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可弯曲性显示装置以及可弯曲性显示装置的制造方法

阅读：922发布：2020-05-08

专利汇可以提供可弯曲性显示装置以及可弯曲性显示装置的制造方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且在柔性有机EL显示装置(50)中，以填埋狭缝(BH)的方式形成有第一树脂层(13)，该第一树脂层具有：与第一导电构件(9A)重叠的开口(TH1)；与第二导电构件9C重叠的开口(TH4)；以及与第三导电构件(9B)重叠的开口(TH2)及开口(TH3)。，下面是可弯曲性显示装置以及可弯曲性显示装置的制造方法专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种可弯曲性显示装置，其包含可弯曲性基板以及配备在所述可弯曲性基板上的有源元件及显示元件，所述可弯曲性显示装置的特征在于：
在显示区域配备有所述有源元件及所述显示元件，
在所述显示区域的周边配备有边框区域，所述边框区域包含狭缝以及具备端子部的端子区域，所述狭缝是将配备在所述可弯曲性基板上的1层以上的无机膜中的至少一部分除去而成
在所述狭缝的外侧的所述显示区域侧配备有第一延伸配线，在所述狭缝的外侧的所述端子区域侧配备有第二延伸配线，
在所述1层以上的无机膜以所述第一延伸配线露出的方式形成有第一开口，以所述第二延伸配线露出的方式形成有第二开口，
在所述1层以上的无机膜上形成有第一导电构件以及第二导电构件，所述第一导电构件经由所述第一开口与所述第一延伸配线电连接，所述第二导电构件经由所述第二开口与所述第二延伸配线电连接，
在所述狭缝形成有第三导电构件，
在填埋所述狭缝并且覆盖所述第一导电构件、所述第二导电构件及所述第三导电构件的第一树脂层形成有俯视时与所述第一导电构件重叠的第三开口、与所述第二导电构件重叠的第四开口、以及与所述第三导电构件重叠的第五开口及第六开口，在所述第一树脂层上形成有第四导电构件以及第五导电构件，所述第四导电构件经由所述第三开口及所述第五开口将所述第一导电构件与所述第三导电构件电连接，所述第五导电构件经由所述第四开口及所述第六开口将所述第二导电构件与所述第三导电构件电连接，
弯曲区域在俯视时与所述狭缝重叠。
2.根据权利要求1所述的可弯曲性显示装置，其特征在于，
所述第三导电构件在俯视时不与所述狭缝中的所述显示区域侧的端部以及所述端子区域侧的端部重叠。
3.根据权利要求1或2所述的可弯曲性显示装置，其特征在于，
所述第一导电构件以及所述第二导电构件在俯视时不与所述狭缝中的所述显示区域侧的端部以及所述端子区域侧的端部重叠。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的可弯曲性显示装置，其特征在于，所述第三导电构件为包含铝、钛及铜中的至少一种的金属材料。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的可弯曲性显示装置，其特征在于，所述第一延伸配线与所述第二延伸配线为同一材料，
所述第一导电构件、所述第二导电构件及所述第三导电构件为同一材料，所述第四导电构件与所述第五导电构件为同一材料。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的可弯曲性显示装置，其特征在于，所述有源元件包含：所述1层以上的无机膜中的一个层、相较于所述一个层为下层的第一电极层、以及相较于所述一个层为上层的第二电极层，
所述第一延伸配线及所述第二延伸配线与所述第一电极层为同一材料，所述第一导电构件、所述第二导电构件及所述第三导电构件与所述第二电极层为同一材料。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的可弯曲性显示装置，其特征在于，所述显示元件相较于所述有源元件形成于上层，且具备第三电极层作为最下层，所述第四导电构件及所述第五导电构件与所述第三电极层为同一材料。
8.根据权利要求6所述的可弯曲性显示装置，其特征在于，
所述有源元件为晶体管元件，
所述第一电极层为形成栅极电极的层，
所述第二电极层为形成源极电极及漏极电极的层。
9.根据权利要求7所述的可弯曲性显示装置，其特征在于，
所述显示元件为有机EL显示元件，
所述第三电极层为形成阳极或阴极的层。
10.根据权利要求6或8所述的可弯曲性显示装置，其特征在于，
所述第二电极层为依次层叠有钛、铝、钛的层叠膜或钛与铜的层叠膜。
11.根据权利要求7或9所述的可弯曲性显示装置，其特征在于，
所述第三电极层为依次层叠有氧化铟锡、含银的合金、氧化铟锡的层叠膜。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的可弯曲性显示装置，其特征在于，所述第一树脂层是由与包含所述有源元件的TFT层中的平坦化膜相同的材料所形成。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的可弯曲性显示装置，其特征在于，以覆盖所述第四导电构件、所述第五导电构件以及所述第一树脂层的方式形成有第二树脂层。
14.根据权利要求13所述的可弯曲性显示装置，其特征在于，
所述第二树脂层与覆盖第三电极层的端部的边缘罩层为同一材料，配备于所述显示区域的所述显示元件具备所述第三电极层作为最下层。
15.一种可弯曲性显示装置的制造方法，其为包含显示区域以及边框区域的可弯曲性显示装置的制造方法，所述显示区域配备有有源元件和显示元件，所述边框区域包含形成于所述显示区域的周边的弯曲区域和具备端子部的端子区域，所述制造方法的特征在于包括：
第一工序，在非可弯曲性基板上形成多层无机膜，所述多层无机膜包含互相分离的第一延伸配线和第二延伸配线；
第二工序，在所述边框区域的一部分除去所述多层无机膜中的至少一部分以形成狭缝，并且于所述多层无机膜以所述第一延伸配线露出的方式形成第一开口，以所述第二延伸配线露出的方式形成第二开口；
第三工序，在所述多层无机膜上形成第一导电构件以及第二导电构件，并且于所述狭缝形成第三导电构件，所述第一导电构件经由所述第一开口与所述第一延伸配线电连接，所述第二导电构件经由所述第二开口与所述第二延伸配线电连接；
第四工序，以填埋所述狭缝并且覆盖所述第一导电构件、所述第二导电构件及所述第三导电构件的方式形成第一树脂层，且于所述第一树脂层形成俯视时与所述第一导电构件重叠的第三开口、与所述第二导电构件重叠的第四开口、以及与所述第三导电构件重叠的第五开口及第六开口；
第五工序，在所述第一树脂层上形成第四导电构件以及第五导电构件且使其间的区域在俯视时与所述狭缝重叠，所述第四导电构件经由所述第三开口及所述第五开口将所述第一导电构件与所述第三导电构件电连接，所述第五导电构件经由所述第四开口及所述第六开口将所述第二导电构件与所述第三导电构件电连接；
第六工序，以覆盖所述第四导电构件、所述第五导电构件以及所述第一树脂层的方式形成第二树脂层；
第七工序，剥离所述非可弯曲性基板；以及
第八工序，将可弯曲性基板贴附于剥离所述非可弯曲性基板后的表面。
16.根据权利要求15所述的可弯曲性显示装置的制造方法，其特征在于，在所述第三工序中，以如下方式形成所述第三导电构件：在俯视时不与所述狭缝中的所述显示区域侧的端部以及所述端子区域侧的端部重叠。
17.根据权利要求15或16所述的可弯曲性显示装置的制造方法，其特征在于，在所述第三工序中，以如下方式形成所述第一导电构件及所述第二导电构件：在俯视时不与所述狭缝中的所述显示区域侧的端部及所述端子区域侧的端部重叠。
18.根据权利要求15至17中任一项所述的可弯曲性显示装置的制造方法，其特征在于，所述有源元件包含：所述多层无机膜中除形成所述第一延伸配线及所述第二延伸配线的层以外的一个层、相较于所述一个层为下层的第一电极层、以及相较于所述一个层为上层的第二电极层，
在所述第一工序中，以与形成所述第一电极层的工序相同的工序来形成所述第一延伸配线和所述第二延伸配线，
在所述第三工序中，以与形成所述第二电极层的工序相同的工序来形成所述第一导电构件、所述第二导电构件及所述第三导电构件。
19.根据权利要求15至18中任一项所述的可弯曲性显示装置的制造方法，其特征在于，所述显示元件相较于所述有源元件形成于上层，且具备第三电极层作为最下层，在所述第五工序中，以与形成所述第三电极层的工序相同的工序来形成所述第四导电构件和所述第五导电构件。
20.根据权利要求18所述的可弯曲性显示装置的制造方法，其特征在于，所述有源元件为晶体管元件，
所述第一电极层为形成栅极电极的层，
所述第二电极层为形成源极电极及漏极电极的层。
21.根据权利要求19所述的可弯曲性显示装置的制造方法，其特征在于，所述显示元件为有机EL显示元件，
所述第三电极层为形成阳极或阴极的层。
22.根据权利要求15至21中任一项所述的可弯曲性显示装置的制造方法，其特征在于，以与形成边缘罩层的工序相同的工序来形成所述第六工序中形成的所述第二树脂层，所述边缘罩层覆盖第三电极层的端部，配备于所述显示区域的所述显示元件具备所述第三电极层作为最下层。

说明书全文

可弯曲性显示装置以及可弯曲性显示装置的制造方法

技术领域

[0001] 本发明涉及一种可弯曲性显示装置(柔性显示装置)及可弯曲性显示装置的制造方法。

背景技术

[0002] 近年来，具备可弯曲性基板(柔性基板)的可弯曲性显示装置由于能自由地弯曲显示装置而受到高度注目。

[0003] 而且，在这种可弯曲性显示装置的领域也和其它的显示装置一样，对窄边框化的要求正在加强。

[0004] 在专利文献1中记载了一种可弯曲性显示装置，其通过使包含焊盘的边框部分弯曲180度而配置于显示区域的显示面的背面来减少能从显示面侧看到的边框部分。现有技术文献
专利文献

[0005] 专利文献1：日本公开专利公报“特开2014-232300号”公报(2014年12月11日公开)发明内容本发明所要解决的技术问题

[0006] 图8为示出专利文献1所公开的现有的可弯曲性显示装置的边框部分的概略结构的图。

[0007] 专利文献1所公开的现有的可弯曲性显示装置为如下结构：能使包含焊盘PD的边框部分在弯曲区域BA弯曲180度。

[0008] 在柔性基板101中的包含弯曲区域BA的区域配备有防蚀刻层106，并且以覆盖防蚀刻层106的方式形成有作为无机膜的缓冲膜102以及作为无机膜的栅极绝缘膜103。而且，在栅极绝缘膜103上以规定形状形成有栅极配线GL，并且以覆盖该栅极配线GL的方式形成有作为无机膜的层间绝缘膜104。

[0009] 如图所示，在柔性基板101上的弯曲区域BA中，以能在弯曲区域BA弯曲180度的方式仅留下防蚀刻层106，在缓冲膜102、栅极绝缘膜103及层间绝缘膜104形成有贯通这3层的弯曲孔BH，并且在俯视时与栅极配线GL重叠的层间绝缘膜104的一部分形成有连接孔LKH。

[0010] 在层间绝缘膜104上形成有对焊盘PD与栅极配线GL进行电连接的布线LK，在弯曲区域BA中以与弯曲孔BH的锥形部TP1、TP2及防蚀刻层106相接的方式形成有布线LK。

[0011] 而且，以覆盖布线LK的方式形成有保护层105，布线LK经由形成于层间绝缘膜104的连接孔LKH与栅极配线GL电连接，并且经由形成于保护层105的焊盘孔PDH与焊盘PD电连接。

[0012] 然而，专利文献1所公开的现有的可弯曲性显示装置从其弯曲区域BA的结构来看存在如下的问题。

[0013] 如图8所示，在弯曲区域BA中，布线LK以与弯曲孔BH的锥形部TP1、TP2及防蚀刻层106相接的方式形成，且为了无断线地以这样的方式形成布线LK，弯曲孔BH的锥形部TP1、TP2需要包含较缓的倾斜。

[0014] 因此，存在如下的问题：为了无断线地形成布线LK，形成于缓冲膜102、栅极绝缘膜103及层间绝缘膜104的弯曲孔BH的形状会限于其侧面具有较缓的倾斜的形状。

[0015] 因此，为了解决这样的问题点，考虑如下的方法：用平坦化树脂层(例如，感光性聚酰亚胺树脂等)先将弯曲孔BH填埋到层间绝缘膜104的高度，然后形成布线LK。

[0016] 通过这样的方式，形成于缓冲膜102、栅极绝缘膜103及层间绝缘膜104的弯曲孔BH被所述平坦化树脂层平坦化，所以弯曲孔BH的形状无需为特定的形状。

[0017] 然而，仅出于填埋弯曲孔BH的目的而使用的上述平坦化树脂层在被涂布于弯曲区域BA及层间绝缘膜104上之后，在图案化工序中仅残留在弯曲区域BA，虽然对弯曲孔BH进行平坦化，但在该工序中，形成上述平坦化树脂层的材料的损耗大，从而存在未能实现用于形成上述平坦化树脂层的材料的高效利用这一问题。

[0018] 此外，如果在布线LK形成前形成平坦化树脂层，则该平坦化树脂层会填埋弯曲孔BH，同时连接孔LKH也会暂时填埋，在连接孔LKH的深度深等情况下，在图案化工序中，无法完全地除去形成于连接孔LKH内的平坦化树脂层，在残留于连接孔LKH内的平坦化树脂层的影响下，也存在会发生布线LK与栅极配线GL的连接不良的隐患。

[0019] 本发明是鉴于上述的问题点而成，其目的在于提供一种可弯曲性显示装置及其制造方法，其能实现用于形成平坦化树脂层的材料的高效利用，并且抑制配线间的连接不良。解决问题的方案

[0020] 为了解决上述的问题，本发明的可弯曲性显示装置为包含可弯曲性基板以及配备在所述可弯曲性基板上的有源元件及显示元件的可弯曲性显示装置，其特征在于：在显示区域配备有所述有源元件及所述显示元件，在所述显示区域的周边配备有边框区域，该边框区域包含狭缝以及端子区域，所述狭缝是将配备在所述可弯曲性基板上的1层以上的无机膜中的至少一部分除去而成，所述端子区域具备端子部，在所述狭缝的外侧的所述显示区域侧配备有第一延伸配线，在所述狭缝的外侧的所述端子区域侧配备有第二延伸配线，在所述1层以上的无机膜以所述第一延伸配线露出的方式形成有第一开口，以所述第二延伸配线露出的方式形成有第二开口，在所述1层以上的无机膜上形成有第一导电构件以及第二导电构件，所述第一导电构件经由所述第一开口与所述第一延伸配线电连接，所述第二导电构件经由所述第二开口与所述第二延伸配线电连接，在所述狭缝形成有第三导电构件，在填埋所述狭缝并且覆盖所述第一导电构件、所述第二导电构件及所述第三导电构件的第一树脂层形成有俯视时与所述第一导电构件重叠的第三开口、与所述第二导电构件重叠的第四开口、以及与所述第三导电构件重叠的第五开口及第六开口，在所述第一树脂层上形成有第四导电构件以及第五导电构件，所述第四导电构件经由所述第三开口及所述第五开口将所述第一导电构件与所述第三导电构件电连接，所述第五导电构件经由所述第四开口及所述第六开口将所述第二导电构件与所述第三导电构件电连接，弯曲区域在俯视时与所述狭缝重叠。

[0021] 根据上述结构，所述第一树脂层以填埋所述狭缝并且覆盖形成于所述1层以上的无机膜上的所述第一导电构件及所述第二导电构件的方式来形成，所以能实现一种可弯曲性显示装置，其能在图案化工序中抑制用于形成所述第一树脂层的材料的损耗，从而能高效地利用用于形成所述第一树脂层的材料。

[0022] 此外，根据上述结构，所述第一树脂层以覆盖所述第一导电构件及所述第二导电构件的方式形成，该第一导电构件及第二导电构件以填埋第一开口和第二开口的方式形成，该第一开口和第二开口形成于所述1层以上的无机膜；所以所述第一树脂层不会形成于所述第一开口和所述第二开口。因此，能抑制由于所述第一树脂层而可能发生的配线间的连接不良。

[0023] 为了解决上述的问题，本发明的可弯曲性显示装置的制造方法为包含显示区域以及边框区域的可弯曲性显示装置的制造方法，所述显示区域配备有有源元件和显示元件，所述边框区域包含形成于所述显示区域的周边的弯曲区域和具备端子部的端子区域，所述制造方法的特征在于包括：第一工序，其在非可弯曲性基板上形成多层无机膜，所述多层无机膜包含互相分离的第一延伸配线和第二延伸配线；第二工序，其在所述边框区域的一部分除去所述多层无机膜中的至少一部分以形成狭缝，并且于所述多层无机膜以所述第一延伸配线露出的方式形成第一开口，以所述第二延伸配线露出的方式形成第二开口；第三工序，其在所述多层无机膜上形成第一导电构件以及第二导电构件，并且于所述狭缝形成第三导电构件，所述第一导电构件经由所述第一开口与所述第一延伸配线电连接，所述第二导电构件经由所述第二开口与所述第二延伸配线电连接；第四工序，其以填埋所述狭缝并且覆盖所述第一导电构件、所述第二导电构件及所述第三导电构件的方式形成第一树脂层，且于所述第一树脂层形成俯视时与所述第一导电构件重叠的第三开口、与所述第二导电构件重叠的第四开口、以及与所述第三导电构件重叠的第五开口及第六开口；第五工序，其在所述第一树脂层上形成第四导电构件以及第五导电构件且使其间的区域在俯视时与所述狭缝重叠，所述第四导电构件经由所述第三开口及所述第五开口将所述第一导电构件与所述第三导电构件电连接，所述第五导电构件经由所述第四开口及所述第六开口将所述第二导电构件与所述第三导电构件电连接；第六工序，其以覆盖所述第四导电构件、所述第五导电构件以及所述第一树脂层的方式形成第二树脂层；第七工序，其剥离所述非可弯曲性基板；以及第八工序，其将可弯曲性基板贴附于剥离所述非可弯曲性基板后的表面。

[0024] 根据上述方法，在所述第四工序中形成的所述第一树脂层是以填埋所述狭缝并且覆盖形成于所述多层无机膜上的所述第一导电构件及所述第二导电构件的方式形成，所以能实现一种可弯曲性显示装置的制造方法，其能在形成所述第三开口、所述第四开口、所述第五开口及所述第六开口等的图案化工序中抑制用于形成所述第一树脂层的材料的损耗，从而能高效地利用用于形成所述第一树脂层的材料。

[0025] 此外，根据上述方法，在所述第二工序中于所述多层无机膜以所述第一延伸配线露出的方式形成第一开口，以所述第二延伸配线露出的方式形成第二开口，然后在所述第三工序中于所述多层无机膜上形成经由所述第一开口与所述第一延伸配线电连接的第一导电构件以及经由所述第二开口与所述第二延伸配线电连接的第二导电构件，然后在所述第四工序中以覆盖形成于所述多层无机膜上的所述第一导电构件及所述第二导电构件的方式形成有所述第一树脂层，所以所述第一树脂层不会形成于所述第一开口和所述第二开口。因此，能抑制由于所述第一树脂层而可能发生的配线间的连接不良。发明效果

[0026] 根据本发明的一实施方式，能提供一种可弯曲性显示装置及其制造方法，其能高效地利用用于形成平坦化树脂层的材料，并且抑制配线间的连接不良。附图说明

[0027] 图1为用于说明实施方式1的柔性有机EL显示装置中的显示区域、包含弯曲区域的狭缝、以及端子区域的制造工序的图。图2(a)为示出实施方式1的柔性有机EL显示装置的包含弯曲区域的狭缝附近的概略结构的图，图2(b)为示出实施方式1的柔性有机EL显示装置的显示区域的概略结构的图。
图3为图2(a)所图示的实施方式1的柔性有机EL显示装置的包含弯曲区域的狭缝附近的俯视图。
图4为示出实施方式2的柔性有机EL显示装置的包含弯曲区域的狭缝附近的概略结构的图。
图5为用于说明作为比较例的柔性有机EL显示装置中的显示区域、包含弯曲区域的狭缝、以及端子区域的制造工序的图。
图6(a)为示出作为比较例的柔性有机EL显示装置的包含弯曲区域的狭缝附近的概略结构的图，图6(b)为示出作为比较例的柔性有机EL显示装置的显示区域的概略结构的图。
图7(a)为图6(a)以及图6(b)所图示的作为比较例的柔性有机EL显示装置的俯视图，图
7(b)为图7(a)所图示的A-B线的端面图并且为示出作为比较例的柔性有机EL显示装置的弯曲前的状态的图，图7(c)为图7(a)所图示的A-B线的端面图并且为示出使作为比较例的柔性有机EL显示装置在弯曲区域弯曲后的状态的图。
图8为示出专利文献1所公开的现有的可弯曲性显示装置的边框部分的概略结构的图。

具体实施方式

[0028] 基于图1至图7对本发明的实施方式的说明如下。以下，为了便于说明，有时会对具有与特定实施方式中说明的结构相同的功能的结构标注相同的附图标记，并省略其说明。

[0029] 另外，在以下的各实施方式中，作为显示元件(光学元件)的一例，以有机EL(Electro luminescence，电致发光)元件为例进行说明，但并不限于此，也可为例如通过电压控制亮度和透过率而无需背光的反射型液晶显示元件等。

[0030] 上述显示元件(光学元件)也可为通过电流控制亮度和透过率的光学元件，作为电流控制的光学元件，有具备OLED(Organic Light Emitting Diode：有机发光二极管)的有机EL(Electro Luminescence：电致发光)显示器或具备无机发光二极管的无机EL显示器等EL显示器、具备QLED(Quantum dot Light Emitting Diode：量子点发光二极管)的QLED显示器等。

[0031] 〔实施方式1〕以下基于图5至图7对作为比较例的柔性有机EL显示装置70的问题点进行说明，并且基于图1至图3对本发明的实施方式1的柔性有机EL显示装置50进行说明。

[0032] 图5为用于说明作为比较例的柔性有机EL显示装置70中的包含弯曲区域的非显示区域的制造工序的图。

[0033] 如图5(a)所示，首先在作为非可弯曲性基板的玻璃基板1上涂布聚酰亚胺树脂层(PI层)12。

[0034] 在本比较例中，考虑后工序中包含的高温工序以及在后工序中透过激光，以使用具有高耐热性的玻璃基板1的情况作为一例进行说明，但只要是能耐受后工序中包含的高温工序且能在后工序中透过激光，则并不限于玻璃基板。

[0035] 另外，在本比较例中使用了聚酰亚胺树脂层12，以便能通过在后工序中自玻璃基板1侧照射激光来在聚酰亚胺树脂层12与玻璃基板1的界面引起烧蚀，从而使玻璃基板1从聚酰亚胺树脂层12剥离，但并不限于此，只要能在后工序中使玻璃基板1剥离，则也可使用聚酰亚胺树脂层以外的树脂层(例如，环氧树脂层或聚酰胺树脂层)。

[0036] 接着，在聚酰亚胺树脂层12上形成防湿层3(也称为势垒层)。

[0037] 防湿层3为防止在使用柔性有机EL显示装置70时水分和杂质到达有源元件或显示元件的层，可由例如通过CVD(Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积)形成的氧化硅膜、氮化硅膜、或氮氧化硅膜、或它们的层叠膜构成。

[0038] 然后，在防湿层3上形成栅极绝缘层16。

[0039] 栅极绝缘层16可由例如通过CVD法形成的氧化硅(SiOx)膜或氮化硅(SiNx)膜或它们的层叠膜构成。

[0040] 然后，在栅极绝缘层16上形成互相分离的第一延伸配线2A和第二延伸配线2B。

[0041] 另外，显示区域AA(参照图6)的第一延伸配线2A延伸到未图示的显示区域侧，包含端子部(未图示)的端子区域TA(参照图6)的第二延伸配线2B延伸到未图示的端子区域侧。

[0042] 在本比较例中，以第一延伸配线2A以及第二延伸配线2B是栅极电极的延伸配线的情况作为一例进行说明，但并不限于此，只要是从配备于端子区域TA(参照图6)的端子部(未图示)供给的信号用配线，则对其种类并无特别限定。

[0043] 然后，以覆盖第一延伸配线2A、第二延伸配线2B以及栅极绝缘层16的方式形成第一绝缘层18。

[0044] 第一绝缘层18为未图示的配备于显示区域AA的电容器(电容元件)形成用绝缘膜层，也可为例如通过CVD法形成的氮化硅(SiNx)膜。

[0045] 然后，形成覆盖第一绝缘层18的第二绝缘层20。

[0046] 第二绝缘层20可由例如通过CVD法形成的氧化硅(SiOx)膜或氮化硅(SiNx)膜或它们的层叠膜构成。

[0047] 然后，如图5(b)所示，在第二绝缘层20上形成包含开口7A、开口7B及开口7C的光阻膜7。

[0048] 开口7A及开口7C为用于在第一绝缘层18及第二绝缘层20形成接触孔CH1和接触孔CH2的开口，开口7B为用于在防湿层3、栅极绝缘层16、第一绝缘层18及第二绝缘层20形成狭缝(也称为弯曲孔)(BH)的开口。

[0049] 在本比较例中，通过以图5(b)所示的光阻膜7为掩模进行干式蚀刻，来像图5(c)所示的那样除去第一绝缘层18及第二绝缘层20，在第一绝缘层18及第二绝缘层20形成接触孔CH1和接触孔CH2，并且除去防湿层3、栅极绝缘层16、第一绝缘层18及第二绝缘层20，以形成狭缝(BH)。

[0050] 另外，在上述干式蚀刻之时，第一延伸配线2A和第二延伸配线2B会作为下层即防湿层3及栅极绝缘层16的防蚀刻层起作用，所以接触孔CH1、接触孔CH2及狭缝(BH)能在同一干式蚀刻工序中形成。

[0051] 另外，在本比较例中，以利用干式蚀刻形成接触孔CH1、接触孔CH2以及狭缝(BH)的情况作为一例来说明，但并不限于此，也可用例如湿式蚀刻。

[0052] 另外，如果考虑柔性有机EL显示装置的弯曲区域(BA)处的180度弯曲和易弯曲性等，则优选为狭缝(BH)通过除去由无机膜构成的层叠膜整体来形成，但也可通过仅除去由无机膜构成的层叠膜中的上侧的1个以上的膜来形成。

[0053] 接着，如图5(d)所示，以填埋接触孔CH1、接触孔CH2及狭缝(BH)的方式将第一感光性PI层61涂布于玻璃基板1上的显示区域AA(参照图6)及包含端子部(未图示)的端子区域TA(参照图6)的整体。

[0054] 第一感光性PI层61的涂布工序可使用例如狭缝涂布机或旋转涂布机来进行，但并不限于此。

[0055] 第一感光性PI层61为含有感光性材料的聚酰亚胺树脂，也为消除下层的段差的平坦化膜。

[0056] 另外，第一感光性PI层61无论是正型还是负型都可以，但在本比较例中，使用了曝光部分被除去的正型。

[0057] 然后，如图5(e)所示，对形成于整个玻璃基板1上的第一感光性PI层61进行曝光及显影，形成规定形状的第一感光性PI层61A，该第一感光性PI层留有比填埋狭缝(BH)的部分稍宽的部分。

[0058] 这样，在对第一感光性PI层61进行图案化的工序中，形成于整个玻璃基板1上的第一感光性PI层61仅留有规定形状的第一感光性PI层61A，而其它部分全部被除去，所以价格较高的第一感光性PI层61的材料的损耗大，从而成为柔性有机EL显示装置的制造成本上升的主要因素之一。

[0059] 此外，形成于接触孔CH1及接触孔CH2内的第一感光性PI层61根据接触孔CH1及接触孔CH2的形状和深度的不同，存在对第一感光性PI层61进行图案化的工序中无法完全地除去的隐患。

[0060] 在接触孔CH1及接触孔CH2内产生残渣时，存在会发生配线间的连接不良这一问题。

[0061] 然后，如图5(f)所示，在第二绝缘层20及规定形状的第一感光性PI层61A上形成导电构件9X，该导电构件经由接触孔CH1与第一延伸配线2A电连接并且经由接触孔CH2与第二延伸配线2B电连接。

[0062] 然后，在整个玻璃基板1上形成第二感光性PI层62，之后进行曝光及显影，从而像图5(g)所示的那样，以覆盖导电构件9X、第二绝缘层20及规定形状的第一感光性PI层61A的方式留有第二感光性PI层62。

[0063] 而且，在整个玻璃基板1上形成第三感光性PI层63，之后进行曝光及显影，从而像图5(h)所示的那样，以覆盖第二感光性PI层62以及未图示的进一步的导电构件层的方式留有第三感光性PI层63。

[0064] 图6(a)为示出柔性有机EL显示装置70的包含弯曲区域(BA)的狭缝(BH)附近的概略结构的图，图6(b)为示出柔性有机EL显示装置70的显示区域(AA)的概略结构的图。

[0065] 另外，以图6所示的柔性有机EL显示装置70是像以下那样使用Laser Lift Off工序(LLO工序)来制造的情况作为一例来说明，但并不限于此。

[0066] 自图5(h)所示的作为非可弯曲性基板的玻璃基板1侧照射激光，以在聚酰亚胺树脂层12与玻璃基板1的界面引起烧蚀。

[0067] 然后，使玻璃基板1从聚酰亚胺树脂层12剥离，并且经由粘接层11将薄膜基板10贴附于聚酰亚胺树脂层12，所述粘接层设于作为可弯曲性基板的薄膜基板10的一侧的面；从而完成图6(a)及图6(b)所示的柔性有机EL显示装置70。

[0068] 在图6(a)所示的柔性有机EL显示装置70的边框区域(EA)(参照图7)中，通过除去防湿层3、栅极绝缘层16、第一绝缘层18及第二绝缘层20而形成的狭缝(BH)成为了弯曲区域(BA)。

[0069] 在图6(b)所示的柔性有机EL显示装置70的显示区域(AA)配备有包含作为有源元件的薄膜晶体管元件(TFT元件)的TFT层4，在TFT层4上配备有有机EL显示元件5作为显示元件。

[0070] 另外，像素电路以外的电路所使用的有源元件也可设于显示区域(AA)以外的边框区域(EA)。

[0071] 如图所示，在薄膜基板10上经由粘接层11形成有聚酰亚胺树脂层12，在聚酰亚胺树脂层12上形成有防湿层3。然后，在防湿层3上形成有包含栅极绝缘层16、第一绝缘层18、第二绝缘层20及有机层间层21的TFT层4。然后，在TFT层4上形成有作为电光学元件的有机EL显示元件5。然后，以覆盖有机EL显示元件5的方式形成有包含无机密封膜26、28以及有机密封膜27的密封层6。在无机密封膜28上经由包含OCA(Optical Clear Adhesive，光学透明胶)或OCR(Optical Clear Resin，光学透明树脂)的粘接层38贴附有包含保护层的触控面板39。

[0072] 另外，作为薄膜基板10的材料，可列举例如由聚对苯二甲酸乙二酯(PET)等构成的薄膜。

[0073] TFT层4包含：半导体膜15、相较于半导体膜15形成于上层的栅极绝缘层16、相较于栅极绝缘层16形成于上层的栅极电极2G、相较于栅极电极2G形成于上层的第一绝缘层18及第二绝缘层20、相较于第一绝缘层18形成于上层的电容电极C及其端子、相较于第二绝缘层20形成于上层的源极配线9S及漏极配线9D、以及相较于源极配线9S及漏极配线9D形成于上层的有机层间膜(平坦化膜)21。

[0074] 另外，薄层晶体管(TFT)构成为包含半导体膜15、栅极绝缘层16以及栅极电极2G，电容元件构成为包含电容电极C、第一绝缘层18以及形成于栅极电极2G的同一层的未图示的电容相对电极。

[0075] 半导体膜15是由例如低温多晶硅(LTPS)或氧化物半导体所构成。栅极电极2G、源极电极9S、漏极电极9D以及端子是由例如包含铝(Al)、钨(W)、钼(Mo)、钽(Ta)、铬(Cr)、钛(Ti)、铜(Cu)中的至少1种的金属的单层膜或层叠膜所构成。另外，在图6(b)中，以半导体膜15为沟道的TFT以顶栅结构示出，但也可为底栅结构(例如，TFT的沟道为氧化物半导体的情况)。

[0076] 另外，例如在半导体膜15为含有铟(In)、镓(Ga)、锌(Zn)的氧化物半导体膜的情况下、或为采用低温多晶硅(LTPS)的制造工序制造的含有铟(In)、镓(Ga)、锌(Zn)的氧化物半导体膜的情况下等，形成源极电极9S及漏极电极9D的层的材料也可使用铜(Cu)与钛(Ti)的层叠膜。

[0077] 有机层间层21可由例如聚酰亚胺、亚克力等能涂布的感光性有机材料所构成。

[0078] 在有机层间层21之上的层形成有第一电极22(例如阳极电极)、覆盖第一电极22的边缘的有机绝缘膜(也称为边缘罩层)23、相较于第一电极22形成于上层的包含发光层的EL层24、以及相较于EL层24形成于上层的第二电极25，且有机EL显示元件5由第一电极22、EL层24以及第二电极25所构成。显示区域AA的有机绝缘膜23作为规定亚像素的挡墙(像素隔壁)而发挥功能。

[0079] 另外，有机绝缘膜23可由例如聚酰亚胺树脂、亚克力树脂、环氧树脂、聚酰胺树脂等能涂布的感光性有机材料所构成。

[0080] 包含发光层的EL层24是利用蒸镀法或喷墨法形成于被有机绝缘膜23包围的区域(亚像素区域)。配备于有机EL显示元件5的包含发光层的EL层24是通过例如从下层侧开始依次使空穴注入层、空穴输送层、发光层、电子输送层、电子注入层层叠来构成。另外，也可将EL层24中的1个以上的层作为(多个像素所共有的)共通层。

[0081] 第一电极(阳极)22是由例如ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)、含Ag的合金、ITO(Indium Tin Oxide)的层叠所构成，并且具有光反射性。第二电极(例如，阴极电极)25为共通电极，可由ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zincum Oxide，氧化铟锌)等透明金属所构成。

[0082] 在有机EL显示元件5中，通过第一电极22及第二电极25间的驱动电流，空穴和电子在EL层24内再次结合，由此产生的激子陷入基底状态，以使光放出。

[0083] 密封层6覆盖有机EL显示元件5，以防止水、氧气等异物向有机EL显示元件5渗透。密封层6包含：覆盖有机绝缘膜23及第二电极25的第一无机密封膜26、相较于第一无机密封膜26形成于上层而作为缓冲膜发挥功能的有机密封膜27、以及覆盖第一无机密封膜26及有机密封膜27的第二无机密封膜28。

[0084] 第一无机密封膜26及第二无机密封膜28可分别由例如通过使用掩模的CVD形成的氧化硅膜、氮化硅膜、或氮氧化硅膜、或它们的层叠膜所构成。有机密封膜27为比第一无机密封膜26及第二无机密封膜28厚的透光性的有机绝缘膜，可由聚酰亚胺、亚克力等能涂布的感光性有机材料所构成。例如，将含有这种有机材料的油墨喷墨涂布在第一无机密封膜26上，然后通过UV照射促成硬化。

[0085] 图7(a)为图6(a)及图6(b)所图示的作为比较例的柔性有机EL显示装置70的俯视图，图7(b)为图7(a)所图示的A-B线的端面图，且为示出作为比较例的柔性有机EL显示装置70的弯曲前的状态的图，图7(c)为图7(a)所图示的A-B线的端面图，且为示出使作为比较例的柔性有机EL显示装置70在弯曲区域(BA)弯曲后的状态的图。

[0086] 如图7(a)所示，在柔性有机EL显示装置70中，在显示区域(AA)的周边配备有边框区域(EA)，在边框区域(EA)包括含有端子部(未图示)的端子区域(TA)以及含有弯曲区域(BA)的狭缝(BH)。

[0087] 另外，狭缝(BH)在柔性有机EL显示装置70中为例如从一端部到另一端部形成的开口。

[0088] 如上所述，在作为比较例的柔性有机EL显示装置70的情况下，具有价格较高的第一感光性PI层61的材料的损耗大而无法抑制柔性有机EL显示装置70的制造成本这一问题点，并且也具有如下的结构上的问题点：在接触孔CH1及接触孔CH2内容易产生第一感光性PI层61的残渣，因此也容易发生配线间的连接不良。

[0089] 因此，本发明者等人提出一种像以下那样能抑制制造成本的上升并且抑制配线间的连接不良的可弯曲性显示装置(柔性有机EL显示装置50)及其制造方法。

[0090] 以下，基于图1至图3，对本发明的实施方式1的柔性有机EL显示装置50的制造工序及其构成进行说明。

[0091] 另外，为了方便说明，对具有与上述的作为比较例的柔性有机EL显示装置70的附图所示的构件相同的功能的构件标注相同的符号并省略其说明。

[0092] 图1为用于说明柔性有机EL显示装置50中的包含弯曲区域的非显示区域的制造工序的图。

[0093] 图1(a)、图1(b)及图1(c)所示的各工序与上述的图5(a)、图5(b)及图5(c)所示的各工序相同，所以省略其说明。

[0094] 如图1(d)所示，显示区域AA(参照图2)的第一延伸配线2A延伸到未图示的显示区域侧，包含端子部(未图示)的端子区域TA(参照图2)的第二延伸配线2B延伸到未图示的端子区域侧。

[0095] 在本实施方式中，以第一延伸配线2A及第二延伸配线2B为栅极电极的延伸配线的情况作为一例进行说明，但并不限于此，只要为从配备于端子区域TA(参照图2)的端子部(未图示)供给的信号用配线，则对其种类并无特别限定。

[0096] 在狭缝(BH)的外侧的显示区域AA即狭缝(BH)的外侧的图中左侧配备有第一延伸配线2A，在狭缝(BH)的外侧的端子区域TA即狭缝(BH)的外侧的图中右侧配备有第二延伸配线2B。

[0097] 另外，将配备于作为可弯曲性基板的薄膜基板10上的1层以上的无机膜中的至少一部分除去而成的狭缝(BH)与上述的比较例一样，为在柔性有机EL显示装置50中例如从一端部到另一端部形成的开口。

[0098] 然后，在第一绝缘层18及第二绝缘层20，以第一延伸配线2A露出的方式形成有接触孔CH1，以第二延伸配线2B露出的方式形成有接触孔CH2。

[0099] 在柔性有机EL显示装置50的制造工序中，在图1(c)所示的工序之后，如图1(d)所示，在第二绝缘层20上形成第一导电构件9A和第二导电构件9C并且于狭缝(BH)形成第三导电构件9B，所述第一导电构件经由接触孔CH1与第一延伸配线2A电连接，所述第二导电构件经由接触孔CH2与第二延伸配线2B电连接。

[0100] 然后，在整个玻璃基板1上形成作为第一树脂层13的感光性PI层(含有感光性材料的聚酰亚胺树脂层)，在第一树脂层13的图案化工序中进行曝光及显影，如图1(e)所示，以填埋狭缝(BH)并且覆盖第一导电构件9A、第二导电构件9C以及第三导电构件9B的方式留有第一树脂层13。

[0101] 如上所述，在本实施方式中，以填埋狭缝(BH)并且覆盖第一导电构件9A和第二导电构件9C的方式形成有第一树脂层13，所以与上述的比较例相比，能高效地利用用于形成第一树脂层13的材料。

[0102] 在第一树脂层13的图案化工序中，在第一树脂层13形成有俯视时与第一导电构件9A重叠的开口TH1、与第二导电构件9C重叠的开口TH4、以及与第三导电构件9B重叠的开口TH2及开口TH3。

[0103] 在本实施方式中，以第一树脂层13由含有正型感光性材料的聚酰亚胺树脂形成的情况作为一例进行说明，但并不限于此，第一树脂层13可由含有负型感光性材料的聚酰亚胺树脂形成，也可由不含感光性材料的聚酰亚胺树脂形成。而且，也可使用除聚酰亚胺树脂以外的例如亚克力树脂或环氧树脂或聚酰胺树脂等。

[0104] 另外，在用不含感光性材料的树脂形成第一树脂层13的情况下，通过以规定形状的光阻膜为掩模来进行干式蚀刻或湿式蚀刻，能进行开口TH1～TH4的形成和第一树脂层13的图案化。

[0105] 然后，如图1(f)所示，在第一树脂层13上形成有第四导电构件22A和第五导电构件22B，所述第四导电构件经由开口TH1及开口TH2将第一导电构件9A与第三导电构件9B电连接，所述第五导电构件经由开口TH3及开口TH4将第二导电构件9C与第三导电构件9B电连接。

[0106] 如上所述，通过在第一树脂层13上形成第四导电构件22A和第五导电构件22B，使第一延伸配线2A与第二延伸配线2B电连接。

[0107] 另外，第一树脂层13也可由与有机层间层21相同的材料形成，所述有机层间层为包含作为有源元件的薄膜晶体管元件(TFT元件)的TFT层4中的平坦化膜。

[0108] 然后，如图1(g)所示，以覆盖第一树脂层13、第四导电构件22A以及第五导电构件22B的方式形成第二树脂层14。

[0109] 在本实施方式中，以第二树脂层14由含有正型感光性材料的聚酰亚胺树脂形成的情况作为一例来说明，但并不限于此，第二树脂层14可由含有负型感光性材料的聚酰亚胺树脂形成，也可由不含感光性材料的聚酰亚胺树脂形成。而且，也可使用除聚酰亚胺树脂以外的例如亚克力树脂或环氧树脂或聚酰胺树脂等。

[0110] 配备于本实施方式的柔性有机EL显示装置50的第一树脂层13兼起图5(g)所示的配备于作为比较例的柔性有机EL显示装置70的规定形状的第一感光性PI层61A的作用(填埋狭缝(BH)的作用)与第二感光性PI层62的作用(平坦化膜的作用)。

[0111] 然后，在配备于本实施方式的柔性有机EL显示装置50的第一树脂层13的图案化工序中，材料的损耗不会产生，充其量会在配备于柔性有机EL显示装置70的第一感光性PI层61的图案化工序和第二感光性PI层62的图案化工序中产生。

[0112] 这种材料的损耗的差异的原因在于：在配备于柔性有机EL显示装置70的第一感光性PI层61的图案化工序中，残留部分仅为规定形状的第一感光性PI层61A，被涂布的第一感光性PI层61中的大部分被除去。

[0113] 此外，在本实施方式的柔性有机EL显示装置50中，如图1(d)及图1(e)所示，在形成第一树脂层13前，接触孔CH1及接触孔CH2被第一导电构件9A及第二导电构件9C填埋。

[0114] 因此，在接触孔CH1及接触孔CH2内不会残留第一树脂层13的残渣，从而能抑制配线间的连接不良。

[0115] 图2(a)为示出柔性有机EL显示装置50的包含弯曲区域(BA)的狭缝(BH)附近的概略结构的图，图2(b)为示出柔性有机EL显示装置50的显示区域(AA)的概略结构的图。

[0116] 从图1(g)所示的作为非可弯曲性基板的玻璃基板1侧照射激光，以在聚酰亚胺树脂层12与玻璃基板1的界面引起烧蚀。

[0117] 然后，使玻璃基板1从聚酰亚胺树脂层12剥离，并且经由设于作为可弯曲性基板的薄膜基板10的一侧的面的粘接层11将薄膜基板10贴附于聚酰亚胺树脂层12，以完成图2(a)及图2(b)所示的柔性有机EL显示装置50。

[0118] 图2(a)所示的柔性有机EL显示装置50的弯曲区域(BA)为在俯视时与图1(c)所示的狭缝(BH)重叠的区域，且为第四导电构件22A与第五导电构件22B之间的区域。

[0119] 即，柔性有机EL显示装置50的弯曲可在没有无机膜的地方(狭缝(BH))的内部进行。

[0120] 另外，图2(b)所示的柔性有机EL显示装置50的显示区域(AA)的结构与已在上文说明的图6(b)所示的柔性有机EL显示装置70的显示区域(AA)的结构一样，所以省略其说明。

[0121] 优选为图2(a)所示的配备于柔性有机EL显示装置50的第一延伸配线2A和第二延伸配线2B以同一材料来形成，例如优选为以形成晶体管元件(TFT元件)的栅极电极2G的层来形成，所述晶体管元件的栅极电极配备于图2(b)所示的柔性有机EL显示装置50的显示区域(AA)。

[0122] 如上所述，通过以形成栅极电极2G的层来形成第一延伸配线2A和第二延伸配线2B，能以形成栅极电极2G的工序来形成第一延伸配线2A和第二延伸配线2B。

[0123] 此外，图2(a)所示的配备于柔性有机EL显示装置50的第三导电构件9B形成于弯曲区域(BA)，所以优选为以金属材料来形成，具体而言，优选为以含有铝、钛及铜中的至少一种的金属材料来形成。

[0124] 而且，优选为图2(a)所示的配备于柔性有机EL显示装置50的第一导电构件9A、第二导电构件9C以及第三导电构件9B以同一材料来形成，例如，优选为以形成晶体管元件(TFT元件)的源极电极9S及漏极电极9D的层来形成，所述晶体管元件的源极电极及漏极电极配备于图2(b)所示的柔性有机EL显示装置50的显示区域(AA)。

[0125] 在本实施方式中，以层叠膜来形成第一导电构件9A、第二导电构件9C、第三导电构件9B、源极电极9S以及漏极电极9D，所述层叠膜是以钛(Ti)、铝(Al)、钛(Ti)这一顺序层叠而成；但并不限于此，例如在半导体膜15为含有铟(In)、镓(Ga)、锌(Zn)的氧化物半导体膜的情况下、或为利用低温多晶硅(LTPS)的制造工序制造的含有铟(In)、镓(Ga)、锌(Zn)的氧化物半导体膜的情况下等，形成源极电极9S及漏极电极9D的层的材料也可使用铜(Cu)与钛(Ti)的层叠膜。

[0126] 如上所述，通过以形成源极电极9S及漏极电极9D的层来形成第一导电构件9A、第二导电构件9C以及第三导电构件9B，能以形成源极电极9S及漏极电极9D的工序来形成第一导电构件9A、第二导电构件9C以及第三导电构件9B。

[0127] 此外，优选为图2(a)所示的配备于柔性有机EL显示装置50的第四导电构件22A和第五导电构件22B以同一材料来形成，例如优选为以形成有机EL显示元件5的第一电极(阳极)22或第二电极(例如，阴极电极)25的层来形成，所述有机EL显示元件的第一电极或第二电极配备于图2(b)所示的柔性有机EL显示装置50的显示区域(AA)。

[0128] 在本实施方式中，以层叠膜来形成第四导电构件22A、第五导电构件22B以及第一电极(阳极)22，所述层叠膜是以氧化铟锡(Indium Tin Oxide)、含银(Ag)的合金、氧化铟锡(Indium Tin Oxide)这一顺序层叠而成；但并不限于此。

[0129] 如上所述，通过以形成配备于有机EL显示元件5的第一电极(阳极)22的层来形成第四导电构件22A和第五导电构件22B，能以形成第一电极(阳极)22的工序来形成第四导电构件22A和第五导电构件22B。

[0130] 图3为图2(a)所示的柔性有机EL显示装置50的包含弯曲区域(BA)的狭缝(BH)附近的俯视图。

[0131] 发明者等人发现：在狭缝(BH)的显示区域(AA)侧的端部BHE1以及端子区域(TA)侧的端部BHE2，无机膜等的膜厚大，所以本来应该除去的形成第一导电构件9A、第二导电构件9C以及第三导电构件9B的层容易残留。

[0132] 残留于狭缝(BH)的显示区域(AA)侧的端部BHE1以及端子区域(TA)侧的端部BHE2的形成第一导电构件9A、第二导电构件9C以及第三导电构件9B的层的残渣会招致形成于狭缝(BH)内的多个第三导电构件9B彼此的泄漏。

[0133] 因此，优选为第三导电构件9B在俯视时不与狭缝(BH)的显示区域(AA)侧的端部BHE1以及端子区域(TA)侧的端部BHE2重叠。

[0134] 具体而言，例如，第三导电构件9B以如下的方式形成于狭缝(BH)内：自狭缝(BH)的显示区域(AA)侧的端部BHE1离开距离E1(例如1μm)，并且自狭缝(BH)的端子区域(TA)侧的端部BHE2离开距离E2(例如1μm)。

[0135] 另外，不言而喻，上述的距离E1(例如1μm)以及距离E2(例如1μm)仅为一例，可根据狭缝(BH)的深度和形状的不同适当改变。

[0136] 根据上述结构，能抑制形成于狭缝(BH)内的多个第三导电构件9B彼此的泄漏，该泄露可能因残留于狭缝(BH)的显示区域(AA)侧的端部BHE1以及端子区域(TA)侧的端部BHE2的形成第一导电构件9A、第二导电构件9C以及第三导电构件9B的层的残渣而产生。

[0137] 此外，优选为第一导电构件9A以及第二导电构件9C在俯视时不与狭缝(BH)的显示区域(AA)侧的端部BHE1以及端子区域(TA)侧的端部BHE2重叠。

[0138] 具体而言，例如，第一导电构件9A以及第二导电构件9C以如下的方式形成：自狭缝(BH)的显示区域(AA)侧的端部BHE1离开距离E3(例如1μm)，自狭缝(BH)的端子区域(TA)侧的端部BHE2离开距离E4(例如1μm)。

[0139] 另外，不言而喻，上述的距离E3(例如1μm)以及距离E4(例如1μm)仅为一例，可根据狭缝(BH)的深度和形状的不同适当改变。

[0140] 根据上述结构，能抑制多个第一导电构件9A彼此的泄漏和多个第二导电构件9C彼此的泄漏，该泄露可能会因残留于狭缝(BH)的显示区域(AA)侧的端部BHE1以及端子区域(TA)侧的端部BHE2的形成第一导电构件9A、第二导电构件9C以及第三导电构件9B的层的残渣而产生。

[0141] 〔实施方式2〕接着，基于图4对本发明的实施方式2进行说明。本实施方式在如下的方面与实施方式1不同：以与配备于柔性有机EL显示装置51的显示区域(AA)的有机绝缘膜(也称为边缘罩层)
23相同的材料来形成覆盖第一树脂层13、第四导电构件22A以及第五导电构件22B的第二树脂层；其它方面如实施方式1中所述。为了方便说明，对具有与实施方式1的附图所示的构件相同的功能的构件标注相同的符号，并省略其说明。

[0142] 图4为示出柔性有机EL显示装置51的包含弯曲区域(BA)的狭缝(BH)附近的概略结构的图。

[0143] 另外，虽然未予以图示，但柔性有机EL显示装置51的显示区域(AA)的概略结构与图2(b)所示的柔性有机EL显示装置50的显示区域(AA)的概略结构相同。

[0144] 在柔性有机EL显示装置51中，以与有机绝缘膜(也称为边缘罩层)23相同的材料来形成覆盖第一树脂层13、第四导电构件22A以及第五导电构件22B的第二树脂层，所述有机绝缘膜配备于柔性有机EL显示装置51的显示区域(AA)。

[0145] 如上所述，通过以与有机绝缘膜23相同的材料来形成覆盖第一树脂层13、第四导电构件22A以及第五导电构件22B的第二树脂层，能以形成有机绝缘膜23的工序来形成第二树脂层，所述有机绝缘膜配备于柔性有机EL显示装置51的显示区域(AA)。

[0146] 〔总结〕本发明的方式1的可弯曲性显示装置为包含可弯曲性基板以及配备在所述可弯曲性基板上的有源元件及显示元件的可弯曲性显示装置，其特征在于：在显示区域配备有所述有源元件及所述显示元件，在所述显示区域的周边配备有边框区域，该边框区域包含狭缝以及端子区域，所述狭缝是将配备在所述可弯曲性基板上的1层以上的无机膜中的至少一部分除去而成，所述端子区域具备端子部，在所述狭缝的外侧的所述显示区域侧配备有第一延伸配线，在所述狭缝的外侧的所述端子区域侧配备有第二延伸配线，在所述1层以上的无机膜以所述第一延伸配线露出的方式形成有第一开口，以所述第二延伸配线露出的方式形成有第二开口，在所述1层以上的无机膜上形成有第一导电构件以及第二导电构件，所述第一导电构件经由所述第一开口与所述第一延伸配线电连接，所述第二导电构件经由所述第二开口与所述第二延伸配线电连接，在所述狭缝形成有第三导电构件，在填埋所述狭缝并且覆盖所述第一导电构件、所述第二导电构件及所述第三导电构件的第一树脂层形成有俯视时与所述第一导电构件重叠的第三开口、与所述第二导电构件重叠的第四开口、以及与所述第三导电构件重叠的第五开口及第六开口，在所述第一树脂层上形成有第四导电构件以及第五导电构件，所述第四导电构件经由所述第三开口及所述第五开口将所述第一导电构件与所述第三导电构件电连接，所述第五导电构件经由所述第四开口及所述第六开口将所述第二导电构件与所述第三导电构件电连接，弯曲区域在俯视时与所述狭缝重叠。

[0147] 本发明的方式2的可弯曲性显示装置是根据上述形态1，其中优选为所述第三导电构件在俯视时不与所述狭缝中的所述显示区域侧的端部以及所述端子区域侧的端部重叠。

[0148] 本发明的方式3的可弯曲性显示装置是根据上述形态1或2，其中优选为所述第一导电构件以及所述第二导电构件在俯视时不与所述狭缝中的所述显示区域侧的端部以及所述端子区域侧的端部重叠。

[0149] 本发明的方式4的可弯曲性显示装置是根据上述形态1至3中的任一个，其中所述第三导电构件也可为包含铝、钛及铜中的至少一种的金属材料。

[0150] 本发明的方式5的可弯曲性显示装置是根据上述形态1至4中的任一个，其中所述第一延伸配线与所述第二延伸配线为同一材料，所述第一导电构件、所述第二导电构件及所述第三导电构件为同一材料，所述第四导电构件与所述第五导电构件为同一材料。

[0151] 本发明的方式6的可弯曲性显示装置是根据上述形态1至5中的任一个，其中所述有源元件包含：所述1层以上的无机膜中的一个层、相较于所述一个层为下层的第一电极层、以及相较于所述一个层为上层的第二电极层，所述第一延伸配线及所述第二延伸配线与所述第一电极层为同一材料，所述第一导电构件、所述第二导电构件及所述第三导电构件与所述第二电极层为同一材料。

[0152] 本发明的方式7的可弯曲性显示装置是根据上述形态1至6中的任一个，其中所述显示元件相较于所述有源元件形成于上层，且具备第三电极层作为最下层，所述第四导电构件及所述第五导电构件与所述第三电极层为同一材料。

[0153] 本发明的方式8的可弯曲性显示装置是根据上述形态6，其中所述有源元件为晶体管元件，所述第一电极层为形成栅极电极的层，所述第二电极层为形成源极电极及漏极电极的层。

[0154] 本发明的方式9的可弯曲性显示装置是根据上述形态7，其中所述显示元件为有机EL显示元件，所述第三电极层为形成阳极或阴极的层。

[0155] 本发明的方式10的可弯曲性显示装置是根据上述形态6或8，其中所述第二电极层为以钛、铝、钛这一顺序层叠而成的层叠膜或、钛与铜的层叠膜。

[0156] 本发明的方式11的可弯曲性显示装置是根据上述形态7或9，其中所述第三电极层为以氧化铟锡、含银的合金、氧化铟锡这一顺序层叠而成的层叠膜。

[0157] 本发明的方式12的可弯曲性显示装置是根据上述形态1至11中的任一个，其中优选为所述第一树脂层是由与包含所述有源元件的TFT层中的平坦化膜相同的材料所形成。

[0158] 本发明的方式13的可弯曲性显示装置是根据上述形态1至12中的任一个，其中优选为以覆盖所述第四导电构件、所述第五导电构件以及所述第一树脂层的方式形成有第二树脂层。

[0159] 本发明的方式14的可弯曲性显示装置是根据上述形态13，其中优选为所述第二树脂层与覆盖第三电极层的端部的边缘罩层为同一材料，配备于所述显示区域的所述显示元件具备所述第三电极层作为最下层。

[0160] 为了解决上述的问题，本发明的方式15的可弯曲性显示装置的制造方法为包含显示区域以及边框区域的可弯曲性显示装置的制造方法，所述显示区域配备有有源元件和显示元件，所述边框区域包含形成于所述显示区域的周边的弯曲区域和具备端子部的端子区域，所述制造方法的特征在于包括：第一工序，其在非可弯曲性基板上形成多层无机膜，所述多层无机膜包含互相分离的第一延伸配线和第二延伸配线；第二工序，其在所述边框区域的一部分除去所述多层无机膜中的至少一部分以形成狭缝，并且于所述多层无机膜以所述第一延伸配线露出的方式形成第一开口，以所述第二延伸配线露出的方式形成第二开口；第三工序，其在所述多层无机膜上形成第一导电构件以及第二导电构件，并且于所述狭缝形成第三导电构件，所述第一导电构件经由所述第一开口与所述第一延伸配线电连接，所述第二导电构件经由所述第二开口与所述第二延伸配线电连接；第四工序，其以填埋所述狭缝并且覆盖所述第一导电构件、所述第二导电构件及所述第三导电构件的方式形成第一树脂层，且于所述第一树脂层形成俯视时与所述第一导电构件重叠的第三开口、与所述第二导电构件重叠的第四开口、以及与所述第三导电构件重叠的第五开口及第六开口；第五工序，其在所述第一树脂层上形成第四导电构件以及第五导电构件且使其间的区域在俯视时与所述狭缝重叠，所述第四导电构件经由所述第三开口及所述第五开口将所述第一导电构件与所述第三导电构件电连接，所述第五导电构件经由所述第四开口及所述第六开口将所述第二导电构件与所述第三导电构件电连接；第六工序，其以覆盖所述第四导电构件、所述第五导电构件以及所述第一树脂层的方式形成第二树脂层；第七工序，其剥离所述非可弯曲性基板；以及第八工序，其将可弯曲性基板贴附于剥离所述非可弯曲性基板后的表面。

[0161] 本发明的方式16的可弯曲性显示装置的制造方法是根据上述形态15，其中优选为在所述第三工序中，以如下的方式形成所述第三导电构件：在俯视时不与所述狭缝中的所述显示区域侧的端部以及所述端子区域侧的端部重叠。

[0162] 本发明的方式17的可弯曲性显示装置的制造方法是根据上述形态15或16，其中优选为在所述第三工序中，以如下的方式形成所述第一导电构件及所述第二导电构件：在俯视时不与所述狭缝中的所述显示区域侧的端部及所述端子区域侧的端部重叠。

[0163] 本发明的方式18的可弯曲性显示装置的制造方法是根据上述形态15至17中的任一个，其中所述有源元件包含：所述多层无机膜中除形成所述第一延伸配线及所述第二延伸配线的层以外的一个层、相较于所述一个层为下层的第一电极层、以及相较于所述一个层为上层的第二电极层，在所述第一工序中，以与形成所述第一电极层的工序相同的工序来形成所述第一延伸配线和所述第二延伸配线，在所述第三工序中，以与形成所述第二电极层的工序相同的工序来形成所述第一导电构件、所述第二导电构件及所述第三导电构件。

[0164] 本发明的方式19的可弯曲性显示装置的制造方法是根据上述形态15至18中的任一个，其中所述显示元件相较于所述有源元件形成于上层，且具备第三电极层作为最下层，在所述第五工序中，以与形成所述第三电极层的工序相同的工序来形成所述第四导电构件和所述第五导电构件。

[0165] 本发明的方式20的可弯曲性显示装置的制造方法是根据上述形态18，其中所述有源元件为晶体管元件，所述第一电极层为形成栅极电极的层，所述第二电极层为形成源极电极及漏极电极的层。

[0166] 本发明的方式21的可弯曲性显示装置的制造方法是根据上述形态19，其中所述显示元件为有机EL显示元件，所述第三电极层为形成阳极或阴极的层。

[0167] 本发明的方式22的可弯曲性显示装置的制造方法是根据上述形态15至21中的任一个，其中优选为以与形成边缘罩层的工序相同的工序来形成所述第六工序中形成的所述第二树脂层，所述边缘罩层覆盖第三电极层的端部，配备于所述显示区域的所述显示元件具备所述第三电极层作为最下层。

[0168] 〔附记事项〕本发明并不限于上述的各实施方式，可在权利要求所示的范围内进行各种变更，将分别公开于不同实施方式的技术手段适当组合而得到的实施方式也包含于本发明的技术范围。而且，通过组合分别公开于各实施方式的技术手段，能形成新的技术特征。
产业上的可利用性

[0169] 本发明能用于可弯曲性显示装置以及可弯曲性显示装置的制造方法。附图标记说明

[0170]1   玻璃基板(非可弯曲性基板)
2A    第一延伸配线
2B    第二延伸配线
2G    栅极电极
3     防湿层
4     TFT层
5     有机EL显示元件(显示元件)
9A    第一导电构件
9B    第三导电构件
9C    第二导电构件
9S    源极电极
9D    漏极电极
10    薄膜基板(可弯曲性基板)
12    聚酰亚胺树脂层
13    第一树脂层
14    第二树脂层
16    栅极绝缘层
18    第一绝缘层
20    第二绝缘层
22    第一电极
22A   第四导电构件
22B   第五导电构件
23    有机绝缘膜(边缘罩层)
50    柔性有机EL显示装置(可弯曲性显示装置)
51    柔性有机EL显示装置(可弯曲性显示装置)
AA    显示区域
TA    端子区域
EA    边框区域
BA    弯曲区域
BH    狭缝
CH1   接触孔(第一开口)
CH2   接触孔(第二开口)
TH1   开口(第三开口)
TH2   开口(第五开口)
TH3   开口(第六开口)
TH4   开口(第四开口)

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可弯曲性显示装置以及可弯曲性显示装置的制造方法

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