技术领域
[0001] 本
说明书涉及一种狭缝型挤压式涂布设备及其基底平台。
背景技术
[0002] 目前，狭缝型挤压式涂布(slot die coating)已被广泛应用于光学
薄膜领域制造中，特别是薄膜
太阳能电池，之所以能快速发展得益于其涂布速度快、涂膜均匀性好、涂布窗口宽等优点。但在实际的涂布当中，狭缝型挤压式涂布技术涂布出的薄膜受排液的影响，部分溶液容易堆积在基底端部(尤其是尾端)，如果不能及时排除，将会回流到之前涂布的部分，由于干燥的时间不同，将会导致前后薄膜的厚度不一致，对成膜
质量造成严重影响。
发明内容
[0003] 本说明书的目的是提供一种可改善膜厚均匀度的狭缝型挤压式涂布设备及其基底平台。
[0004] 为实现上述目的，一方面，本说明书提供一种狭缝型挤压式涂布设备的基底平台，包括：平台本体；所述平台本体上表面内凹形成的第一排液槽，所述第一排液槽与涂布头运动方向垂直，并具有至少一个倾斜
侧壁；所述第一排液槽的底部设置有
负压排液孔。
[0005] 在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台，优选地，所述倾斜侧壁的倾
角为20°-80°。
[0006] 在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台，优选地，所述倾斜侧壁的倾角为25°-75°。
[0007] 在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台，优选地，所述第一排液槽至少为两条。
[0008] 在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台，优选地，所述第一排液槽中设置有分隔
挡板；所述分隔挡板的顶端不超出所述第一排液槽。
[0009] 在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台，优选地，所述分隔挡板的底端延伸至所述负压排液孔的顶部。
[0010] 在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台，优选地，所述分隔挡板的底端设置有通孔。
[0011] 在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台，优选地，所述基底平台还包括所述平台本体上表面内凹形成的第二排液槽，所述第二排液槽与涂布头运动方向平行，且具有至少一个倾斜侧壁；所述第二排液槽的底部设置有负压排液孔。
[0012] 在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台，优选地，第二排液槽的倾斜侧壁的倾角为20°-80°。
[0013] 在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台，优选地，第二排液槽的倾斜侧壁的倾角为25°-75°。
[0014] 在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台，优选地，该基底平台还包括用于减少基底背面污染的防污染组件；所述防污染组件包括至少一个挡液部和用于吸固基底的吸
固件；所述挡液部紧贴于所述第一排液槽和/或第二排液槽的内侧设置，包括弹性挡液条和由所述平台本体内凹形成的弹性挡液条容置区；所述吸固件吸固基底时，基底在吸固件和/或弹性挡液条的
支撑下可平行于所述平台本体，并且，弹性挡液条的顶端不低于平台本体的上表面。
[0015] 在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台，优选地，所述分隔挡板的顶端高于吸固件吸固基底时弹性挡液条的顶端。
[0016] 在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台，优选地，该基底平台包括至少一个由两个第一排液槽和两个第二排液槽围成的用于放置基底的
定位区。
[0017] 在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台，优选地，所述定位区中的吸固件为负压气孔，用于使放置基底后的定位区在弹性挡液条的圈闭下形成负压环境，从而使吸固件在不直接与基底
接触的状态下固定基底。
[0018] 在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台，优选地，该基底平台还包括设置于所述定位区中，用于支撑基底中部的弹性辅助支撑部。
[0019] 另一方面，本说明书还提供了一种狭缝型挤压式涂布设备，其中，该设备中用于放置基底的基底平台包括：平台本体；所述平台本体上表面内凹形成的第一排液槽，所述第一排液槽与涂布头运动方向垂直，并具有至少一个倾斜侧壁；所述第一排液槽的底部设置有负压排液孔。
[0020] 在上述狭缝型挤压式涂布设备中，优选地，所述基底平台还包括用于减少基底背面污染的防污染组件；所述防污染组件包括至少一个挡液部和用于吸固基底的吸固件；所述挡液部紧贴于所述第一排液槽的内侧设置，包括弹性挡液条和由所述平台本体内凹形成的弹性挡液条容置区；所述吸固件吸固基底时，基底在吸固件和/或弹性挡液条的支撑下可平行于所述平台本体，并且，弹性挡液条的顶端不低于平台本体的上表面。
[0021] 本说明书提供的狭缝型挤压式涂布设备及其基底平台，通过在基底平台上设置带有倾斜侧壁且底部设置有负压排液孔的第一排液槽，从而可以使至少部分堆积于基底端部的过多涂布液排走，因此，可获得更均匀膜厚的薄膜。其原理是，当涂布头从基底的端部继续向前移动开始跨过第一排液槽时，涂布液被挤入第一排液槽，此时，由于第一排液槽倾斜侧壁的存在，使得进入第一排液槽中的涂布液与基底端部堆积的涂布液可以保持连续。进一步地，当处于第一排液槽中的涂布液被吸入负压排液孔(适当的负压)的同时，由于涂布液流动的粘性效应，可使基底端部堆积的至少部分溶液也可被带入第一排液槽，从而减少涂布液在基底端部的堆积量。
附图说明
[0022] 在此描述的附图仅用于解释目的，而不意图以任何方式来限制本
申请公开的范围。另外，图中的各部件的形状和比例尺寸等仅为示意性的，用于帮助对本申请的理解，并不是具体限定本申请各部件的形状和比例尺寸。本领域的技术人员在本申请的教导下，可以根据具体情况选择各种可能的形状和比例尺寸来实施本申请。在附图中：
[0023] 图1为本说明书一种实施方式中基底平台的俯视图；
[0025] 图3为本说明书另一种实施方式中基底平台的俯视图；
[0026] 图4为图3基底平台的正面剖视图；
[0027] 图5为本说明书另一种实施方式中基底平台的俯视图；
[0028] 图6为图5基底平台的正面剖视图。
[0029] 图7为本说明书一种实施方式中分隔挡板底端开有通孔的局部放大图。
[0030] 附图标号说明：
[0031] 1，平台本体；2，第一排液槽；3，基底定位区；4，负压排液孔；5，负压气孔；6，分隔挡板；7，弹性挡液条；8，第二排液槽。
具体实施方式
[0032] 下面将结合本申请实施方式中的附图，对本申请实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式仅仅是本申请一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本申请中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施方式，都属于本申请保护的范围。
[0033] 需要说明的是，当元件被称为“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“
水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
[0034] 除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本申请。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0035] 如图1和图2所示，本说明书实施方式提供的狭缝型挤压式涂布设备的基底平台，其可以包括：平台本体1；平台本体上表面内凹形成的第一排液槽2，第一排液槽2与涂布头运动方向垂直，并具有至少一个倾斜侧壁；第一排液槽2的底部设置有负压排液孔4。
[0036] 在本说明书实施方式中，基底平台是一种用于在涂布过程中放置基底的平台。涂布过程中，涂布头相对于平台进行相对移动，并在移动过程中挤出涂布液，涂布液被涂于基底上，从而形成薄膜。
现有技术中，在基底平台下、基底平台内部或者基底平台四周，一般可设置用于促进薄膜干燥、
加速内部反应的加热装置。
[0037] 在本说明书实施方式中，涂布头一般是从基底的一侧向另一侧进行直线移动，因此，对于基底而言，最开始被涂布的一端称为始端，最后被涂布的一端称为尾端。
[0038] 在现有技术中，当基底的端部有过多涂布液堆积时，液体虽然会顺着基底的垂向壁面走一部分，但是，由于涂布液具有一定的
粘度，如果仅依赖重
力作用，大部分过剩的涂布液是难以自行排走的。而本说明书提供的实施中，一方面是设置了用于引出涂布液的第一排液槽2；另一方面是通过负压排液孔4提供排液的外力。实际应用中，可将基底放置于紧贴第一排液槽2的倾斜侧壁一端的
位置，当涂布头从基底的端部继续向前移动开始跨过第一排液槽2时，涂布液被挤入第一排液槽，此时，由于第一排液槽倾斜侧壁(引流面)的存在，使得进入第一排液槽中的涂布液与基底端部堆积的涂布液可以保持连续。进一步地，当处于第一排液槽中的涂布液被吸入负压排液孔(适当的负压)的同时，由于涂布液流动的粘性效应，可使基底端部堆积的至少部分溶液也可被带入第一排液槽，从而减少涂布液在基底端部的堆积量。
[0039] 在本说明书实施方式中，对于第一排液槽2的底部形状，可以为平面或圆弧形。为了减少涂布液的残留，在一些优选实施方式中设置为圆弧形(如图6)。
[0040] 继续参照图1和图2，在本说明书实施方式中，为了便于涂布液的排出，负压排液孔最好设置在第一排液槽2的最低处。
[0041] 继续参照图1和图2，在本说明书实施方式中，倾斜侧壁是指相对于第一排液槽2的底部呈倒三角的坡面。在一些实施方式中，倾角大小可以为20°-80°。在另一些实施方式中，倾角大小可以优选为25°-75°；进一步优选为30°-60°。
[0042] 在本说明书的一些实施方式中，第一排液槽2的宽度和深度可根据实际情况确定，其长度一般至少与基底的宽度相等。对于一
块基底，由于尾端的涂布液堆积更明显，因此，可在尾端设置一个第一排液槽2。当然，为了能同时减少两端涂布液的堆积，可以在其两端部(沿涂布方向的端部)分别设置一个第一排液槽2。
[0043] 在本说明书的一些实施方式中，当在基底平台上放置多块基底一并涂布时，两块相邻的基底可共用一个第一排液槽2。此时，第一排液槽2可具有两个倾斜侧壁，从而满足两块基底的端部排液需求。
[0044] 参照图5和图6，在本说明书的一些实施方式中，第一排液槽2中还可设置分隔挡板6；分隔挡板的顶端不超出第一排液槽。由于涂布头到达基底尾端时，涂布头的狭缝还处于出液状态，分隔挡板6不仅可以将这部分液体更好的引入第一排液槽2中，；而且，挡板与玻璃基底间形成的缝隙效应有利于维持涂布液向第一排液槽2底部流动时的连续性，便于从端部更好的排液。另外，分隔挡板6还特别适用于两块基底共用一个第一排液槽2时的情况。
由于两块基底共用一个第一排液槽2时，有时需要把第一排液槽2设计的宽一些，此时，可使用分隔挡板分隔第一排液槽2的内部空间，这样可减少前后两块基底排液时的相互影响，也能维持较好的排液效果。另外，分隔挡板6一般可与第一排液槽2等长。分隔挡板6可以采用
焊接、嵌入等方式固定于第一排液槽2中，当然，也可以通过
支架固定。
[0045] 在本说明书的一些实施方式中，可将分隔挡板6的底端延伸至负压排液孔4的顶部。在另一些实施方式中，为了在底部较好的连通分隔空间，还可以在分隔挡板6的底端设置至少一个通孔。当然，也可以在分隔挡板6的两侧，分别设置负压排液孔4。
[0046] 继续参照图1和图2，在本说明书的一些实施方式中，基底平台还包括由平台本体上表面内凹形成的第二排液槽8，第二排液槽8与涂布头运动方向平行，且具有至少一个倾斜侧壁；第二排液槽8的底部设置有负压排液孔。第二排液槽8的主要作用是排出在基底侧端(平行于涂布头运动方向)堆积的涂布液。除了设置的位置与第一排液槽2有所区别外，其它均可参照第一排液槽2设置。在一些实施方式中，倾斜侧壁的倾角为20°-80°；倾角大小可以优选为25°-75°；进一步优选为30°-60°。在一些实施方式中，每块基底可以在两个侧端分别设置第二排液槽2。
[0047] 继续参照图1和图2，在本说明书的一些实施方式中，第一排液槽2和第二排液槽8可以形成连通。对于一个基底，当分别设置两个第一排液槽2和两个第二排液槽8时，它们共同围成用于放置基底的定位区。此时，涂布头可以选择从四个方向中的任意一个进行涂布，都能获得良好的涂布效果。另外，相邻的排液槽可互相连通，从而形成一个连通的环型通道。
[0048] 在本说明书的一些实施方式中，在引出基底端部堆积的涂布液时，一般情况下，需要顺着基底的侧壁排走。此时，由于基底背面与平台表面往往存在一些间隙，涂布液会在毛细作用下向基底背面扩散，从而导致基底背面的污染。这种情况下，会对基底的透光性造成影响。对于
太阳能电池，透光性的降低对工作效率具有显著的影响。同时，这种情况下，基底平台也会不可避免的受到污染，从而对后续基底的涂布造成持续影响。为此，本说明书提供了可在基底平台上设置防污染组件，以解决基底背面污染的方案。
[0049] 在本说明书的一些实施方式中，在基底平台上设置有防污染组件，防污染组件包括至少一个挡液部和用于吸固基底的吸固件；挡液部包括弹性挡液条和由平台本体内凹形成的弹性挡液条容置区；吸固件吸固基底时，基底在吸固件和/或弹性挡液条的支撑下可平行于平台本体，并且，弹性挡液条的顶端高于平台本体的表面。图3和图4示出了上述方案的一种实施方式，其是综合了排液槽和设置防污染组件的应用方式。但是，上述防止背面污染的方式完全可以单独应用，并不一定要与设置排液槽的方案联用。实现防污染的原理是，当将基底的端部放置在该防污染组件的弹性挡液条上时，在吸固件的作用力下，弹性挡液条可发生形变，从而在基底端部的背面和平台之间形成紧密填充，阻隔涂布液向该基底端部背面的扩散。一般情况下，在放置基底时，可将基底的侧壁与挡液条的外侧向齐平(即，挡液条完全位于基底下)。
[0050] 在本说明书提供的设置防污染组件的实施方式中，为了尽量阻隔涂布液向基底背面的扩散，一般可将弹性档液条略长于基底端部。当然，容置区的长度至少与弹性挡液条的长度适配。
[0051] 在本说明书提供的设置防污染组件的实施方式中，由于弹性档液条依靠其形变填充硬性表面(基底背面、基底平台)的微小凹凸，因此，可选择本领域中合适的弹性材料制作。一般要求其不与涂布溶液反应，也不易与基底粘结或反应。另外，本领域技术人员可根据需要选择合适高度的弹性挡液条，只要满足吸固件吸固基底时，弹性挡液条的顶端高于平台本体的表面即可。
[0052] 在本说明书提供的设置防污染组件的实施方式中，由于基底尾端的涂布液堆积最严重，因此，可优先在基底的尾端置于挡液部(实际应用中，将基底放置在合适的位置即可)。当然，对于基底首端以及两个侧端，也可以根据需要，按照合适的尺寸在基底平台上设置挡液部。
[0053] 在本说明书提供的设置防污染组件的实施方式中，如果仅在基底的某一个或某几个端部设置防污染组件，为了保持涂布时基底的水平状态(吸固件吸固基底时)，可在基底平台的合适位置设置辅助的支撑部件。在本说明书的一些实施方式中，也可将吸固件作为支撑部件，使基底达到水平状态。此时，由于吸固件需要直接与基底背面接触，因此，可选择顶部带有
吸盘的吸固件。但是，如果这些辅助支撑部件同时具有密封效果，可以使辅助支撑部件与一个或某几个端部围成封闭区域，使基底置于该封闭区域上时，可在负压下形成密封空间。此时，吸固件由于无需起支撑作用，因此，位于封闭区域中的吸固件可以采用非接触形式，例如负压气孔等。例如，图3和图4所示出的实施方式中，该基底平台上设置有四个弹性挡液条，弹性挡液条首尾相接围成封闭区域，此时，封闭区域中的吸固件可以为若干个负压气孔。实际中，四个弹性挡液条可以被一个弹性圈7替代。
[0054] 在本说明书的一些实施方式中，可以将设置排液槽和设置防污染组件进行联用，从而达到既能有效排出端部堆积的涂布液又能避免基底背面污染的效果。在联用时，可将防污染组件靠近于第一排液槽2或第二排液槽8布置，放置基底时，只要第一排液槽2或第二排液槽8在基底端部的外侧，而防污染组件中的弹性挡液条在基底端部内侧(基底端部下方)即可。
[0055] 在本说明书的一些实施方式中，当第一排液槽2设置有分隔挡板6时，其顶端可高于吸固件吸固基底时弹性挡液条7的顶端。这样可使分隔挡板6充分发挥其引流、助排作用。当然，在另一些实施方式中，必要时，也可以在第二排液槽8中设置分隔挡板6。
[0056] 在本说明书的一些实施方式中，防污染组件靠近于排液槽布置，此时，二者可紧贴设置，紧贴的极限是在排液槽的倾斜侧壁的靠上部位凿出弹性挡液条容置腔。例如，图3和图5示出的实施方式。
[0057] 继续参照图3和图4，该基底平台包括一个由两个第一排液槽2和两个第二排液槽8围成的用于放置基底的定位区；挡液部紧贴于第一排液槽2和第二排液槽8的内侧设置，定位区中的吸固件为6个均匀布置的负压气孔5。
[0058] 参照图5和图6，该基底平台是在图3和图4实施方式的
基础上，在第一排液槽2和两个第二排液槽8中还设置了分隔挡板6，并且在分隔挡板6的底部开有通孔。图7一实施方式中，分隔挡板底端开有通孔的局部放大图。
[0059] 需要说明的是，在本说明书的描述中，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的和区别类似的对象，两者之间并不存在先后顺序，也不能理解为指示或暗示相对重要性。此外，在本说明书的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
[0060] 应该理解，以上描述是为了进行图示说明而不是为了进行限制。通过阅读上述描述，在所提供的示例之外的许多
实施例和许多应用对本领域技术人员来说都将是显而易见的。因此，本教导的范围不应该参照上述描述来确定，而是应该参照前述
权利要求以及这些权利要求所拥有的等价物的全部范围来确定。出于全面之目的，所有文章和参考包括
专利申请和公告的公开都通过参考结合在本文中。在前述权利要求中省略这里公开的主题的任何方面并不是为了放弃该主体内容，也不应该认为
申请人没有将该主题考虑为所公开的说明书主题的一部分。
