技术领域
[0001] 本
发明涉及防伪技术标识技术领域,具体涉及一种组合全息技术防伪标识及其制作方法。
背景技术
[0002] 上世纪80年代以来,激光全息防伪逐渐进入了我国防伪标识市场。与印刷标识相比,全息标识较难仿制,无油墨、更环保,并且具有多彩绚烂的动态效果,这成了消费者选择它的理由。传统的全息技术是通过参考光和物光的干涉,制作成衍射光栅来完成。近年来,随着计算全息理论的发展,使得
光刻机逐渐占据全息市场,使全息产品更加
像素化、晶格化。
光刻机的出现极大的丰富了全息技术,在原有的
基础上新添诸如透镜技术、金属浮雕技术、像元技术、动态光栅技术等。与传统的全息技术相比,像素全息具有
亮度高,智能化高等特点,但是也存在以下缺点:像素化程度高、不够细腻。尤其是三维立体技术,传统全息技术能够真实的还原物体的原本样貌,而光刻机生产的三维立体技术表面粗糙,细腻程度低,不够真实。基于上述原因,现有必要加工一个平台
定位装置,将光刻平台与传统全息平台结合,生产一种组合全息技术标识。
发明内容
[0003] 为了解决上述技术问题中的不足,本发明的目的在于:提供一种组合全息技术防伪标识及其制作方法,能够结合不同平台的优势技术,将多平台技术结合到一个产品里面,提高造假难度,提升品质。
[0004] 本发明为解决其技术问题所采用的技术方案为:
[0005] 所述组合全息技术防伪标识的制作方法,包含以下步骤:
[0006] a、使用两组曝光平台在对位试片版1上制作全息图案T1和T2;
[0007] b、使用软尺测量全息图案T1和全息图案T2的相对偏差并作记录,根据测量的偏差值,在两组曝光平台中的第二组中校准零点坐标值,完成一次平台粗略对位;
[0008] c、按照步骤a和步骤b中的方法进行平台二次对位,得到带有两组曝光平台的全息图案的对位试片版2,再次精细测量两个全息图案的
位置偏差值并记录,根据测量记录再次对两组曝光平台中的第二组的零点坐标值进行校准,完成第二次对位;
[0009] d、经过两次位置校正后,制作正版,在洁净的
光刻胶版上得到完整的组合全息图;
[0010] e、将含有完整的组合全息图的光刻胶版经过电
镀、拼版,得到组合全息防伪技术标识模压版;
[0011] f、使用PET作为基材进行模压、涂胶、模切,得到组合全息技术防伪标识。
[0012] 优选的,步骤a具体包含以下步骤:
[0013] a1、将一张光刻胶版固定在一组曝光平台上的固定
支架上,光刻胶版与固定支架触点严密
接触以保证三点定位,调整好光路,曝光100s-200s,使欲制作的全息图案在光刻胶版的特定位置留下曝光痕迹,显影,形成对位试片版1,此时对位试片版1上会呈现全息图案T1;
[0014] a2、将对位试片版1按照与步骤a1相同的三点定位放置方式放到另一组曝光平台中的固定支架上,固定支架的作用是保证在取下光刻胶版后,还能以相同的位置放回去,并且保证其相对坐标不变,在滑轨上滑动该组固定支架,在对位试片版1上光刻一个10mm*10mm的正方形框T2,进行二次显影,此时对位试片版1上会呈现两个全息图案T1和T2;
[0015] 优选的,步骤d具体的方法是:将一张洁净的光刻胶版按照三点定位的方式放置于一组曝光平台上的固定支架上,制作透射式全息图Z1,然后将上述光刻胶版放置于另一组曝光平台上的固定支架上,制作像素全息图Z2,此时Z1和Z2就会在光刻胶版上形成一个精确套位的完整图案,经显影后,得到完整的组合全息图。
[0016] 优选的,两组曝光平台采用第一曝光平台、第二曝光平台或第三曝光平台中的任两组。
[0017] 优选的,第一曝光平台包括第一固定支架,第一固定支架的下部开有第一滑轨,第一固定支架上设置呈三
角形的三个第一触点,第一固定支架通过两侧的支架螺丝固定,第一固定支架的第一滑轨可以在支架螺丝的定位下,进行平移。
[0018] 优选的,第二曝光平台包括第二固定支架,第二固定支架的左部开有第二滑轨,第二固定支架上设置呈三角形的三个第二触点;第二固定支架通过两侧的支架螺丝固定,第二固定支架的第二滑轨可以在支架螺丝的定位下,进行平移。
[0019] 优选的,第三曝光平台的上部设置互相垂直的X向固定支架和Y向固定支架,X向固定支架和Y向固定支架的上部设置第三固定支架,第三固定支架的右部开有第三滑轨,第三固定支架上设置呈三角形的三个第三触点;第三固定支架通过两侧的支架螺丝固定,第三固定支架的第三滑轨可以在支架螺丝的定位下,进行平移,X向固定支架可以实现X向移动,Y向固定支架可以实现Y向移动,进行多种操作。
[0020] 所述的组合全息技术防伪标识的制作方法的组合全息技术防伪标识,包括从上向下依次排布的PET层、模压信息层、镀
铝层、胶粘剂层以及
硅油纸层。
[0021] 与
现有技术相比,本发明具有以下有益效果:
[0022] 本发明解决了现有技术加工品质不佳的缺点,以提供一种能够结合不同平台的优势技术,将多平台技术结合到一个产品里面,提高造假难度,提升品质。
附图说明
[0023] 图1本发明第一曝光平台结构示意图;
[0024] 图2本发明第二曝光平台结构示意图;
[0025] 图3本发明第三曝光平台结构示意图。
[0026] 图中:1、第一曝光平台;2、第一固定支架;3、支架螺丝;4、第一滑轨;5、第一触点;6、第二曝光平台;7、第二触点;8、第二滑轨;9、第二固定支架;10、X向固定支架;11、Y向固定支架;12、第三固定支架;13、第三触点;14、第三滑轨。
具体实施方式
[0027] 下面结合附图对本发明
实施例做进一步描述:
[0028] 实施例1
[0029] 如图1-3所示,本发明所述组合全息技术防伪标识的制作方法,其特征在于,包含以下步骤:
[0030] a、将一张光刻胶版固定在第一曝光平台1上的第一固定支架2上,光刻胶版与第一触点5严密接触以保证三点定位,调整好光路,曝光100s-200s,使欲制作的全息图案在光刻胶版的特定位置留下曝光痕迹,显影,形成对位试片版1,此时对位试片版1上会呈现全息图案T1;
[0031] 将对位试片版1按照与之前相同的三点定位放置方式放到第二曝光平台6中的第二固定支架9上,第二固定支架9的作用是保证在取下光刻胶版后,还能以相同的位置放回去,并且保证其相对坐标不变,沿第二滑轨8滑动第二固定支架9,在对位试片版1上光刻一个10mm*10mm的正方形框T2,进行二次显影,此时对位试片版1上会呈现两个全息图案T1和T2;
[0032] b、使用软尺测量全息图案T1和全息图案T2的相对偏差并作记录,根据测量的偏差值,在第二曝光平台6中校准零点坐标值,完成一次平台粗略对位;
[0033] c、按照步骤a和步骤b中的方法进行平台二次对位,得到带有来自第一曝光平台1和来自第二曝光平台6的全息图案的对位试片版2,再次精细测量两个全息图案的位置偏差值并记录,根据测量记录再次对第二曝光平台6的零点坐标值进行校准,完成第二次对位;
[0034] d、经过两次位置校正后,制作正版,在洁净的光刻胶版上得到完整的组合全息图;具体的,将一张洁净的光刻胶版按照三点定位的方式放置于第一曝光平台1上的第一固定支架2上,制作透射式全息图Z1,然后将上述光刻胶版放置于第二曝光平台6上的第二固定支架9上,制作像素全息图Z2,此时Z1和Z2就会在光刻胶版上形成一个精确套位的完整图案,经显影后,得到完整的组合全息图。
[0035] e、将含有完整的组合全息图的光刻胶版经过
电镀、拼版,得到组合全息防伪技术标识模压版;
[0036] f、使用PET作为基材进行模压、涂胶、模切,得到组合全息技术防伪标识。
[0037] 实施例2
[0038] 如图1-3所示,本发明所述组合全息技术防伪标识的制作方法,其特征在于,包含以下步骤:
[0039] a、将一张光刻胶版固定在第一曝光平台1上的第一固定支架2上,光刻胶版与第一触点5严密接触以保证三点定位,调整好光路,曝光100s-200s,使欲制作的全息图案在光刻胶版的特定位置留下曝光痕迹,显影,形成对位试片版3,此时对位试片版3上会呈现全息图案T3;
[0040] 将对位试片版3按照与之前相同的三点定位放置方式放到第三曝光平台中的第三固定支架12上,第三固定支架12的作用是保证在取下光刻胶版后,还能以相同的位置放回去,并且保证其相对坐标不变,沿第三滑轨14滑动第三固定支架12,在对位试片版3上光刻一个10mm*10mm的正方形框T2,进行二次显影,此时对位试片版3上会呈现两个全息图案T3和T4;
[0041] b、使用软尺测量全息图案T3和全息图案T4的相对偏差并作记录,根据测量的偏差值,在第三曝光平台中校准零点坐标值,完成一次平台粗略对位;
[0042] c、按照步骤a和步骤b中的方法进行平台二次对位,得到带有来自第一曝光平台1和来自第三曝光平台的全息图案的对位试片版4,再次精细测量两个全息图案的位置偏差值并记录,根据测量记录再次对第三曝光平台的零点坐标值进行校准,完成第二次对位;
[0043] d、经过两次位置校正后,制作正版,在洁净的光刻胶版上得到完整的组合全息图;具体的,将一张洁净的光刻胶版按照三点定位的方式放置于第一曝光平台1上的第一固定支架2上,制作透射式全息图Z1,然后将上述光刻胶版放置于第三曝光平台上的第三固定支架12上,制作像素全息图Z2,此时Z1和Z2就会在光刻胶版上形成一个精确套位的完整图案,经显影后,得到完整的组合全息图。
[0044] e、将含有完整的组合全息图的光刻胶版经过电镀、拼版,得到组合全息防伪技术标识模压版;
[0045] f、使用PET作为基材进行模压、涂胶、模切,得到组合全息技术防伪标识。
[0046] 其中,第一曝光平台1包括第一固定支架2,第一固定支架2的下部开有第一滑轨4,第一固定支架2上设置呈三角形的三个第一触点5,第一固定支架2通过两侧的支架螺丝3固定,第一固定支架2的第一滑轨4可以在支架螺丝3的定位下,进行平移,第一曝光平台1可以与光学平台拍摄设备匹配,实现高亮光栅技术。
[0047] 第二曝光平台6包括第二固定支架9,第二固定支架9的左部开有第一滑轨4,第二固定支架9上设置呈三角形的三个第二触点7;第二固定支架9通过两侧的支架螺丝3固定,第二固定支架9的第二滑轨8可以在支架螺丝3的定位下,进行平移,第二曝光平台6可以与点阵像素制版系统匹配,第二曝光平台6可以实现衍射白技术。
[0048] 第三曝光平台的上部设置互相垂直的X向固定支架10和Y向固定支架11,X向固定支架10和Y向固定支架11的上部设置第三固定支架12,第三固定支架12的右部开有第一滑轨4,第三固定支架12上设置呈三角形的三个第三触点13;第三固定支架12通过两侧的支架螺丝3固定,第三固定支架12的第三滑轨14可以在支架螺丝3的定位下,进行平移,X向固定支架10可以实现X向移动,Y向固定支架11可以实现Y向移动,进行多种操作,第三曝光平台可以与超高
精度LCOS制版系统匹配,第三曝光平台可以实现像元技术,菲涅尔透镜技术,激光直写技术。
[0049] 第一曝光平台1、第二曝光平台6或第三曝光平台可以实现三维立体拍摄技术,高亮光栅技术,像元技术,菲涅尔透镜技术,衍射白技术,激光直写技术其中两种或两种以上的应用。