该申请人涉及专利文献:10407,涉及专利:7119件
覆盖主要的IPC大类包括:H01(4836)、C23(1765)、H10(429)、B24(331)、G01(268)、G03(265)、H05(246)、G02(200)、G06(199)、C30(110)
专利类型分布状况:发明公开(6630)、实用新型(329)、外观设计(160)
专利不同法律状态数据分布状况:有效专利(2644)、实质审查(2389)、无效专利(1152)、失效专利(861)、公开(73)
该领域主要的发明人有:约瑟夫·M·拉内什(95)、J·Y·孙(68)、V·D·帕科(53)、斯蒂芬·莫法特(51)、D·卢博米尔斯基(47)、J·约德伏斯基(47)、刘树坤(38)、克里斯蒂安·沃尔夫冈·埃曼(36)、斯蒂芬·班格特(31)、R·巴贾杰(26)
详细地址:美国 美国加利福尼亚州
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明公开 | 来自化学机械抛光中的原位监测系统缩放信号的处理 | CN122719644A |
| 发明公开 | 用于由具有受控冷却的物理气相沉积(PVD)来沉积铝的方法和设备 | CN122707082A |
| 发明授权 | 在流动控制设备中使用的微电机装置 | CN116057355B |
| 发明授权 | 用于产生用于硬掩模及其他图案化应用的高密度碳膜的方法 | CN115885366B |
| 发明公开 | 抗氟组成物 | CN122680903A |
| 发明公开 | 含硅材料的低温蚀刻 | CN122680894A |
| 发明公开 | 对基板进行涂布的方法、蒸发源布置、以及用于显示器制造的基板 | CN122680890A |
| 发明公开 | 具有纹理表面的基座 | CN122664090A |
| 发明公开 | 具有独立控制以提高WIW均匀性的硬件设计 | CN122663328A |
| 发明公开 | 蒸镀源、真空沉积系统以及制造有机显示装置的方法 | CN122663323A |
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 约瑟夫·M·拉内什 | 95 |
| 2 | J·Y·孙 | 68 |
| 3 | V·D·帕科 | 53 |
| 4 | 斯蒂芬·莫法特 | 51 |
| 5 | D·卢博米尔斯基 | 47 |
| 6 | J·约德伏斯基 | 47 |
| 7 | 刘树坤 | 38 |
| 8 | 克里斯蒂安·沃尔夫冈·埃曼 | 36 |
| 9 | 斯蒂芬·班格特 | 31 |
| 10 | R·巴贾杰 | 26 |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 6086 |
| 2 | 上海专利商标事务所有限公司 | 3645 |
| 3 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 638 |
| 4 | 北京东方亿思专利代理有限责任公司 | 19 |
| 5 | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 10 |
| 6 | 北京市柳沈律师事务所 | 4 |
| 7 | 永新专利商标代理有限公司 | 3 |
| 8 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 1 |
| 9 | 北京市君合律师事务所 | 1 |
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 徐金国 | 6072 |
| 2 | 赵静 | 4056 |
| 3 | 侯颖媖 | 2554 |
| 4 | 吴启超 | 1522 |
| 5 | 张鑫 | 726 |
| 6 | 汪骏飞 | 481 |
| 7 | 黄嵩泉 | 398 |
| 8 | 赵飞 | 311 |
| 9 | 陆嘉 | 260 |
| 10 | 杨学春 | 242 |
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