应用材料公司
该申请人涉及专利文献：9973，涉及专利：6840件
覆盖主要的IPC大类包括：H01(4784)、C23(1696)、B24(308)、G03(258)、G01(251)、H10(249)、H05(242)、G06(193)、G02(180)、B23(103)
专利类型分布状况：发明公开(6360)、实用新型(328)、外观设计(152)
专利不同法律状态数据分布状况：有效专利(2581)、实质审查(2316)、无效专利(1105)、失效专利(761)、公开(77)
该领域主要的发明人有：约瑟夫·M·拉内什(94)、J·Y·孙(68)、斯蒂芬·莫法特(50)、V·D·帕科(49)、D·卢博米尔斯基(47)、J·约德伏斯基(47)、刘树坤(37)、斯蒂芬·班格特(31)、克里斯蒂安·沃尔夫冈·埃曼(27)、R·巴贾杰(26)
详细地址：美国 美国加利福尼亚州
相关专利文献 (9973件)
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明公开 | 在低温下蚀刻含硅及氧特征的方法 | CN121753532A |
| 发明公开 | 生长腔室智慧陈化 | CN121752755A |
| 发明公开 | 经由定向的晶片装载作不对称性校正 | CN121751987A |
| 发明授权 | 用于沉积低介电常数膜的方法与设备 | CN116892014B |
| 发明公开 | 用于制造涂覆碳化硅的主体的工艺 | CN121717652A |
| 发明授权 | 使用稀有气体的低温原子层蚀刻 | CN115836381B |
| 发明授权 | 具有可替换接口板的可重新构造的主机 | CN115172218B |
| 发明公开 | 于低温下蚀刻含碳特征的方法 | CN121713688A |
| 发明授权 | 用于平板光学器件制造的光刻胶负载方案 | CN113906350B |
| 发明公开 | 用于半导体处理腔室的辅助气体注入系统以及相关衬垫和方法 | CN121694056A |
近10年该领域专利申请趋势
专利分类情况
IPC分类
核心专利文献
相关发明人
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 约瑟夫·M·拉内什 | 94 |
| 2 | J·Y·孙 | 68 |
| 3 | 斯蒂芬·莫法特 | 50 |
| 4 | V·D·帕科 | 49 |
| 5 | D·卢博米尔斯基 | 47 |
| 6 | J·约德伏斯基 | 47 |
| 7 | 刘树坤 | 37 |
| 8 | 斯蒂芬·班格特 | 31 |
| 9 | 克里斯蒂安·沃尔夫冈·埃曼 | 27 |
| 10 | R·巴贾杰 | 26 |
相关代理机构
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 5801 |
| 2 | 上海专利商标事务所有限公司 | 3496 |
| 3 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 638 |
| 4 | 北京东方亿思专利代理有限责任公司 | 19 |
| 5 | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 10 |
| 6 | 北京市柳沈律师事务所 | 4 |
| 7 | 永新专利商标代理有限公司 | 3 |
| 8 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 1 |
| 9 | 北京市君合律师事务所 | 1 |
相关代理人
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 徐金国 | 5787 |
| 2 | 赵静 | 3987 |
| 3 | 侯颖媖 | 2406 |
| 4 | 吴启超 | 1309 |
| 5 | 张鑫 | 705 |
| 6 | 汪骏飞 | 467 |
| 7 | 黄嵩泉 | 356 |
| 8 | 赵飞 | 311 |
| 9 | 陆嘉 | 260 |
| 10 | 杨学春 | 241 |
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