代理专利文献:43664,涉及专利:33739件
覆盖主要的IPC大类包括:H01(8992)、G01(2835)、G06(2294)、H04(1634)、G03(1590)、H02(1279)、A61(1060)、E04(909)、F16(797)、B60(663)
专利类型分布状况:发明公开(20261)、实用新型(9728)、外观设计(3235)、发明申请(515)
专利不同法律状态数据分布状况:有效专利(12492)、失效专利(10982)、无效专利(7633)、实质审查(2064)、公开(568)
涉及到的主要客户:上海华力微电子有限公司(3180)、中芯国际集成电路制造(上海)有限公司(2745)、上海华虹宏力半导体制造有限公司(2482)、上海电机学院(2094)、上海微电子装备有限公司(1671)、联合汽车电子有限公司(1587)、武汉新芯集成电路制造有限公司(996)、上海宏力半导体制造有限公司(957)、上海微电子装备(集团)股份有限公司(922)、昆山市周市惠宏服装厂(889)
涉及到的主要发明人:解吉平(889)、严卫忠(349)、不公告发明人(231)、施晓旦(213)、倪雪明(199)、姚建平(199)、梁菊明(199)、蒋建业(199)、龚菊明(194)、杨光军(144)
发明专利授权成功率:50%
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明公开 | 控制方法 | CN121193136A |
| 发明公开 | 功率半导体装置 | CN121192075A |
| 发明授权 | 阻变存储单元及存储阵列 | CN115148246B |
| 发明公开 | 一种半导体器件及其制造方法 | CN121174546A |
| 发明公开 | 一种光刻胶涂布方法 | CN121165399A |
| 发明公开 | 光掩模白边宽度的测量方法 | CN121165391A |
| 发明公开 | 一种半导体器件及其制备方法 | CN121152289A |
| 发明公开 | 湿法刻蚀设备及湿法刻蚀方法 | CN121149048A |
| 发明公开 | 一种校正光罩布局的方法 | CN121142889A |
| 发明公开 | 半导体器件及其制造方法 | CN121126798A |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 上海华力微电子有限公司 | 3180 |
| 2 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 2745 |
| 3 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 2482 |
| 4 | 上海电机学院 | 2094 |
| 5 | 上海微电子装备有限公司 | 1671 |
| 6 | 联合汽车电子有限公司 | 1587 |
| 7 | 武汉新芯集成电路制造有限公司 | 996 |
| 8 | 上海宏力半导体制造有限公司 | 957 |
| 9 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 922 |
| 10 | 昆山市周市惠宏服装厂 | 889 |
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 解吉平 | 889 |
| 2 | 严卫忠 | 349 |
| 3 | 不公告发明人 | 231 |
| 4 | 施晓旦 | 213 |
| 5 | 倪雪明 | 199 |
| 6 | 姚建平 | 199 |
| 7 | 梁菊明 | 199 |
| 8 | 蒋建业 | 199 |
| 9 | 龚菊明 | 194 |
| 10 | 杨光军 | 144 |