专利汇可以提供基于纳米孔—微透镜扫描超分辨显微成像系统专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且基于纳米孔—微透镜扫描超分辨显微成像系统,涉及微观粒子超分辨成像技术领域,解决现有活 体细胞 在单分子尺度下的成像问题。包括扫描光学系统;Z轴扫描探测系统;倒置 荧光 显微成像系统以及自动定焦和 锁 焦系统。由纳米孔—微透镜产生的超衍射极限聚焦光斑激发样品的荧光 信号 ,根据纳米孔—微透镜Z轴扫描探测系统确定纳米孔—微透镜聚焦光斑和样品之间距离,控制三维压电陶瓷位移台实现对样品的三维方向扫描,自动定焦和锁焦系统确定 显微镜 和样品的焦面以及锁定该焦面,最后利用倒置荧光显微镜对样品的超分辨成像。本 发明 所述的基于纳米孔—微透镜扫描超分辨显微镜可以应用于活体细胞内部的单 分子成像 。,下面是基于纳米孔—微透镜扫描超分辨显微成像系统专利的具体信息内容。
1.基于纳米孔—微透镜扫描超分辨显微成像系统,包括扫描光学系统、Z轴扫描控制系统、倒置荧光显微成像系统以及自动定焦和锁焦系统,其特征是;所述纳米孔—微透镜产生的超衍射极限聚焦光斑激发样品的荧光信号,根据纳米孔—微透镜Z轴扫描控制系统确定纳米孔—微透镜聚焦光斑和样品之间距离,控制三维压电陶瓷位移台实现对样品的三维方向扫描,自动定焦和锁焦系统确定显微物镜和样品的焦面并锁定该焦面,最后采用倒置荧光显微镜对样品的超分辨成像;
所述扫描光学系统包括激光器(4)、偏振片(5)、第一聚焦透镜(6)、第一光纤耦合器(7)、扫描探针(8)和三维压电陶瓷位移台(9);
所述Z轴扫描控制系统包括近红外激光器(10)、衰减片(11)、第二聚焦透镜(12)、第一光纤环形器端口(13)、第二光纤环形器端口(14)、第三光纤环形器端口(15)和雪崩二极管(16);
所述倒置荧光显微成像系统包括显微物镜(18)、Z轴压电陶瓷(19)、二向色镜(20)、发射滤光片(21)、第三聚焦透镜(22)和传感器(23);
所述自动定焦和锁焦系统包括激光二极管(24)、空间滤波器(25)、准直器(26)、半透半反滤光片(27)、长波通滤光片(28)、第四聚焦透镜(29)和线阵CCD(30);
调整激光器(4)发出可见单色激光经偏振片(5)和第一聚焦透镜(6)后通过光纤耦合器(7)传输至扫描探针(8);
所述激光经过扫描探针(8)照射样品(17),由样品(17)产生的荧光通过显微物镜(18)汇聚,然后经过二向色镜(20)透射,发射滤光片(21)滤光以及经第三聚焦透镜(22)聚焦后由传感器(23)接收;
所述三维压电陶瓷位移台(9)对样品扫描过程中,每移动一个点发送一个数字触发信号,所述数据采集卡根据接收的触发信号向传感器(23)发送采集数据控制信号;
所述扫描探针(8)固定在三维压电陶瓷位移台(9)上,显微物镜(18)固定在Z轴压电陶瓷(19)上;
近红外激光器(10)出射激光经过衰减片(11)和第二聚焦透镜(12)进入第一光纤环形器端口(13),第一光纤环形器端口(13)将激光传输至第二光纤环形器端口(14),第二光纤环形器端口(14)探测样品(17)的后向散射光,所述后向散射光经第三光纤环形器端口(15)后由雪崩二极管(16)探测接收;
所述雪崩二极管(16)根据接收的光强信号转换为电信号发送至数据采集卡,根据对电信号的处理和分析控制三维压电陶瓷位移台(9),实现对样品的三维方向扫描,并确定纳米孔—微透镜聚焦光斑和样品之间距离;
所述激光二极管(24)产生的近红外激光经过空间滤波器(25)变成高斯点光源,所述点光源入射到准直器(26)变成平行光,所述平行光经过半透半反滤光片(27)和长波通滤光片(28)后由二向色镜(20)反射至显微物镜(18),并到达样品(17)表面,所述样品(17)被激发后产生的发射激光由显微物镜(18)接收并到达焦面,经焦面反射的光经长波通滤光片(28)和半透半反滤光片(27)后经第四聚焦透镜(29)反射进入线阵CCD(30);
所述线阵CCD(30)接收焦面反射的光信号并传至数据采集卡,根据信号特征进行数据分析和处理,并发送控制信号至Z轴压电陶瓷(19),所述Z轴压电陶瓷(19)控制显微物镜(18)的Z轴方向移动,实现自动对焦和锁焦。
2.根据权利要求1所述的基于纳米孔—微透镜扫描超分辨显微成像系统,其特征在于:
还包括制备纳米孔-微透镜;
首先建立模型和数值仿真,优化纳米孔—微透镜参数;
然后采用真空离子溅射镀膜机在微透镜(1)表面镀金属薄膜(2),采用聚焦离子束刻蚀技术在镀有金属薄膜的微透镜表面刻蚀纳米孔,最终形成纳米孔—微透镜。
3.根据权利要求1所述的基于纳米孔—微透镜扫描超分辨显微成像系统,其特征在于:
由光纤(8-1)、准直器(8-2)以及纳米孔—微透镜(8-3)组成扫描探针,光源经准直器(8-2)准直后通过微透镜的纳米孔照射至样品表面;所述扫描探针(8)作为负载固定在三维压电陶瓷位移台(9)上,完成对样品的扫描。
4.根据权利要求1所述的基于纳米孔—微透镜扫描超分辨显微成像系统,其特征在于:
在位于微透镜中心的金属薄膜(2)上刻蚀直径为10~300nm的纳米孔,所述纳米孔—微透镜后的聚焦光斑直径约5~100nm。
5.根据权利要求1所述的基于纳米孔—微透镜扫描超分辨显微成像系统,其特征在于:
显微物镜数值孔径为1.30~1.49,放大倍率为100倍。
6.根据权利要求1所述的基于纳米孔—微透镜扫描超分辨显微成像系统,其特征在于:
激光二极管(24)产生的近红外激光以全内反射形式入射到显微物镜(18)中。
7.根据权利要求1所述的基于纳米孔—微透镜扫描超分辨显微成像系统,其特征在于:
所述激光器(4)发出的单色激光的波长范围包括可见波段和近红外波段,偏振方向为径向。
8.根据权利要求1所述的基于纳米孔—微透镜扫描超分辨显微成像系统,其特征在于:
纳米孔—微透镜为纳米孔—单个微透镜或纳米孔—微透镜阵列。
9.根据权利要求1所述的基于纳米孔—微透镜扫描超分辨显微成像系统,其特征在于:
样品中的被测物包括细胞膜,人工磷脂膜,细胞内部单个生物分子。
10.根据权利要求1所述的基于纳米孔—微透镜扫描超分辨显微成像系统,其特征在于,所述传感器包括单点光电探测器和成像CCD,来实现对出射激光的探测;其中单点光电探测器是针对纳米孔—单个微透镜构成的扫描探针系统;成像CCD是针对纳米孔—微透镜阵列构成的扫描探针系统。
标题 | 发布/更新时间 | 阅读量 |
---|---|---|
针对用于显微镜的探测光的光学组件、用于显微镜检查的方法和显微镜 | 2020-05-13 | 997 |
光片显微镜以及用于运行光片显微镜的方法 | 2020-05-13 | 496 |
变焦显微镜 | 2020-05-11 | 679 |
用于显微镜的照明设备 | 2020-05-12 | 451 |
单平面照明显微镜 | 2020-05-12 | 597 |
显微镜照明系统、显微镜和倾斜入射照明方法 | 2020-05-12 | 78 |
显微镜控制方法和显微镜 | 2020-05-11 | 592 |
变焦显微镜 | 2020-05-11 | 964 |
显微镜 | 2020-05-11 | 448 |
显微镜 | 2020-05-11 | 479 |
高效检索全球专利专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台,是提供专利分析,专利查询,专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。
我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据,免费查、免费专利分析。
专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析,涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度,系统通过AI智能系统对图表进行解读,只需1分钟,一键生成行业专利分析报告。