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一种具有保护层的光学薄膜、纳米结构色晶体及制备方法

阅读:671发布:2020-05-08

专利汇可以提供一种具有保护层的光学薄膜、纳米结构色晶体及制备方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 申请 公开了一种具有保护层的光学 薄膜 、纳米结构色晶体及制备方法,该具有保护层的光学薄膜,包括多层光学介质层以及设置在多层光学介质层两侧的第一保护层和第二保护层;在光学薄膜 粉碎 时,第一保护层和第二保护层用于保护多层光学介质层;其中,第一保护层的光学厚度的范围为入射 波长 的三十分之一至二分之一,第二保护层的光学厚度范围为入射波长的三十分之一至二分之一,入射光波长的范围为380-780纳米。通过上述方式,本申请能够保护多层光学介质层,避免现有粉碎方法所造成的光学薄膜碎片表面损伤,进而提高光学涂料的 亮度 。,下面是一种具有保护层的光学薄膜、纳米结构色晶体及制备方法专利的具体信息内容。

1.一种具有保护层的光学薄膜,其特征在于,包括多层光学介质层以及设置在所述多层光学介质层两侧的第一保护层和第二保护层;
在所述具有保护层的光学薄膜粉碎时,所述第一保护层和所述第二保护层用于保护所述多层光学介质层;
其中,所述第一保护层的光学厚度的范围为入射波长的三十分之一至二分之一,所述第二保护层的光学厚度范围为所述入射波长的三十分之一至二分之一,所述入射光波长的范围为380-780纳米。
2.根据权利要求1所述的光学薄膜,其特征在于,
所述多层光学介质层的两侧表面上设有光学介质层,所述光学介质层的材料包括聚合物、有机金属材料、有机无机杂化材料或金属化物中的至少一种;
所述第一保护层的光学厚度的范围为入射波长的三十分之一至二十分之一,所述第二保护层的光学厚度的范围为入射波长的三十分之一至二十分之一。
3.根据权利要求2所述的光学薄膜,其特征在于,
所述光学介质层的材料包括二氧化、五氧化二钽、五氧化二铌、硫化锌、二氧化锆、一氧化二氧化硅或氟化镁中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的光学薄膜,其特征在于,
所述光学介质层的材料包括元素金属、金属合金中的至少一种;
所述第一保护层的光学厚度的范围为入射波长的四分之一至二分之一,所述第二保护层的光学厚度的范围为入射波长的四分之一至二分之一。
5.根据权利要求4所述的光学薄膜,其特征在于,
所述光学介质层的材料包括、铑、钌、铬、、金、钯、铂、镍或锌中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的光学薄膜,其特征在于,
所述第一保护层的折射率和所述第二保护层的折射率小于或等于1.7。
7.根据权利要求2或4所述的光学薄膜,其特征在于,
所述第一保护层和所述第二保护层的材料包括二氧化硅、氟化镁或氧化铝中的至少一种。
8.一种纳米结构色晶体,其特征在于,所述纳米结构色晶体为如上述权利要求1-7任一项所述的具有保护层的光学薄膜的碎片,每一所述纳米结构色晶体的总层数与所述具有保护层的光学薄膜的总层数相同,每一所述纳米结构色晶体的多层光学介质层的光学性质与所述具有保护层的光学薄膜的多层光学介质层的光学性质相同。
9.一种纳米结构色晶体的制备方法,其特征在于,所述方法包括:
提供一基层
将脱膜剂涂覆于所述基层表面以形成一牺牲层;
在所述牺牲层上设置第一保护层;
在所述第一保护层上设置多层光学介质层;
在所述多层光学介质层上设置第二保护层;
去除所述牺牲层以形成所述具有保护层的光学薄膜;
将所述具有保护层的光学薄膜碎化;
过筛后得到所述纳米结构色晶体。
10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述将所述具有保护层的光学薄膜碎化的步骤包括:
将混有所述具有保护层的光学薄膜的溶液置入声波溶液中,并进行超声处理以使所述具有保护层的光学薄膜碎化。

说明书全文

一种具有保护层的光学薄膜、纳米结构色晶体及制备方法

技术领域

[0001] 本申请涉及反光涂料技术领域,特别是涉及一种具有保护层的光学薄膜、纳米结构色晶体及制备方法。

背景技术

[0002] 光学薄膜是通过PVD膜制备的纳米级的具有光学特性的薄膜。现有技术中,通常将光学薄膜粉碎以制成纳米结构色晶体,纳米结构色晶体可以用于制备光学涂料。目前,光学薄膜的粉碎方法主要有如下两种:声波粉碎法和气流粉碎机粉碎法。
[0003] 本申请的发明人在长期的研发过程中,发现这两种粉碎方法容易导致光学薄膜碎片的表面损伤,光学涂料的亮度下降,导致影响光学涂料效果。

发明内容

[0004] 本申请主要解决的技术问题是提供一种具有保护层的光学薄膜、纳米结构色晶体及其制备方法,能够保护多层光学介质层,避免现有粉碎方法所造成的光学薄膜碎片表面损伤,进而提高光学涂料的亮度。
[0005] 为解决上述技术问题,本申请采用的一个技术方案是:提供一种具有保护层的光学薄膜,包括多层光学介质层以及设置在多层光学介质层两侧的第一保护层和第二保护层;在具有保护层的光学薄膜粉碎时,第一保护层和第二保护层用于保护多层光学介质层;其中,第一保护层的光学厚度的范围为入射波长的三十分之一至二分之一,第二保护层的光学厚度范围为入射波长的三十分之一至二分之一,入射光波长的范围为380-780纳米。
[0006] 其中,多层光学介质层的两侧表面上设有光学介质层,光学介质层的材料包括聚合物、有机金属材料、有机无机杂化材料或金属化物中的至少一种;第一保护层的光学厚度的范围为入射波长的三十分之一至二十分之一,第二保护层的光学厚度的范围为入射波长的三十分之一至二十分之一。
[0007] 其中,光学介质层的材料包括二氧化、五氧化二钽、五氧化二铌、硫化锌、二氧化锆、一氧化二氧化硅或氟化镁中的至少一种。
[0008] 其中,光学介质层的材料包括元素金属、金属合金中的至少一种;第一保护层的光学厚度的范围为入射波长的四分之一至二分之一,第二保护层的光学厚度的范围为入射波长的四分之一至二分之一。
[0009] 其中,光学介质层的材料包括、铑、钌、铬、、金、钯、铂、镍或锌中的至少一种。
[0010] 其中,第一保护层的折射率和第二保护层的折射率小于或等于1.7。
[0011] 其中,第一保护层和第二保护层的材料包括二氧化硅、氟化镁或氧化铝中的至少一种。
[0012] 为解决上述技术问题,本申请采用的另一个技术方案是:提供一种纳米结构色晶体,纳米结构色晶体为具有保护层的光学薄膜的碎片,每一纳米结构色晶体的总层数与具有保护层的光学薄膜的总层数相同,每一纳米结构色晶体的多层光学介质层的光学性质与具有保护层的光学薄膜的多层光学介质层的光学性质相同。
[0013] 为解决上述技术问题,本申请采用的又一个技术方案是:提供一种纳米结构色晶体的制备方法,该方法包括:提供一基层;将脱膜剂涂覆于基层表面以形成一牺牲层;在牺牲层上设置第一保护层;在第一保护层上设置多层光学介质层;在多层光学介质层上设置第二保护层;去除牺牲层以形成具有保护层的光学薄膜;将具有保护层的光学薄膜碎化;过筛后得到纳米结构色晶体。
[0014] 其中,将具有保护层的光学薄膜碎化的步骤包括:将混有具有保护层的光学薄膜的溶液置入超声波溶液中,并进行超声处理以使具有保护层的光学薄膜碎化。
[0015] 本申请的有益效果是:区别于现有技术的情况,本申请的多层光学介质层两侧设置有第一保护层和第二保护层,在光学薄膜粉碎时,第一保护层和第二保护层用于保护多层光学介质层,避免现有粉碎方法所造成的光学薄膜碎片表面损伤,有利于增加可见光的反射效果,进而提高光学涂料的亮度。附图说明
[0016] 为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。其中:
[0017] 图1是本申请一种具有保护层的光学薄膜一实施方式的结构示意图;
[0018] 图2是本申请一种具有保护层的光学薄膜另一实施方式的结构示意图;
[0019] 图3是本申请一种具有保护层的光学薄膜又一实施方式的结构示意图;
[0020] 图4是本申请一种纳米结构色晶体的制备方法一实施方式的流程示意图;
[0021] 图5是本申请一种具有保护层的光学薄膜再一实施方式的结构示意图。

具体实施方式

[0022] 下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
[0023] 参阅图1和图2。本申请提供一种具有保护层的光学薄膜10,该具有保护层的光学薄膜10包括多层光学介质层12以及设置在多层光学介质层12两侧的第一保护层11和第二保护层13;在具有保护层的光学薄膜10粉碎时,第一保护层11和第二保护层13用于保护多层光学介质层12;其中,第一保护层11的光学厚度的范围为入射波长的三十分之一至二分之一,第二保护层13的光学厚度范围为入射波长的三十分之一至二分之一,入射光波长的范围为380-780纳米。
[0024] 具体的,具有保护层的光学薄膜10可以用于制作涂料。多层光学介质层12可以是具有交替沉积有第一折射率光学膜层L1、L2和第二折射率光学膜层H1、H2、H3的结构,其中,第一折射率不同于第二折射率。例如,第一折射率光学膜层L1、L2的材料可以为折射率小于或等于1.6的光学材料,第二折射率光学膜层H1、H2、H3的材料可以为折射率大于或等于2.3的光学材料。多层光学介质层12的总层数大于或等于5,且总层数为奇数,例如,5层、9层、13层。
[0025] 其中,第二折射率光学膜层H1、H2、H3的光学厚度和第一折射率光学膜层L1、L2的光学厚度可以为入射光波长的四分之一的整数倍,入射光波长的范围为380-780纳米。在其他实施例中,第二折射率光学膜层H1、H2、H3的光学厚度和第一折射率光学膜层L1、L2的光学厚度并不限定为光学厚度为入射光波长的四分之一的整数倍。需要注意的是,各个第二折射率光学膜层H1、H2、H3的光学厚度和第一折射率光学膜层L1、L2的光学厚度等参数可根据实际情况自行设定。
[0026] 需要注意的是,多层光学介质层12所包含的具体膜层数量、各膜层的具体材质和折射率、各膜层的厚度等参数可根据实际情况自行设定,以充分提高本实施例的多层光学介质层12的适应能和应用广泛性。本实施例的多层光学介质层12的各膜层的折射率、厚度可以不同,多层光学介质层12的各膜层的厚度也可以相同,具体可以根据光学导纳和光学特征矩阵推算得出,本实施例对其推算过程不作详细叙述。
[0027] 为了避免对多层光学介质层12的亮度造成影响,本申请的第一保护层11的光学厚度的范围需要控制在入射波长的三十分之一至二分之一(例如三十分之一、二十分之一、四分之一或二分之一),和第二保护层13的光学厚度的范围需要控制在入射波长的三十分之一至二分之一(例如三十分之一、二十分之一、四分之一或二分之一),入射光波长的范围为380-780纳米。例如,第一保护层11的光学厚度为12.7纳米、19纳米、26纳米、39纳米、95纳米、190纳米、390纳米等,在此不做限定。应当理解,第一保护层11和第二保护层13的折射率越低,越不影响多层光学介质层12的光学亮度。
[0028] 区别于现有技术的情况,本申请的多层光学介质层12两侧设置有第一保护层11和第二保护层13,在具有保护层的光学薄膜10粉碎时,第一保护层11和第二保护层13用于保护多层光学介质层12,避免现有粉碎方法所造成的光学薄膜碎片表面损伤,有利于增加可见光的反射效果,进而提高光学涂料的亮度。
[0029] 请参阅图3,在一实施例中,多层光学介质层12的两侧表面上设有光学介质层14,光学介质层14的材料包括聚合物、有机金属材料、有机无机杂化材料或金属氧化物中的至少一种。第一保护层11的光学厚度的范围为入射波长的三十分之一至二十分之一,第二保护层13的光学厚度的范围为入射波长的三十分之一至二十分之一。
[0030] 具体的,光学介质层14可以为上述实施例中的第一折射率光学膜层或第二折射率光学膜层。例如,光学介质层14可以为交联聚合物、金属氧化物、金属氮化物、金属化物、金属化物、金属氧氮化物、金属碳氧化物或金属硼氧化物中的一种。其中,光学介质层14的材料可以包括二氧化钛、五氧化二钽、五氧化二铌、硫化锌、二氧化锆、一氧化硅、二氧化硅或氟化镁中的至少一种。此时,第一保护层11的光学厚度的范围为入射波长的三十分之一至二十分之一(例如三十分之一、二十四分之一或二十分之一),第二保护层13的光学厚度的范围为入射波长的三十分之一至二十分之一(例如三十分之一、二十四分之一或二十分之一)。
[0031] 其中,在一实施例中,光学介质层14的材料包括元素金属、金属合金中的至少一种;第一保护层11的光学厚度的范围为入射波长的四分之一至二分之一,第二保护层13的光学厚度的范围为入射波长的四分之一至二分之一。
[0032] 具体的,光学介质层14可以为上述实施例中的第一折射率光学膜层或第二折射率光学膜层。例如,光学介质层14的材料包括元素金属、金属合金中的至少一种。第一保护层11的光学厚度的范围为入射波长的四分之一至二分之一(例如四分之一、三分之一或二分之一),第二保护层13的光学厚度的范围为入射波长的四分之一至二分之一(例如四分之一、三分之一或二分之一)。其中,光学介质层14的材料可以包括银、铜、铑、钌、铬、铝、金、钯、铂、镍或锌中的至少一种。
[0033] 其中,在一实施例中,第一保护层11的折射率和第二保护层13的折射率小于或等于1.7。第一保护层11和第二保护层13的材料包括二氧化硅、氟化镁或氧化铝中的至少一种。
[0034] 本申请还提供一种纳米结构色晶体,纳米结构色晶体为上述实施例中的具有保护层的光学薄膜10的碎片,每一纳米结构色晶体的总层数与具有保护层的光学薄膜10的总层数相同,每一纳米结构色晶体的多层光学介质层12的光学性质与具有保护层的光学薄膜10的多层光学介质层12的光学性质相同。
[0035] 具体的,可以将上述实施例中具有保护层的光学薄膜10粉碎成碎片,以得到纳米结构色晶体,此过程没有特殊限制,采用现有技术中的超声粉碎机或气流粉碎机即可完成。每一纳米结构色晶体的总层数与具有保护层的光学薄膜10的总层数相同,每一纳米结构色晶体的多层光学介质层12的光学性质与具有保护层的光学薄膜10的多层光学介质层12的光学性质相同。
[0036] 进一步地,该纳米结构色晶体可以按照预设质量比与粘性溶液进行物理混合,搅拌均匀,即可以得到含有纳米结构色晶体的涂料,由于纳米结构色晶体变为涂料的形式,所以其具有在任意曲面随形附着的特性。
[0037] 需要注意的是,涂料可以为变色涂料或不变色涂料。涂料的变色特性可以通过对用于制作涂料的多层光学介质层12的适当设计来控制。在某一度的变色取决于在光学膜层的综合折射率。通过改变相关参数,如多层光学介质层12各膜层的厚度和各膜层的折射率,可以得到所需的效果。在不同的观察角或入射角出现的颜色变化是各层材料的选择吸收和波长相关干涉效果相结合的结果。由多重反射的光波的叠加而产生的干涉效果是在不同的角度产生变色的主要因素。
[0038] 请参见图4和图5,本申请还提供一种纳米结构色晶体的制备方法,该制备方法包括以下步骤:
[0039] S101:提供一基层15。
[0040] 具体的,为了更好地检测各光学介质层14的折射率,基层15需要透过光线,因此,基层15可以为透明的基板,例如,透明玻璃基板、聚乙烯硬塑料等。优选的,基层15可以为无色透明的合成树脂。在此不做限定。
[0041] S102:将脱膜剂涂覆于基层15表面以形成一牺牲层16。
[0042] 具体的,可以先在步骤S101的基层15上涂覆脱膜剂以制备牺牲层16,然后在牺牲层16上依次制备第一保护层11、多层光学介质层12的各个膜层和第二保护层13,再将带有第一保护层11、多层光学介质层12和第二保护层13的基层15置于剥离液中,牺牲层16被剥离液溶解,具有保护层的光学薄膜10从基层15上剥离。其中,脱膜剂的材料易溶于剥离液,且剥离液不溶解具有保护层的光学薄膜10。
[0043] S103:在牺牲层16上设置第一保护层11。
[0044] 具体的,可以采用电子蒸发、热蒸发法、溅射中的至少一种方法在牺牲层16上形成第一保护层11。其中,第一保护层11请参见上述实施例中具有保护层的光学薄膜10的第一保护层11。在此不做赘述。
[0045] 操作过程为:先在沉积室中依次装好第一保护层11的材料,该膜料为上述实施例中的第一保护层11的材料中的至少一种。然后将沉积室真空度抽到预设真空度,用光度值法监控每层膜厚,依次在基层15上沉积相应厚度的第一保护层11。
[0046] S104:在第一保护层11上设置多层光学介质层12。
[0047] 具体的,可以将膜系设计软件的背景折射率修改为待使用的粘性溶液的折射率,采用膜系设计软件根据设计要求设计光学薄膜的膜系结构。其中,膜系设计软件没有特殊要求,本领域常用的光学设计软件皆可,例如Essential Macleod软件。待使用的粘性溶液是上述高亮度颜料实施例中的粘性溶液。
[0048] 根据设计要求设计好的膜系,可以采用电子束蒸发、热蒸发法、溅射中的至少一种方法在基层15上依次形成多层光学介质层12的各个膜层,这些方法已为本领域技术人员所公知,在此不再赘述。
[0049] 多层光学介质层12包括交替层叠设置的第一折射率光学膜层和第二折射率光学膜层。多层光学介质层12为上述实施例中具有保护层的光学薄膜10的多层光学介质层12,在此不做赘述。
[0050] 操作过程为:先在沉积室中依次装好光学介质材料,该光学介质材料为上述实施例中的光学介质材料中的至少一种,然后将沉积室真空度抽到预设真空度,用光度值法监控每层膜厚,依次在基层15上沉积相应厚度的第一折射率光学膜层和第二折射率光学膜层。
[0051] S105:在多层光学介质层12上设置第二保护层13。
[0052] 具体的,本步骤与S103类似,在此不做赘述。
[0053] 镀制完成后将带有具有保护层的光学薄膜10的基层15从真空室中取出。
[0054] 进一步地,步骤S103-步骤S105为一个周期,一个周期结束后,可以将脱膜剂蒸镀于第二保护层13,进而在第二保护层13表面以形成一牺牲层16,再继续重复执行步骤S103-步骤S105,以得到如图5所示的多层重叠的具有保护层的光学薄膜。根据生产工艺平,可以重叠许多次,获得量产。
[0055] S106:去除牺牲层16以形成具有保护层的光学薄膜10。
[0056] 具体的,可以将镀有多层光学介质层12的基层15置入剥离液中进行脱膜处理。脱膜剂的材料没有限制,具体可以根据现有技术选择,如脱膜剂的材料为氯化钠,剥离液为水,或者脱膜剂的材料为有机材料,剥离液为乙醇甲苯。光学薄膜层采用现有电子束蒸发镀膜机镀制。
[0057] S107:将具有保护层的光学薄膜10碎化。
[0058] S108:过筛后得到纳米结构色晶体。
[0059] 其中,上述步骤S107进一步包括:将混有具有保护层的光学薄膜10的溶液置入超声波溶液中,并进行超声处理以使具有保护层的光学薄膜10碎化。
[0060] 具体的,可以将混有具有保护层的光学薄膜10的溶液置入超声波溶液中超声三十分钟左右,使具有保护层的光学薄膜10碎化。经过滤分离即得到制造本申请的纳米结构色晶体。纳米结构色晶体为具有保护层的光学薄膜10的碎片,每一纳米结构色晶体的总层数与具有保护层的光学薄膜10的总层数相同,每一纳米结构色晶体的多层光学介质层12的光学性质与具有保护层的光学薄膜10的多层光学介质层12的光学性质相同。
[0061] 区别于现有技术的情况,本申请的多层光学介质层12两侧设置有第一保护层11和第二保护层13,在光学薄膜粉碎时,第一保护层11和第二保护层13用于保护多层光学介质层12,避免现有粉碎方法所造成的光学薄膜碎片表面损伤,有利于增加可见光的反射效果,进而提高光学涂料的亮度。
[0062] 下面,采用具体实施例对本申请一种具有保护层的光学薄膜、纳米结构色晶体及其制备方法作进一步的详细描述。
[0063] 实施例1
[0064] 对现有技术中的多层光学薄膜:Cr 4L Cr 4L Cr;
[0065] 其中,厚度分别为5纳米、440纳米、20纳米、440纳米以及5纳米。
[0066] 改进后,得到本申请具有保护层的光学薄膜:
[0067] 第一保护层Cr 4L Cr 4L Cr第二保护层
[0068] 其中,厚度分别为110纳米、5纳米、440纳米、20纳米、440纳米、5纳米以及110纳米。L为二氧化硅,第一保护层为二氧化硅,第二保护层为二氧化硅。
[0069] 制备方法:先在沉积室中依次装好第一保护层的材料、光学介质材料和第二保护层的材料,第一保护层的材料和第二保护层的材料为二氧化硅,然后将沉积室真空度抽到预设真空度,用光度值法监控每层膜厚,依次在涂有脱膜剂的基层上沉积相应厚度的第一保护层Cr 4L Cr 4L Cr第二保护层。完成具有保护层的光学薄膜的沉积。镀制完成后将带有具有保护层的光学薄膜的基层从真空室中取出。将具有保护层的光学薄膜剥离、碎化,过筛后得到纳米结构色晶体。
[0070] 实施例2
[0071] 对现有技术中的多层光学薄膜:H 4L H 4L H;
[0072] 其中,厚度分别为65纳米、440纳米、65纳米、440纳米以及65纳米,其中,L为氟化镁,H为硫化锌。
[0073] 改进后,得到具有保护层的光学薄膜:
[0074] 第一保护层H 4L H 4L H第二保护层
[0075] 其中,厚度分别为19纳米、65纳米、440纳米、65纳米、440纳米、65纳米以及19纳米。L为氟化镁,第一保护层为氟化镁,第二保护层为氟化镁。
[0076] 制备方法:先在沉积室中依次装好第一保护层的材料、光学介质材料和第二保护层的材料,第一保护层的材料和第二保护层的材料为氟化镁,然后将沉积室真空度抽到预设真空度,用光度值法监控每层膜厚,依次在涂有脱膜剂的基层上沉积相应厚度的第一保护层H 4L H 4L H第二保护层。完成具有保护层的光学薄膜的沉积。镀制完成后将带有具有保护层的光学薄膜的基层从真空室中取出。将具有保护层的光学薄膜剥离、碎化,过筛后得到纳米结构色晶体。
[0077] 以上所述仅为本申请的实施方式,并非因此限制本申请的专利范围,凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本申请的专利保护范围内。
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