm)或C3217α,21β(H)22S/(22S+22R)升藿烷异构化参数。
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