代理专利文献:42912,涉及专利:33255件
覆盖主要的IPC大类包括:H01(8820)、G01(2795)、G06(2262)、H04(1626)、G03(1572)、H02(1244)、A61(1051)、E04(896)、F16(787)、B60(633)
专利类型分布状况:发明公开(19890)、实用新型(9618)、外观设计(3232)、发明申请(515)
专利不同法律状态数据分布状况:有效专利(12766)、失效专利(10326)、无效专利(7424)、实质审查(2164)、公开(575)
涉及到的主要客户:上海华力微电子有限公司(3165)、中芯国际集成电路制造(上海)有限公司(2745)、上海华虹宏力半导体制造有限公司(2364)、上海电机学院(2094)、上海微电子装备有限公司(1671)、联合汽车电子有限公司(1499)、武汉新芯集成电路制造有限公司(996)、上海宏力半导体制造有限公司(957)、上海微电子装备(集团)股份有限公司(922)、昆山市周市惠宏服装厂(889)
涉及到的主要发明人:解吉平(889)、严卫忠(349)、不公告发明人(231)、施晓旦(213)、倪雪明(199)、姚建平(199)、梁菊明(199)、蒋建业(199)、龚菊明(194)、杨光军(144)
发明专利授权成功率:49%
专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
---|---|---|
发明公开 | 光电模块及其光电模块操作方法和光电模块制作方法 | CN120017945A |
发明公开 | 晶振驱动电路 | CN120016968A |
发明授权 | 一种半导体器件的制备方法 | CN119581324B |
发明授权 | 像素单元及驱动方法、图像传感器 | CN119562624B |
发明授权 | 半导体器件及其制造方法 | CN115394646B |
发明授权 | 单层正交大开口索膜结构 | CN115182457B |
发明公开 | 热敏记录材料 | CN119998136A |
发明授权 | 一种PPM电容器及其制备方法 | CN114335342B |
发明授权 | 直方图均衡系统及图像处理装置 | CN113724174B |
发明授权 | 一种半导体器件的形成方法 | CN119653821B |
排名 | 企业名称 | 专利 |
---|---|---|
1 | 上海华力微电子有限公司 | 3165 |
2 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 2745 |
3 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 2364 |
4 | 上海电机学院 | 2094 |
5 | 上海微电子装备有限公司 | 1671 |
6 | 联合汽车电子有限公司 | 1499 |
7 | 武汉新芯集成电路制造有限公司 | 996 |
8 | 上海宏力半导体制造有限公司 | 957 |
9 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 922 |
10 | 昆山市周市惠宏服装厂 | 889 |
排名 | 发明人 | 专利 |
---|---|---|
1 | 解吉平 | 889 |
2 | 严卫忠 | 349 |
3 | 不公告发明人 | 231 |
4 | 施晓旦 | 213 |
5 | 倪雪明 | 199 |
6 | 姚建平 | 199 |
7 | 梁菊明 | 199 |
8 | 蒋建业 | 199 |
9 | 龚菊明 | 194 |
10 | 杨光军 | 144 |