ASML荷兰有限公司
该申请人涉及专利文献：4333，涉及专利：2776件
覆盖主要的IPC大类包括：G03(2325)、H01(818)、G01(251)、G02(192)、H05(190)、G06(155)、G21(59)、G05(41)、H02(26)、F16(26)
专利类型分布状况：发明公开(2775)、实用新型(1)
专利不同法律状态数据分布状况：有效专利(1143)、实质审查(915)、失效专利(416)、无效专利(197)、公开(105)
该领域主要的发明人有：H·巴特勒(51)、W·T·特尔(35)、A·J·登博夫(34)、J·洛夫(30)、A·J·布里克(28)、任伟明(26)、N·潘迪(23)、A·亚库宁(22)、王勇新(22)、L·P·巴克(21)
详细地址：荷兰 荷兰维德霍温
相关专利文献 (4333件)
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明授权 | 用于监测光刻制造过程的方法和设备 | CN113867109B |
| 发明授权 | 用于确定针对光刻设备的校正的方法 | CN113711128B |
| 发明授权 | 用于测量光刻过程的参数的目标 | CN113168119B |
| 发明公开 | 量测方法和系统和光刻系统 | CN118020029A |
| 发明公开 | 利用模型基础对准来改善边缘放置量测准确度 | CN118011743A |
| 发明公开 | 用于高压液滴生成器喷嘴的压力激励套圈 | CN117999856A |
| 发明授权 | 水平传感器和包括水平传感器的光刻设备 | CN112771451B |
| 发明授权 | 用于预测半导体制造过程的产率的方法 | CN113168111B |
| 发明公开 | 用于在带电粒子系统中通过故障机制的分类和标识进行检查的系统和方法 | CN117957496A |
| 发明公开 | 匹配光瞳确定 | CN117950277A |
近10年该领域专利申请趋势
专利分类情况
IPC分类
核心专利文献
相关企业
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | ASML荷兰有限公司 | 4333 |
相关发明人
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | H·巴特勒 | 51 |
| 2 | W·T·特尔 | 35 |
| 3 | A·J·登博夫 | 34 |
| 4 | J·洛夫 | 30 |
| 5 | A·J·布里克 | 28 |
| 6 | 任伟明 | 26 |
| 7 | N·潘迪 | 23 |
| 8 | A·亚库宁 | 22 |
| 9 | 王勇新 | 22 |
| 10 | L·P·巴克 | 21 |
相关代理机构
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 2730 |
| 2 | 北京市金杜律师事务所 | 1135 |
| 3 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 465 |
| 4 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 3 |
相关代理人
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 王波波 | 755 |
| 2 | 王茂华 | 490 |
| 3 | 张启程 | 456 |
| 4 | 吴敬莲 | 334 |
| 5 | 王益 | 272 |
| 6 | 胡良均 | 260 |
| 7 | 王静 | 249 |
| 8 | 王新华 | 239 |
| 9 | 张宁 | 200 |
| 10 | 吕世磊 | 163 |
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