应用材料公司
该申请人涉及专利文献：9350，涉及专利：6414件
覆盖主要的IPC大类包括：H01(4555)、C23(1612)、B24(294)、G03(242)、H05(239)、G01(228)、G06(172)、G02(155)、H10(126)、B23(100)
专利类型分布状况：发明公开(5940)、实用新型(327)、外观设计(147)
专利不同法律状态数据分布状况：有效专利(2448)、实质审查(2159)、无效专利(1048)、失效专利(689)、公开(70)
该领域主要的发明人有：约瑟夫·M·拉内什(94)、J·Y·孙(67)、斯蒂芬·莫法特(50)、J·约德伏斯基(47)、D·卢博米尔斯基(45)、V·D·帕科(43)、刘树坤(36)、斯蒂芬·班格特(31)、程睿(30)、R·巴贾杰(26)
详细地址：美国 美国加利福尼亚州
相关专利文献 (9350件)
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明公开 | 用于半导体制造前体的安瓿 | CN120390981A |
| 发明公开 | 具有阻抗匹配射频(RF)杆的加热基座 | CN120380571A |
| 发明公开 | 用于全包围栅极元件的多层内部间隔物 | CN120359826A |
| 发明公开 | 基板缺陷分析 | CN120359601A |
| 发明公开 | 用于改进的热传递和温度均匀性的加热的基座设计 | CN120356845A |
| 发明公开 | 低温混合接合金属化 | CN120345067A |
| 发明公开 | 表面金属氧化物的电化学还原 | CN120322861A |
| 发明公开 | 射频等离子体处理腔室中基于学习的调谐 | CN120322846A |
| 发明公开 | 化学机械抛光的温度控制 | CN120307185A |
| 发明公开 | 在压电器件制造期间使用动态偏置对压电膜的基板内应力控制 | CN120304047A |
近10年该领域专利申请趋势
专利分类情况
IPC分类
核心专利文献
相关发明人
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 约瑟夫·M·拉内什 | 94 |
| 2 | J·Y·孙 | 67 |
| 3 | 斯蒂芬·莫法特 | 50 |
| 4 | J·约德伏斯基 | 47 |
| 5 | D·卢博米尔斯基 | 45 |
| 6 | V·D·帕科 | 43 |
| 7 | 刘树坤 | 36 |
| 8 | 斯蒂芬·班格特 | 31 |
| 9 | 程睿 | 30 |
| 10 | R·巴贾杰 | 26 |
相关代理机构
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 5369 |
| 2 | 上海专利商标事务所有限公司 | 3305 |
| 3 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 638 |
| 4 | 北京东方亿思专利代理有限责任公司 | 19 |
| 5 | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 10 |
| 6 | 北京市柳沈律师事务所 | 4 |
| 7 | 永新专利商标代理有限公司 | 3 |
| 8 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 1 |
| 9 | 北京市君合律师事务所 | 1 |
相关代理人
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 徐金国 | 5355 |
| 2 | 赵静 | 3897 |
| 3 | 侯颖媖 | 2216 |
| 4 | 吴启超 | 972 |
| 5 | 张鑫 | 667 |
| 6 | 汪骏飞 | 440 |
| 7 | 黄嵩泉 | 313 |
| 8 | 赵飞 | 311 |
| 9 | 陆嘉 | 260 |
| 10 | 杨学春 | 236 |
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