保香保润包装材料
阅读：365发布：2020-05-12
专利汇可以提供保香保润包装材料专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本实用新型涉及一种保香保润 包装 材料，它包括衬纸单元，衬纸单元折成所需 框架 结构或者 内衬 结构；该衬纸单元由自下向上依次复合的BOPP膜层、下 镀 铝 层、干复胶层、上镀铝层和表层构成，该表层为BOPP膜层或者尼龙膜层。本实用新型的保香保润 包装材料 的上下表层均配置有阻隔性的膜层，对烟盒内的香烟具有有效的保香、保润作用，能够良好地保持 卷烟 的新鲜程度，吸食第一只和最后一只烟的新鲜度并无差别，且衬纸的制备工艺更为简单，形成于基体膜层上的镀铝层完整性好，不容易破损，能够形成更为精细的镭射图纹，产品成品率高。，下面是保香保润包装材料专利的具体信息内容。
保香保润包装材料
技术领域
背景技术
[0002] 现在使用的烟盒框架纸及内衬纸多是普通纸层作为基材并在其表面进行单色或者多次印刷的无规律图文制成，这种普通衬纸的透气性较强，香烟的部分芳香物质、水分也会通过衬纸挥发而损失，导致普通衬纸对香烟的保鲜能力并不理想。
[0003] 另外，现有技术中也存在具有一定保润效果的烟盒衬纸，参照图3，其由自上至下依次复合的BOPP膜层21、干式复合胶22、铝箔层23、干式复合胶24以及BOPP膜层/纸层25构成，最上层的BOPP膜层21的外表面上可印刷图案；该衬纸具有一定的保香保润作用，但是该衬纸需要二次胶黏复合，工序较为复杂，且单层铝箔23制备镭射图纹及复合过程难度较大，容易出现破损，产品次品率高。发明内容
[0004] 本实用新型提供一种保香保润包装材料，以克服现有的多数框架纸或者内衬纸存在的保润效果不理想、次品率高的问题。
[0005] 本实用新型采用如下技术方案：
[0006] 保香保润包装材料，包括衬纸单元，衬纸单元折成所需框架结构或者内衬结构；该衬纸单元由自下向上依次复合的BOPP膜层、下镀铝层、干复胶层、上镀铝层和表层构成，该表层为BOPP膜层或者尼龙膜层。
[0007] 进一步改进地，上述下镀铝层的上表面的亮光面和上述上镀铝层的下表面的哑光面分别模压有镭射图纹。上述下镀铝层和/或上述上镀铝层形成的镭射图纹的局部具有凸面镜或者凹面镜效果的防伪图纹。
[0008] 进一步改进地，由上述对本实用新型结构的描述可知，和现有技术相比，本实用新型具有如下优点：本实用新型的保香保润包装材料的上下表层均配置有阻隔性的膜层，对烟盒内的香烟具有有效的保香、保润作用，能够良好地保持卷烟的新鲜程度，吸食第一只和最后一只烟的新鲜度并无差别，且衬纸的制备工艺更为简单，形成于基体膜层上的镀铝层完整性好，不容易破损，能够形成更为精细的镭射图纹，产品成品率高。另外，在衬纸单元可配置具有凸面镜或者凹面镜效果的防伪图纹，具有很好的防伪效果，且该防伪图纹还具备凸面镜或者凹面镜的功能，能够为使用者提供镜面功能，且防伪图纹中还能够合成如logo、图文等镭射全息图纹，进一步增强其防伪性和装饰性，使得产品具备良好的防伪性能和艺术性。附图说明
[0009] 图1为本实用新型的框架纸的结构示意图。
[0010] 图2为本实用新型的衬纸单元的剖视结构示意图。
[0011] 图3为背景技术的衬纸单元的剖视结构示意图。
具体实施方式
[0012] 下面参照附图说明本实用新型的具体实施方式。
[0013] 参照图1、图2，保香保润包装材料，包括衬纸单元1，衬纸单元1折成所需框架结构或者内衬结构；该衬纸单元1由自下向上依次复合的BOPP膜层11、下镀铝层12、干复胶层13、上镀铝层14和表层15构成，该表层15为BOPP膜层或者尼龙膜层。继续参照图2，上述下镀铝层12的上表面的亮光面和上述上镀铝层14的下表面的哑光面分别模压有镭射图纹。上述下镀铝层12和/或上述上镀铝层14形成的镭射图纹的局部具有凸面镜或者凹面镜效果的防伪图纹。下镀铝层12直接附着于BOPP膜层11的上表面上，上镀铝层14直接附着于表层15的下表面上；所形成的具有镀铝层的BOPP膜层11和表层15分别模压具备镭射图纹后通过干复胶层13复合为一体。
[0014] 继续参照图1、图2，本实用新型的保香保润包装材料的上下表层均配置有阻隔性的膜层，对烟盒内的香烟具有有效的保香、保润作用，能够良好地保持卷烟的新鲜程度，吸食第一只和最后一只烟的新鲜度并无差别，且衬纸的制备工艺更为简单，形成于基体膜层上的镀铝层完整性好，不容易破损，能够形成更为精细的镭射图纹，产品成品率高。另外，在衬纸单元1可配置具有凸面镜或者凹面镜效果的防伪图纹16，具有很好的防伪效果，且该防伪图纹还具备凸面镜或者凹面镜的功能，能够为使用者提供镜面功能，且防伪图纹中还能够合成如logo、图文等镭射全息图纹，进一步增强其防伪性和装饰性，使得产品具备良好的防伪性能和艺术性。
[0015] 上述仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动，均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。
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