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一种漩涡式研磨抛光机研磨桶结构

阅读:339发布:2020-05-11

专利汇可以提供一种漩涡式研磨抛光机研磨桶结构专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 提供一种漩涡式 研磨 抛光 机研磨桶结构,包括桶本体,所述桶本体包括桶座和固定在所述桶座上的上桶;所述桶本体内设有转盘,所述转盘下方连接有带动所述转盘旋转的 主轴 以及用于将所述主轴安装在所述桶本体内的主轴座;在上桶内壁上设有多道沿着所述上桶内侧周向排布的沟槽。所述上桶的内壁以及所述转盘的截面均为弧形曲面。,下面是一种漩涡式研磨抛光机研磨桶结构专利的具体信息内容。

1.一种漩涡式研磨抛光机研磨桶结构,其特征在于,包括桶本体,所述桶本体包括桶座和固定在所述桶座上的上桶;所述桶本体内设有转盘,所述转盘下方连接有带动所述转盘旋转的主轴以及用于将所述主轴安装在所述桶本体内的主轴座;在上桶内壁上设有多道沿着所述上桶内侧周向排布的沟槽。
2.根据权利要求1所述的漩涡式研磨抛光机研磨桶结构,其特征在于,所述主轴座贯穿所述桶座底部并与所述桶座底部固定,所述主轴座构造有空腔,所述空腔内设有用于安装所述主轴的轴承
3.根据权利要求2所述的漩涡式研磨抛光机研磨桶结构,其特征在于,所述上桶的内壁以及所述转盘的截面均为弧形曲面。

说明书全文

一种漩涡式研磨抛光机研磨桶结构

技术领域

[0001] 本发明涉及研磨抛光机领域,特别涉及一种漩涡式研磨抛光机研磨桶结构。

背景技术

[0002] 研磨抛光机是针对加工工件进行抛光的机器设备。现有的研磨抛光机包括一个研磨桶,研磨桶里面的转盘由电机主轴带动,做回转运动。在研磨桶内部具有转盘,在转盘上放置待抛光的工件和研磨介质,转盘转动时,研磨介质和工件在离心的作用下向外运动,并沿着转盘/研磨桶向外向上运动,在运动过程中,通过研磨介质和工件之间的相对运动产生的碰撞和摩擦来研磨抛光工件。但上桶没有沟槽或者上桶内壁截面是直的,相对运动过程中产生的摩擦和碰撞减少,此时研磨抛光效率较低。
[0003] 因鉴于此,特提出本发明。

发明内容

[0004] 本发明的目的在于提供一种漩涡式研磨抛光机研磨桶结构,可以增加工件和研磨介质在相对运动中的摩擦和碰撞,提高研磨抛光效率。
[0005] 为实现上述目的,本发明提供一种漩涡式研磨抛光机研磨桶结构,其特征在于,包括桶本体,所述桶本体包括桶座和固定在所述桶座上的上桶;所述桶本体内设有转盘,所述转盘下方连接有带动所述转盘旋转的主轴以及用于将所述主轴安装在所述桶本体内的主轴座;在上桶内壁上设有多道沿着所述上桶内侧周向排布的沟槽。
[0006] 进一步地,所述主轴座贯穿所述桶座底部并与所述桶座底部固定,所述主轴座构造有空腔,所述空腔内设有用于安装所述主轴的轴承
[0007] 进一步地,所述上桶的内壁以及所述转盘的截面均为弧形曲面。
[0008] 与现有技术相比,本发明的具有如下有益效果:在研磨桶内转盘上方的上桶的内壁设置有多道周向布置的沟槽,上桶的内壁以及所述转盘的截面均为弧形曲面,工件和研磨介质在离心运动下逐渐上升,和沟槽及上桶的内壁以及所述转盘的弧形表面发生碰撞改变运动方向和轨迹,从而使得工件和研磨介质之间的相对运动发生变化,增加研磨介质和工件的翻转,加剧研磨介质和工件之间的相对运动,从而提高研磨抛光的效率。附图说明
[0009] 图1为本发明实施例提供的一种漩涡式研磨抛光机研磨桶结构。
[0010] 图中:1-桶座;2-上桶;3-转盘;4-主轴;5-沟槽;6-主轴座;7-轴承;

具体实施方式

[0011] 下面将参考附图中示出的若干示例性实施方式来描述本发明的原理和精神。应当理解,描述这些实施方式仅仅是为了使本领域技术人员能够更好地理解进而实现本发明,而并非以任何方式限制本发明的范围。
[0012] 请参考图1,本发明实施例提供一种漩涡式研磨抛光机研磨桶结构,包括桶本体,桶本体由桶座1和固定在桶座1上方的上桶2组成。桶座1内设有转盘3,转盘3下方连接有带动转盘3旋转的主轴4,以及用于将主轴4安装在桶座1内的主轴座6;在上桶2内壁上设有多道沿着所述上桶内侧周向排布的沟槽5。多道沟槽5为齿状构造,因此可以称为齿形沟槽。
[0013] 上桶2和转盘3组成容纳研磨介质和工件的研磨空间。
[0014] 安装部包括贯穿桶座1底部并与桶座1底部固定的主轴座6,主轴座6大体上为圆柱体,在内部构造有空腔,空腔内设有轴承7,轴承7与主轴4配合。
[0015] 上桶2的内壁以及转盘3的表面均为弧形曲面,有利于增加工件和研磨介质的翻转,加剧工件和研磨介质之间的相对运动。
[0016] 工作时,将工件和研磨介质置入到上桶2内,放置在转盘3上,工件和研磨介质在离心运动下逐渐上升,和沟槽5及弧形曲面发生碰撞改变运动方向和轨迹,从而使得工件和研磨介质之间的相对运动发生变化,增加研磨介质和工件的翻转,加剧研磨介质和工件之间的相对运动,从而提高研磨抛光的效率。
[0017] 本文中应用了具体个例对发明构思进行了详细阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的核心思想。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离该发明构思的前提下,所做的任何显而易见的修改、等同替换或其他改进,均应包含在本发明的保护范围之内。
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