技术领域
[0001] 本
发明属于光学元件加工技术领域，具体涉及一种用于精密光学元件的清洗装置。
背景技术
[0002] 随着光学仪器技术的不断发展，光学元件的洁净度指标也日益提高，较低的洁净度会使光学系统的性能明显下降，光学仪器的性能无法得到实现，在投影
光刻物镜的应用领域，光学元件的洁净度尤其重要，细化到光学元件表面有机物的残余都需要降至很低。
[0003]
投影光刻物镜的装配过程中，为获得良好的光学性能需要，对光学系统中光学元件的面形
质量要求很高，从而相应地需要对光学元件进行深层次的细致清洁，以使光学加工质量得到保证。
[0004] 现有传统清洗手段能够使光学元件达到一定的洁净度，但各工序的清洗环境往往难以得到保证、且清洗效率较低，劳动强度偏高，
专利CN101204706A提到了一种光学元件清洗方法，利用包括超声在内的多步清洗对光学元件进行清洁，但未提到如何使各工序操作空间进行有序分离，因此需要一种将光学元件清洗所需洁净环境集成起来并实现各工序连续操作的清洗装置。
发明内容
[0005] 本发明的目的是为了解决现有的光学原件的清洗方法清洗效率较低、劳动强度偏高的问题，而提供一种用于精密光学元件的清洗装置。
[0006] 本发明提供一种用于精密光学元件的清洗装置，该装置包括上
挡板、前挡板、后挡板、左挡板、右挡板、左拉
门、右拉门、传送带、操作台、洁净手套、空气过滤模
块、工序隔板、强光手电、
清洗剂和清洗工具盒；
[0007] 所述的空气过滤模块设置在上挡板上，左拉门和右拉门分别设置在左挡板和右挡板上，传送带设置在操作台上；
[0008] 所述的上挡板、前挡板、后挡板、左挡板和右挡板形成一个
密闭空间，工序隔板设置在密闭空间内，且将密闭空间隔成多个工位，清洗剂和清洗工具盒分别设置在各个工位上，强光手电固定在密闭空间的上挡板上；
[0009] 所述的前挡板还设置观察窗和两个操作孔，洁净手套通过两个操作孔插入密闭空间对被清洗光学原件进行清洗。
[0010] 本发明所述的装置还包括镜片托盘，所述的镜片托盘设置在传送带上，用于传送被清洗光学原件。
[0011] 本发明所述的工序隔板将密闭空间隔成三个工位。
[0012] 本发明所述的清洗剂和清洗工具盒分离设置在各个工位上。
[0013] 本发明所述的强光手电通过手电柔性架固定在密闭空间的上挡板上。
[0014] 本发明所述的装置还包括压缩空气气枪，所述的压缩空气气枪设置在密闭空间内。
[0015] 本发明的有益效果
[0016] 本发明提供一种用于精密光学元件的清洗装置，和
现有技术相对比，本发明将清洗光学元件所需的暗室、
洁净室、强光
光源、清洗剂、清洗工具结合起来，大大节省了清洗光学元件的空间需求和时间消耗，各工序之间分离开避免交叉污染，并采用自动传送带以提高清洗效率，降低劳动强度，且应用范围广泛。
附图说明
[0017] 图1为本发明用于精密光学元件的清洗装置的整体结构示意图。
[0018] 图2为本发明用于精密光学元件的清洗装置的内部结构示意图。
[0019] 图3为本发明用于精密光学元件的清洗装置中各工位示意图。
[0020] 图4为本发明用于精密光学元件的清洗装置手电柔性架示意图。
[0021] 图5为本发明用于精密光学元件的清洗装置前挡板示意图。
[0022] 图6为本发明用于精密光学元件的清洗装置上挡板示意图。
[0023] 图7为本发明用于精密光学元件的清洗装置加入压缩空气气枪后的局部示意图。
[0024] 图中：1、上挡板，1-1、空气交换窗，1-2、空气过滤模块安装孔，1-3、上挡板安装孔，2、被清洗光学元件，3、镜片托盘，4、传送带，5、操作台，6、洁净手套，7、右拉门，8、右挡板，9、空气
过滤器模块，10、前挡板，10-1、观察窗，10-2、操作孔，10-3、洁净手套压圈安装孔，11、后挡板，12、左挡板，13、左拉门，14、工序隔板，15、强光手电，16、手电柔性架，16-1、夹头，
16-2、可调节臂，16-3、安装
法兰，17、清洗剂，18、清洗工具盒，19、侧
支架，20、洁净手套压圈，21、压缩空气气枪。
具体实施方式
[0025] 结合图1～2说明本实施方式，一种用于精密光学元件的清洗装置，该装置包括上挡板1、前挡板10、后挡板11、左挡板12、右挡板8、左拉门13、右拉门7、传送带4、操作台5、洁净手套6、空气过滤模块9、工序隔板14、强光手电15、清洗剂17和清洗工具盒18；
[0026] 所述的空气过滤模块9设置在上挡板1的两侧，左拉门13和右拉门7分别设置在左挡板12和右挡板8上，传送带4嵌入操作台5的空隙中；所述的上挡板1、前挡板10、后挡板11、左挡板12和右挡板8形成一个密闭空间，前挡板10、后挡板11、左挡板12和右挡板8之间通过侧支架19连接并固定，工序隔板14设置在密闭空间内，且将密闭空间隔成多个工位，清洗剂17和清洗工具盒18分别设置在各个工位上，强光手电15固定在密闭空间的上挡板1上；所述的前挡板10还设置观察窗10-1和两个操作孔10-2，洁净手套6通过两个操作孔10-2插入密闭空间对被清洗光学原件2进行清洗。
[0027] 本实施方式所述的装置还包括镜片托盘2，所述的镜片托盘2设置在传送带4上，用于传送被清洗光学原件2。
[0028] 结合图3说明本实施方式，本实施方式所述的密闭空间可以通过调整
工作台和挡板的尺寸被工序隔板14隔成多个工位，优选为三个工位，各个工位放置不同的清洗剂17和清洗工具盒18，所述的清洗剂17和清洗工具盒18优选是分离放置在各个工位上的，避免交叉污染，可将清洗工具盒18固定在两个工序隔板14之间，清洗剂17设置在清洗工具盒18的下方；所述的清洗工具盒18内可放置软毛刷、
棉签、无尘布等各种光学清洗工具和耗材，清洗剂17可根据被清洗光学原件的不同在每个工位上放入不同的清洗剂17，所述的清洗剂可以为纯酒精、丙
酮(5％)或去离子
水。
[0029] 结合图4说明本实施方式，本实施方式所述的强光手电15通过手电柔性架16固定在密闭空间的上挡板1上，所述的手电柔性架16包括夹头16-1、柔性臂16-2、安装法兰16-3三个部分，夹头16-1用于夹持强光手电15，安装法兰16-3安装于上挡板1上，柔性臂
16-2可被弯曲至任意方向，使被夹头16-1夹持的强光手电15指向各工位，实现对被清洗对象的照明功能，提高观察效率。
[0030] 结合图5说明本实施方式，本实施方式所述的前挡板10上设置一个观察窗10-1、两个操作孔10-2和8处洁净手套压圈安装孔10-3，观察窗用于观察被清洗光学原件2在密闭空间内的清洗情况，洁净手套6通过两个操作孔10-2插入密闭空间对被清洗光学原件2进行清洗，洁净手套压圈20将洁净手套6的末端紧紧压在前挡板10上，以确保密闭空间的
密封性，在清洗过程结束后，洁净手套6可以较方便的更换。
[0031] 结合图6说明本实施方式，本实施方式所述的上挡板1上设置2处空气交换窗1-1、8处空气过滤模块安装孔1-2及4处上挡板安装孔1-3，所述的空气过滤模块9通过8处空气过滤模块安装孔1-2安装在空气交换窗1-1处，远离清洗工位，使换气气流不直接吹拂到各清洗工位，保证各清洗工位的洁净度。空气过滤模块可按照需求制备成不同过滤粒径
阈值的
空气过滤器，如0.3μm粒径空气过滤器，2μm粒径空气过滤器，并加入气压控
制模块使清洗工作台内部操作空间气压略高于外部气压，空气过滤模块的参数，如
滤芯孔径，最大流量等，根据被清洗光学元件的要求而定。
[0032] 结合图7说明本实施方式，本实施方式所述的装置还包括压缩空气气枪21，所述的压缩空气气枪21设置在密闭空间内，可在后挡板11上预留一气路
接口，用于引入洁净压缩空气，在引入的气管一端安装一压缩空气气枪，在整个清洗流程完毕后，用压缩空气气枪21吹干表面。
[0033] 本实施方式所述的清洗装置，在对被清洗光学原件2进行清洗前，先打开空气过滤模块9一段时间，待密闭空间的空气相对洁净后，将镜片托盘3放到左拉门13左侧的传动带4上，被清洗光学原件2放在镜片托盘3，开动传送带4，拉开左拉门13，打开强光手电15，调节手电柔性架16使其对准工位1，使带有被清洗光学元件2的镜片托盘3被传送到由各工序隔板14形成的密闭空间内，当被清洗光学元件2被传送到工位1时，暂停传送带4，将手伸入洁净手套6内，进行工序1的清洁工作，工位1的清洗工序完成后，开动传送4带使其进入下一工序，调节手电柔性架16使其对准第二工位，在工位2进行相应工序清洗，如此依次完成各步骤的清洗工作后，最后用压缩空气气枪21吹干被清洗光学元件2的表面，拉开右拉门7，通过传送带4将被清洗光学元件2传送至操作台外部，完成整个清洗流程。
[0034] 所述的被清洗光学元件2的清洗过程完成后，拉上右拉门7，并进行换气，排去清洗过程中产生的残余挥发性气体，使密闭空间内的空气得到进一步洁净后，关闭清洗工作台的空气过滤模块。
