代理专利文献:43316,涉及专利:33527件
覆盖主要的IPC大类包括:H01(8913)、G01(2822)、G06(2285)、H04(1630)、G03(1575)、H02(1263)、A61(1056)、E04(905)、F16(791)、B60(655)
专利类型分布状况:发明公开(20100)、实用新型(9680)、外观设计(3232)、发明申请(515)
专利不同法律状态数据分布状况:有效专利(12590)、失效专利(10692)、无效专利(7521)、实质审查(2155)、公开(569)
涉及到的主要客户:上海华力微电子有限公司(3172)、中芯国际集成电路制造(上海)有限公司(2745)、上海华虹宏力半导体制造有限公司(2435)、上海电机学院(2094)、上海微电子装备有限公司(1671)、联合汽车电子有限公司(1537)、武汉新芯集成电路制造有限公司(996)、上海宏力半导体制造有限公司(957)、上海微电子装备(集团)股份有限公司(922)、昆山市周市惠宏服装厂(889)
涉及到的主要发明人:解吉平(889)、严卫忠(349)、不公告发明人(231)、施晓旦(213)、倪雪明(199)、姚建平(199)、梁菊明(199)、蒋建业(199)、龚菊明(194)、杨光军(144)
发明专利授权成功率:49%
专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
---|---|---|
发明公开 | 弹性挡圈及其安装工具和安装方法 | CN120650313A |
发明授权 | 一种电池安装装置及医疗设备台车 | CN113116664B |
发明授权 | 电子控制系统 | CN111830858B |
发明公开 | 一种晶圆传送监控系统及晶圆传送监测方法 | CN120637265A |
发明授权 | 一种屏蔽栅沟槽型场效应晶体管的制造方法 | CN114093759B |
发明公开 | 金属-绝缘体-金属电容器的制造方法 | CN120613307A |
发明授权 | 半导体器件及其形成方法 | CN120321940B |
发明授权 | 自动调控薄膜厚度及薄膜内元素掺杂浓度的方法 | CN116190208B |
发明公开 | 景观切换装置 | CN120604016A |
发明公开 | 半导体器件的形成方法 | CN120603243A |
排名 | 企业名称 | 专利 |
---|---|---|
1 | 上海华力微电子有限公司 | 3172 |
2 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 2745 |
3 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 2435 |
4 | 上海电机学院 | 2094 |
5 | 上海微电子装备有限公司 | 1671 |
6 | 联合汽车电子有限公司 | 1537 |
7 | 武汉新芯集成电路制造有限公司 | 996 |
8 | 上海宏力半导体制造有限公司 | 957 |
9 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 922 |
10 | 昆山市周市惠宏服装厂 | 889 |
排名 | 发明人 | 专利 |
---|---|---|
1 | 解吉平 | 889 |
2 | 严卫忠 | 349 |
3 | 不公告发明人 | 231 |
4 | 施晓旦 | 213 |
5 | 倪雪明 | 199 |
6 | 姚建平 | 199 |
7 | 梁菊明 | 199 |
8 | 蒋建业 | 199 |
9 | 龚菊明 | 194 |
10 | 杨光军 | 144 |