该申请人涉及专利文献:1328,涉及专利:739件
覆盖主要的IPC大类包括:H01(656)、H05(51)、C09(46)、F21(41)、G02(27)、G09(18)、G01(10)、C04(8)、G03(8)、C23(7)
专利类型分布状况:发明公开(735)、外观设计(3)、发明授权(1)
专利不同法律状态数据分布状况:有效专利(442)、失效专利(174)、无效专利(101)、实质审查(22)
该领域主要的发明人有:诺温·文马尔姆(36)、卢茨·赫佩尔(28)、于尔根·莫斯布格尔(26)、西格弗里德·赫尔曼(26)、斯文·格哈德(25)、卡尔·恩格尔(22)、格特鲁德·克劳特(21)、托马斯·施瓦茨(19)、彼得·布里克(18)、伊瓦尔·通林(17)
详细地址:德国 德国雷根斯堡
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明公开 | 发光器件 | CN120640860A |
| 发明授权 | 用于制造发射辐射的半导体芯片的方法、发射辐射的半导体芯片和发射辐射的器件 | CN114365296B |
| 发明授权 | 光电子器件和用于制造光电子器件的方法 | CN113454796B |
| 发明授权 | 发光二极管模块和具有发光二极管模块的系统 | CN113412540B |
| 发明授权 | 边缘发射激光二极管及其制造方法 | CN113424379B |
| 发明授权 | 多像素显示设备 | CN113169164B |
| 发明授权 | 用于制造光电子照明装置的方法 | CN113196505B |
| 发明授权 | 半导体激光二极管 | CN113851932B |
| 发明授权 | 制造多个发射辐射的器件的方法和制造连接载体的方法 | CN113039871B |
| 发明授权 | 具有减少的吸收的器件和用于制造器件的方法 | CN114270544B |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 欧司朗光电半导体有限公司 | 1328 |
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 诺温·文马尔姆 | 36 |
| 2 | 卢茨·赫佩尔 | 28 |
| 3 | 于尔根·莫斯布格尔 | 26 |
| 4 | 西格弗里德·赫尔曼 | 26 |
| 5 | 斯文·格哈德 | 25 |
| 6 | 卡尔·恩格尔 | 22 |
| 7 | 格特鲁德·克劳特 | 21 |
| 8 | 托马斯·施瓦茨 | 19 |
| 9 | 彼得·布里克 | 18 |
| 10 | 伊瓦尔·通林 | 17 |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 1294 |
| 2 | 北京柏杉松知识产权代理事务所 | 32 |
| 3 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 | 2 |
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 张春水 | 748 |
| 2 | 丁永凡 | 657 |
| 3 | 田军锋 | 276 |
| 4 | 周涛 | 158 |
| 5 | 李德山 | 133 |
| 6 | 王萍 | 123 |
| 7 | 陈炜 | 64 |
| 8 | 李建航 | 62 |
| 9 | 高少蔚 | 50 |
| 10 | 支娜 | 49 |