1.一种用于通过使用透明样本凭经验确定显微镜系统的物镜的景深的边界的方法，所述显微镜系统具有显微镜、物镜、F制光圈、图像传感器，以及一或多个处理器，所述方法包括以下步骤：
将透明样本的焦面放置在所述物镜的所述景深外部的第一位置处，其中所述焦面选自相对于所述物镜的近焦面和相对于所述物镜的远焦面；
在所述第一位置处将所述F制光圈的边缘投影到所述焦面上以在其上产生F制光圈投影；
实行所述透明样本与所述物镜之间的递增相对移动以将所述透明样本的所述焦面相对于所述物镜放置在不同递增位置处，且投影所述F制光圈的边缘以在所述递增位置处在所述焦面上产生F制光圈投影，其中所述实行递增相对移动的步骤将所述焦面带至所述景深的所述边界处的位置；
利用所述图像传感器使所述F制光圈投影以电子方式成像在所述第一位置处以及所述递增位置处的所述焦面上；
执行在所述以电子方式成像的步骤中由所述图像传感器提供的在所述第一位置处以及所述递增位置处的所述焦面上的所述F制光圈投影的图像的对比度分析，所述执行对比度分析的步骤由所述一或多个处理器实行且确立所述焦面何时处于所述景深的所述边界处的位置处。
2.如权利要求1所述的方法，其中所述景深具有第一边界WD和第二边界WD1，其中所述第一边界WD是焦面可距所述物镜的且仍处于明确焦点对准的最短距离，且所述第二边界WD1是焦面可距所述物镜的且仍处于明确焦点对准的最大距离，且所述第一位置经选择为小于所述第一边界WD的99％或大于所述第二边界WD1的101％的距离。
3.如权利要求1所述的方法，其中所述执行对比度分析的步骤通过比较多个递增位置处所述F制光圈投影的相对焦点的标准偏差而确立所述焦面何时处于所述景深的所述边界处的位置处。
4.如权利要求1所述的方法，其中所述投影所述F制光圈的步骤由所述一或多个处理器自动化。
5.如权利要求1所述的方法，其中所述实行递增相对移动的步骤由所述一或多个处理器自动化。
6.如权利要求1所述的方法，其中所述放置步骤由所述一或多个处理器自动化。
7.如权利要求1所述的方法，其中所述第一位置由所述显微镜系统的用户输入。
8.如权利要求1所述的方法，其中所述物镜具有制造商陈述的工作距离，且所述第一位置基于如所述显微镜系统的用户输入的所述制造商陈述的工作距离而选择。
9.一种用于使透明样本在顶部焦面下方的所界定深度处或在底部焦面上方的所界定高度处成像的方法，所述方法包括以下步骤：
凭经验确定显微镜系统的物镜的景深的边界，所述显微镜系统具有显微镜、物镜、F制光圈，以及一或多个处理器，所述凭经验确定所述边界的步骤包括以下步骤：
将透明样本的焦面放置在所述物镜的所述景深外部的第一位置处，
在所述第一位置处将所述F制光圈投影到所述焦面上以在其上产生F制光圈投影，实行所述透明样本与所述物镜之间的递增相对移动以将所述透明样本的所述焦面相对于所述物镜放置在不同递增位置处，且在所述递增位置处投影所述F制光圈以在所述焦面上产生F制光圈投影并在所述焦面上使所述F制光圈投影的图像成像，其中所述实行递增相对移动的步骤将所述焦面带至所述景深的所述边界处的位置，以及
执行所述第一位置处以及所述递增位置处所述F制光圈投影的所述图像的对比度分析，所述执行对比度分析的步骤由所述一或多个处理器实行且确立所述焦面何时处于所述景深的所述边界处的位置处；以及
基于所述确定边界的步骤中所确定的所述景深的所述边界将所述透明样本的焦面放置在所述景深内。
10.如权利要求9所述的方法，其中所述景深具有第一边界WD和第二边界WD1，其中所述第一边界WD是焦面可距所述物镜的且仍处于明确焦点对准的最短距离，且所述第二边界WD1是焦面可距所述物镜的且仍处于明确焦点对准的最大距离，且所述利用所述景深放置所述透明样本的焦面的步骤包括将所述顶部焦面放置成比所述第二边界WD1更接近所述物镜或将所述底部焦面放置成比所述第一边界WD更远离所述物镜。
11.一种显微镜系统，其包括：
固持透明样本的台，
照明源，
物镜，
机动化F制光圈，
驱动机构，其可操作以改变所述透明样本与物镜之间的相对位置，
电子图像传感器，
用以确定所述透明样本与所述物镜之间的给定相对位置处所述透明样本的相对焦点的装置，所述装置包括所述机动化F制光圈，
用以确定第一凭经验工作距离WDE的装置，其中所述第一凭经验工作距离WDE是当焦面如所述用以确定所述相对焦点的装置所确定处于焦点对准时所述透明样本的所述焦面与所述物镜之间的最近距离，
用以确定第二凭经验工作距离WDE1的装置，其中所述第二凭经验工作距离WDE1是当焦面如所述用以确定所述相对焦点的装置所确定处于焦点对准时所述透明样本的所述焦面与所述物镜之间的最远距离，
一或多个处理器，其控制所述台、所述机动化F制光圈、所述驱动机构和所述电子图像传感器，且实行所述用以确定所述相对焦点的装置，所述用以确定所述第一凭经验工作距离WDE的装置和用以确定所述第二凭经验工作距离WDE1的装置，其中所述一或多个处理器能够控制所述机动化F制光圈以将所述F制光圈的边缘投影在所述透明样本上以由所述电子图像传感器进行成像，并且所述一或多个处理器能够执行投影在所述透明样本上的所述F制光圈的所述边缘的图像的对比度分析，以及
用以输入待成像焦面下方的用户界定的深度或待成像焦面上方的用户界定的高度的装置，所述一或多个处理器适于将所述透明样本移动到适当位置以在焦面下方的用户界定的深度或焦面上方的用户界定的高度处成像，所述适当位置基于所述第一凭经验工作距离WDE或所述第二凭经验工作距离WDE1。
12.如权利要求11所述的显微镜系统，其进一步包括：
用以存储所述透明样本到所述物镜的给定相对位置、以电子方式使所述透明样本在所述相对位置处成像且存储关于所述相对位置处的所述相对焦点的信息的装置。
13.如权利要求11所述的显微镜系统，其进一步包括用以采用如所述用以确定所述相对焦点的装置所确定的所述相对焦点的标准偏差分析确定所述第一凭经验工作距离WDE和所述第二凭经验工作距离WDE1的装置。