技术领域
[0001] 本
申请涉及
半导体技术领域，尤其涉及一种显示面板、显示装置及其制备方法。
背景技术
[0002]
液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)，由于功耗很低，并且具有高画质、体积小、重量轻的特点，因此倍受大家青睐，成为当前显示器的主流。目前液晶显示器以
薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)液晶显示器为主，其显示面板通常包括相对设置的彩膜
基板、TFT阵列基板以及设置于两基板之间的液晶层。
[0003] 现有的液晶显示器通常在彩膜基板的面向液晶层的一面设置有多个与
像素单元一一对应的色阻单元，以将
背光源的光转换为不同
颜色的光。而在相邻像素单元之间的间隙通常还设置有黑矩阵，即，显示面板包括用于显示画面的像素单元以及位于相邻像素单元之间的黑矩阵，显示面板并非全部的区域都用来显示，存在有效显示面积较低的问题。
[0004] 申请内容
[0005] 本申请提供一种显示面板、显示装置及其制作方法，以提高显示面板的有效显示面积。
[0006] 本申请
实施例提供一种显示面板，包括多个呈阵列分布的像素单元，以及位于相邻所述像素单元之间间隙的黑矩阵，任一行所述像素单元在相邻所述像素单元之间的间隙区域还设置有显示预设颜色的显示构件，所述显示构件位于所述黑矩阵的靠近所述显示面板出光面的一侧。
[0007] 优选的，所述像素单元包括显示红色的像素单元、显示绿色的像素单元以及显示蓝色的像素单元，所述显示构件为显示白色的显示构件。
[0008] 优选的，所述显示面板包括相对的阵列基板和彩膜基板，所述显示构件位于所述彩膜基板背向所述阵列基板的一面。
[0009] 优选的，每一所述显示构件包括依次位于所述彩膜基板之上的第一
电极、
电致变色层、以及第二电极，其中，所述电致变色层在所述第一电极和所述第二电极加预设
电压时显示预设颜色。
[0010] 优选的，每一所述显示构件还包括位于所述彩膜基板与所述第一电极之间且与所述第一电极
接触的第一导电电极，所述第一导电电极沿所述像素单元行方向延伸，位于相邻所述像素单元行之间，并与所述第一电极的端部连接；
[0011] 每一所述显示构件还包括位于所述第二电极之上且与所述第二电极接触的第二导电电极，所述第二导电电极沿所述像素单元行方向延伸，位于相邻所述像素单元行之间，并与所述第二电极的端部连接。
[0012] 优选的，所述第二导电电极之上还设置有封装保护层。
[0013] 优选的，所述电致变色层的材质为无机电致变色材料或有机电致变色材料。
[0014] 优选的，所述电致变色层的材质为
电子墨
水。
[0015] 本申请实施例还提供一种显示装置，包括本申请实施例提供的所述显示面板。
[0016] 本申请实施例还提供一种显示面板的制作方法，其中，所述显示面板包括多个呈阵列分布的像素单元，以及位于相邻所述像素单元之间间隙的黑矩阵，所述制作方法包括：
[0017] 在任一行所述像素单元的相邻所述像素单元之间的间隙区域形成显示预设颜色的显示构件，所述显示构件位于所述黑矩阵面向所述显示面板出光面的一侧。
[0018] 优选的，在任一行所述像素单元的相邻所述像素单元之间的间隙区域形成显示预设颜色的显示构件之前，所述制作方法还包括：
[0019] 形成阵列基板；
[0020] 形成彩膜基板，其中，所述彩膜基板包括与每一所述像素单元对应的色阻单元，以及位于相邻所述色阻单元之间的黑矩阵；
[0021] 将所述阵列基板和所述彩膜基板进行对盒；
[0022] 其中，所述在任一行所述像素单元的相邻所述像素单元之间的间隙区域形成显示预设颜色的显示构件，具体包括：在所述彩膜基板背向所述阵列基板一面的预设区域成显示预设颜色的显示构件，所述预设区域包括各行所述像素单元的相邻所述像素单元之间的间隙区。
[0023] 优选的，在任一行所述像素单元的相邻所述像素单元之间的间隙区域形成显示预设颜色的显示构件之前，所述制作方法还包括：
[0024] 形成阵列基板；
[0025] 形成彩膜基板；
[0026] 其中，所述在任一行所述像素单元的相邻所述像素单元之间的间隙区域形成显示预设颜色的显示构件，具体包括：在所述彩膜基板背向所述阵列基板一面的预设区域成显示预设颜色的显示构件，所述预设区域包括各行所述像素单元的相邻所述像素单元之间的间隙区域；
[0027] 以及，在所述彩膜基板背向所述阵列基板一面的预设区域成显示预设颜色的显示构件之后，所述制作方法还包括：将所述阵列基板和所述彩膜基板进行对盒。
[0028] 优选的，所述在所述彩膜基板背向所述阵列基板一面的预设区域成显示预设颜色的显示构件，具体包括：
[0029] 在所述彩膜基板背向所述阵列基板一面的预设区域依次形成第一电极、电致变色层、第二电极。
[0030] 优选的，所述在所述彩膜基板背向所述阵列基板一面的预设区域依次形成第一电极、电致变色层、第二电极，具体包括：
[0031] 在所述彩膜基板背向所述阵列基板一面的预设区域形成第一
氧化铟
锡电极；
[0032] 在所述第一氧化铟锡电极之上形成电子墨
水电致变色层；
[0033] 在所述
电子墨水电致变色层之上形成第二氧化铟锡电极。
[0034] 优选的，在所述彩膜基板背向所述阵列基板一面的预设区域形成第一电极之前，所述制作方法还包括：在所述彩膜基板背向所述阵列基板一面的预设区域形成第一导电电极，其中，所述第一导电电极沿所述像素单元行方向延伸，位于相邻所述像素单元行之间，并与所述第一电极的端部连接；
[0035] 在所述彩膜基板背向所述阵列基板一面形成第二电极之后，所述制作方法还包括：在所述第二电极之上形成第二导电电极，其中，所述第二导电电极沿所述像素单元行方向延伸，位于相邻所述像素单元行之间，并与所述第二电极的端部连接。
[0036] 本申请实施例有益效果如下：通过在任一行所述像素单元在相邻所述像素单元之间的间隙区域设置有显示预设颜色的预设显示构件，进而可以使显示面板的相邻像素单元之间的间隙区域也进行发光显示，进而可以提高显示面板的有效显示面积。
附图说明
[0037] 图1为本申请实施例提供的显示面板的剖视结构示意图；
[0038] 图2为本申请实施例中相邻三个像素单元所在区域的俯视放大结构示意图；
[0039] 图3为本申请实施例中，制备完成第一导电电极后的结构示意图；
[0040] 图4为本申请实施例中，制备完成第一电极的结构示意图；
[0041] 图5为本申请实施例中，制备完成电致变色层的结构示意图；
[0042] 图6为本申请实施例中，制备完成第二导电电极的结构示意图。
具体实施方式
[0043] 下面结合
说明书附图对本申请实施例的实现过程进行详细说明。需要注意的是，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。
[0044] 参见图1，本申请实施例提供一种显示面板，包括多个呈阵列分布的像素单元24，以及位于相邻像素单元24之间间隙的黑矩阵25。其中，像素单元24可以为显示红色的红色像素单元241、显示绿色的绿色像素单元242以及显示蓝色的蓝色像素单元243。任一行像素单元在相邻像素单元24之间的间隙区域还设置有显示预设颜色的显示构件26，显示构件26位于黑矩阵25的靠近显示面板出光面AB的一侧。
[0045] 在具体实施时，显示面板显示构件26以外的部分具体可以与
现有技术中的液晶显示面板结构相同，即，显示面板可以包括背光模组4和位于背光模组4之上的液晶盒，而液晶盒具体包括阵列基板1和彩膜基板2，阵列基板1与彩膜基板2之间设置有液晶层3。其中，彩膜基板具体可以包括第一衬底基板21，设置在第一衬底基板21在面向阵列基板1一面的色阻膜层20，色阻膜层20具体包括多个与像素单元24一一对应的色阻单元，例如，可以包括与红色像素单元241对应的红色色阻单元、与绿色像素单元242对应的绿色色阻单元以及与蓝色像素单元对应的蓝色色阻单元。相邻色阻单元之间还设置有用于黑矩阵25。显示构件26之上具体还可以设置有光学胶22，以及在光学胶22之上还可以设置有上偏光片23。阵列基板1具体可以包括第二衬底基板11，设置在第二衬底基板11面向液晶层3一面的
薄膜晶体管层12，设置在第二衬底基板21背向液晶层一面的下偏光片13。对于显示构件26，为了不影响彩膜基板其它膜层的制作，其具体可以设置在彩膜基板2背向阵列基板1的一面，具体位于各行像素单元24的相邻像素单元之间的间隙区域，即，显示构件26在显示面板出光面的正投影与该显示构件所在行的黑矩阵25在显示面板出光面的正投影重叠。
[0046] 本申请实施例中，通过在任一行像素单元在相邻像素单元之间的间隙区域设置有显示预设颜色的预设显示构件，显示构件不需要借助背
光源的光显示，可以直接反射环境光线，进而可以使显示面板的相邻像素单元之间的间隙区域也进行显示，进而可以提高显示面板的有效显示面积，而且，任一行像素单元在相邻像素单元之间间隙设置的显示预设颜色的显示构件，可以使显示面板的颜色更丰富，更细腻，实现自然色彩显示。
[0047] 具体的显示构件，可以包括依次位于彩膜基板之上的第一电极、电致变色层、以及第二电极，其中，电致变色层在第一电极和第二电极加预设电压时显示预设颜色，具体的第二电极在彩膜基板上的正投影与电致变色层在彩膜基板上的正投影重叠，第二电极在彩膜基板上的正投影也与第一电极在彩膜基板上的正投影重叠，且第二电极在彩膜基板上的正投影
覆盖与该第二电极相邻的像素单元之间的间隙在彩膜基板上的正投影。具体的第一电极可以为高透过率的氧化铟锡或
石墨烯，优选的，考虑到工艺想衔接性，第一电极为氧化铟锡。具体的第二电极可以为高透过率的氧化铟锡或
石墨烯，优选的，考虑到工艺想衔接性，第二电极为氧化铟锡。对于电致变色层的材质，其为在外加较低的驱动电压或
电流作用下，发生可逆的颜色变化，是材料的价态和组分发生可逆的变化，使材料的光学性能发生改变或者保持改变，同时电致变色材料还需要有很好的离子
导电性，较高的
对比度、变色效率和循环周期等电色性能。电致变色材料具体可以为无机电致变色材料或有机电致变色材料。无机电致变色材料优选为三氧化钨。目前，以三氧化钨为功能材料的
电致变色器件已经产业化。而有机电致变色材料可以为聚噻吩类及其衍
生物、紫罗精类、四硫富瓦烯、金属酞菁类化合物等。以紫罗精类为功能材料的电致变色材料已经得到实际应用。当然，本申请实施例中的电致变色层的材质也优选可以为制作较为成熟的电子墨水。
[0048] 优选的，参见图2所示，其中，图2为图1中相邻三个像素单元所在区域(如图1中虚线框28)的俯视放大结构示意图，包括彩膜基板的第一衬底基板21，每一显示构件还包括位于彩膜基板与第一电极262之间且与第一电极262接触的两条第一导电电极261，每一第一导电电极261沿像素单元行方向延伸，位于相邻像素单元行之间，并与第一电极262的端部连接。每一显示构件还包括位于第二电极之上且与第二电极接触的第二导电电极(图2中未示出)，第二导电电极沿像素单元行方向延伸，位于相邻像素单元行之间，并与第二电极的端部连接。另外，在具体实施时，在像素单元包括红色像素单元、绿色像素单元以及蓝色像素单元时，显示构件具体可以为显示白色的显示构件。而一般的显示面板中，通常将依次相邻的红色像素单元、绿色像素单元以及蓝色像素单元三个像素单元作为一个像素模
块，因此，相应的，本申请实施例中，参见图2所示，每三个相邻像素单元(例如图中红色像素单元241、绿色像素单元242以及蓝色像素单元243)对应的多个显示构件的第一导电电极261为一体结构，即可以将每三个相邻像素单元对应的显示构件作为一显示模块，以配合每一像素模块的色彩需要进行独立显示。本申请实施例中，显示构件为显示白色的显示构件，还可以使显示面板实现增加
亮度，实现自然色彩显示。当然，现有技术中的有机和无机物可以实现的颜色变化会更多，可以实施更多的搭配组合产生相应颜色的光，本申请不以此为限。
[0049] 本申请实施例还提供一种显示装置，包括本申请实施例提供的显示面板。
[0050] 本申请实施例还提供一种显示面板的制作方法，其中，显示面板包括多个呈阵列分布的像素单元，以及位于相邻像素单元之间间隙的黑矩阵，制作方法包括：
[0051] 在任一行像素单元的相邻像素单元之间的间隙区域形成显示预设颜色的显示构件，显示构件位于黑矩阵面向显示面板出光面的一侧。
[0052] 在具体实施时，显示构件可以是形成在彩膜基板之上，显示面板具体可以在一个表面设置色阻膜层以及黑矩阵，在形成彩膜基板之后，直接在彩膜基板的另一表面形成显示构件；也可以是将彩膜基板与阵列基板对盒后，在彩膜基板的与阵列基板相背的一面形成显示构件，以下以显示构件中的电致变色层材料为电子墨水为例，结合具体实施例进行举例说明。
[0053] 实施例一
[0054] 本申请实施例提供第一种具体的显示面板的制备方法，包括：
[0055] 步骤一，形成阵列基板。具体形成阵列基板的步骤可以与现有技术制作液晶显示面板阵列基板的方式相同，在此不再赘述。
[0056] 步骤二，形成彩膜基板，其中，彩膜基板包括与每一像素单元对应的色阻单元，以及位于相邻色阻单元之间的黑矩阵。具体形成彩膜基板的步骤可以与现有技术制作液晶显示面板彩膜基板的方式相同，在此不再赘述。
[0057] 步骤三，将阵列基板和彩膜基板进行对盒，其中，黑矩阵位于彩膜基板的面向阵列基板的一面。
[0058] 步骤四，在彩膜基板背向阵列基板一面形成第一导电电极261，其中，第一导电电极261沿像素单元行方向延伸，位于相邻像素单元行之间。形成第一导电电极后261的结构示意图如图3所示。
[0059] 步骤五，在彩膜基板背向阵列基板一面的预设区域形成第一氧化铟锡电极262，其中，预设区域包括各行像素单元的相邻像素单元之间的间隙区域。其中，第一氧化铟锡电极262的端部与第一导电电极261连接。形成第一氧化铟锡电极262后的结构示意图如图2所示。
[0060] 步骤六，在第一氧化铟锡电极之262上形成电子墨水电致变色层263。形成电子墨水电致变色层263后的示意图如图4所示。
[0061] 步骤七，在电子墨水电致变色层263之上形成第二氧化铟锡电极264。形成第二氧化铟锡电极264后的示意图如图5所示。
[0062] 步骤八，在第二氧化铟锡电极264之上形成第二导电电极265，其中，第二导电电极265沿像素单元行方向延伸，位于相邻像素单元行之间，并与第二氧化铟锡电极264的端部连接。形成第二导电电极265后的示意图如图6所示。
[0063] 步骤九，在第二导电电极之上光学胶(Optically Clear Adhesive，OCA)，并在光学胶之上贴附上偏光片。当然贴附完上偏光片之后，还可以形成玻璃或PET封装保护层。
[0064] 实施例二
[0065] 本申请实施例提供第二种具体的显示面板的制备方法，包括：
[0066] 步骤一，形成阵列基板。具体形成阵列基板的步骤可以与现有技术制作液晶显示面板阵列基板的方式相同，在此不再赘述。
[0067] 步骤二，形成彩膜基板，其中，彩膜基板包括与每一像素单元对应的色阻单元，以及位于相邻色阻单元之间的黑矩阵。具体形成彩膜基板的步骤可以与现有技术制作液晶显示面板彩膜基板的方式相同，在此不再赘述。
[0068] 步骤三，在彩膜基板背向阵列基板一面形成第一导电电极261，其中，第一导电电极261沿像素单元行方向延伸，位于相邻像素单元行之间。形成第一导电电极后261的结构示意图如图3所示。
[0069] 步骤四，在彩膜基板背向阵列基板一面的预设区域形成第一氧化铟锡电极262，其中，预设区域包括各行像素单元的相邻像素单元之间的间隙区域。其中，第一氧化铟锡电极262的端部与第一导电电极261连接。形成第一氧化铟锡电极262后的结构示意图如图2所示。
[0070] 步骤五，在第一氧化铟锡电极之262上形成电子墨水电致变色层263。形成电子墨水电致变色层263后的示意图如图4所示。
[0071] 步骤六，在电子墨水电致变色层263之上形成第二氧化铟锡电极264。形成第二氧化铟锡电极264后的示意图如图5所示。
[0072] 步骤七，在第二氧化铟锡电极264之上形成第二导电电极265，其中，第二导电电极265沿像素单元行方向延伸，位于相邻像素单元行之间，并与第二氧化铟锡电极264的端部连接。形成第二导电电极265后的示意图如图6所示。
[0073] 步骤八，将阵列基板和形成有显示构件的彩膜基板进行对盒，其中，对盒时，黑矩阵位于彩膜基板的面向阵列基板的一面。
[0074] 步骤九，在第二导电电极之上光学胶(Optically Clear Adhesive，OCA)，并在光学胶之上贴附上偏光片。当然贴附完上偏光片之后，还可以形成玻璃或PET封装保护层。
[0075] 本申请实施例有益效果如下：通过在任一行像素单元在相邻像素单元之间的间隙区域设置有显示预设颜色的预设显示构件，进而可以使显示面板的相邻像素单元之间的间隙区域也进行发光显示，进而可以提高显示面板的有效显示面积。
[0076] 显然，本领域的技术人员可以对本申请进行各种改动和变型而不脱离本申请的精神和范围。这样，倘若本申请的这些
修改和变型属于本申请
权利要求及其等同技术的范围之内，则本申请也意图包含这些改动和变型在内。
