技术领域
[0001] 本实用新型涉及一种石墨制品，更具体的说，它涉及一种石墨坩埚。
背景技术
[0002] 石墨坩埚是单晶
硅生产中常用的一种设备，随着
单晶硅生产的规模化，为了追求更大的经济效益，不断的增加石墨坩埚的体积，从而增加了一次生产的投入量，提高了单炉的产量，从而降低了单晶硅生产的成本。
[0003] 石墨坩埚体积的不断增大，导致石墨坩埚的重量大大的增加，这种大体积的石墨坩埚在进行拆装的过程当中存在着费时费
力的问题，在拆装的过程当中需要使用大吨位的吊装设备，从而增加了生产的成本，现在亟需一种便于安装的大体积石墨坩埚。实用新型内容
[0004] 针对
现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种石墨坩埚，其通过将石墨坩埚分为底座、第一
侧壁、第二侧壁和盖板，在进行组装和拆卸的时候分别对四个部分进行组装和拆卸，从而无需一次性将整个石墨坩埚起吊，无需采用大吨位吊装设备，从而减少了生产成本。
[0005] 为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：一种石墨坩埚，包括呈圆筒状设置并且顶部开口的底座、设置在底座顶部的呈圆筒状设置的第一侧壁、设置在第一侧壁顶部的呈圆筒状设置的第二侧壁以及设置在第二侧壁顶部的呈圆板状设置的盖板；
[0006] 第一侧壁、第二侧壁、底座以及盖板同轴设置，第一侧壁、第二侧壁的内径和外径都等于底座的内径和外径；
[0007] 底座顶部一侧靠近外周的
位置开设有呈圆环状设置的限位槽，第一侧壁的底部靠近外周的位置固定连接有呈圆环状设置并且与限位槽相互配合的限位
块；
[0008] 第一侧壁顶部靠近外周的位置也开设有呈圆环状设置的限位槽，第二侧壁底部靠近外周的位置固定连接有呈圆环状设置并且与限位槽相互配合的限位块。
[0009] 通过采用上述技术方案，在对石墨坩埚进行组装的时候，首先将底座安装在加热设备上，然后将第一侧壁安装到底座上，使得第一侧壁的限位块卡入到底座的限位槽当中，然后将第二侧壁安装到第一侧壁上，使得第二侧壁的限位块卡入到第一侧壁的限位槽当中，然后再将盖板盖在第二侧壁的顶部，完成对石墨坩埚的安装，底座、第一侧壁、第二侧壁以及盖板分开进行吊装，从而无需实用大吨位的吊装设备进行吊装，从而减少了生产成本。
[0010] 本实用新型进一步设置为：所述底座的顶部设置有均热筒，均热筒位于底座
底板的顶部，底座底板的顶部开设有与底座同轴的呈圆环状设置的
定位槽，定位槽的内径和外径分别与均热筒的内径和外径相等。
[0011] 通过采用上述技术方案，将均热筒插入到定位槽当中，从而将均热筒安装到底座上，在进行加热的过程当中，加热装置当中的加热线圈对石墨坩埚进行加热的时候，除了底座、第一侧壁和第二侧壁能够对原料进行加热之外，均热筒也能够对原料进行加热，从而使得石墨坩埚当中的原料的
温度更加均匀，从而加快了单晶硅的生长速率。
[0012] 本实用新型进一步设置为：所述均热筒的外侧开设有若干贯穿均热筒侧壁的让位孔，若干让位孔围绕均热筒的轴线均匀分布。
[0013] 通过采用上述技术方案，通过设置让位孔，使得均热筒内外的原料能够相互连通，从而使得对于原料的加
热能够更加均匀。
[0014] 本实用新型进一步设置为：所述均热筒的外壁上固定连接有若干围绕均热筒的轴线均匀分布的均热板。
[0015] 通过采用上述技术方案，通过设置均热板，使得对于原料的加热更加均匀。
[0016] 本实用新型进一步设置为：所述底座顶部靠近限位槽的一侧开设有与限位槽相互连通的若干固定槽，第一侧壁的底部固定连接有若干与固定槽一一对应的固定块，固定槽与固定块相互配合。
[0017] 通过采用上述技术方案，通过设置固定槽和固定块，使得底座和第一侧壁之间的定位更加精准。
[0018] 综上所述，本实用新型相比于现有技术具有以下有益效果：本实用新型通过设置底座、第一侧壁、第二侧壁、盖板、固定槽和固定块，在进行组装和拆卸的时候分别对四个部分进行组装和拆卸，从而无需一次性将整个石墨坩埚起吊，无需采用大吨位吊装设备，从而减少了生产成本。
附图说明
[0020] 图2为实施例去除盖板的示意图；
[0021] 图3为实施例的底座、第一侧壁和第二侧壁的爆炸图；
[0022] 图4为图3的A部放大示意图。
[0023] 图中：1、底座；11、定位槽；12、限位槽；13、固定槽；2、第一侧壁；21、限位块；22、固定块；3、第二侧壁；4、盖板；5、均热筒；51、让位孔；52、均热板。
具体实施方式
[0024] 实施例：一种石墨坩埚，参见附图1和附图2，包括呈圆筒状设置并且顶部开口的底座1、设置在底座1顶部的呈圆筒状设置的第一侧壁2、设置在第一侧壁2顶部的呈圆筒状设置的第二侧壁3以及设置在第二侧壁3顶部的呈圆板状设置的盖板4；第一侧壁2、第二侧壁3、底座1以及盖板4同轴设置，第一侧壁2、第二侧壁3的内径和外径都等于底座1的内径和外径；进行石墨坩埚的安装和拆卸的过程当中，分别对底座1、第一侧壁2、第二侧壁3和盖板4进行吊装，无需使用大吨位的吊装设备进行吊装。
[0025] 参见附图3，底座1的顶部设置有均热筒5，均热筒5位于底座1底板的顶部，底座1底板的顶部开设有与底座1同轴的呈圆环状设置的定位槽11，定位槽11的内径和外径分别与均热筒5的内径和外径相等；均热筒5的外壁上沿均热筒5的径向方向开设有贯穿均热筒5侧壁的若干让位孔51，让位孔51围绕均热筒5的轴线均匀分布；均热筒5的外壁上固定连接有若干围绕均热筒5的轴线均匀分布的均热板52；通过设置均热筒5和均热板52，当电磁线圈通过石墨坩埚产热的过程当中，底座1、第一侧壁2、第二侧壁3、均热筒5和均热板52都能够对原料进行加热，从而使得石墨坩埚当中各处的原料的温度更加均匀，从而加快了单晶硅的生长速率。
[0026] 参见附图3和附图4，底座1顶部一侧靠近外周的位置开设有呈圆环状设置的限位槽12，第一侧壁2的底部靠近外周的位置固定连接有呈圆环状设置并且与限位槽12相互配合的限位块21；第一侧壁2顶部靠近外周的位置也开设有呈圆环状设置的限位槽12，第二侧壁3底部靠近外周的位置固定连接有呈圆环状设置并且与限位槽12相互配合的限位块21；底座1顶部靠近限位槽12的位置沿竖直方向开设有若干与限位槽12相互连通的固定槽13，第一侧壁2的底部固定连接有若干与固定槽13一一对应的固定块22，固定块22与固定槽13相互配合。第一侧壁2的顶部靠近限位槽12的位置沿竖直方向也开设有若干与限位槽12相互连通的固定槽13，第二侧壁3的底部固定连接有若干与第一侧壁2上的固定槽13一一对应的固定块22。通过设置限位槽12、限位块21、固定槽13和固定块22，能够对底座1、第一侧壁2和第二侧壁3的安装位置进行定位。
[0027] 该石墨坩埚在进行使用时的工作原理如下：进行石墨坩埚的安装的时候，先将底座1安装到加热装置上，然后将第一侧壁2安装到底座1上，使得第一侧壁2的固定块22和限位块21分别插入到底座1的固定槽13和限位槽12当中，然后将第二侧壁3安装到第一侧壁2上，使得第二侧壁3的固定块22和限位块21分别插入到第一侧壁2的固定槽13和限位槽12当中，最后将盖板4盖到第二侧壁3的顶部。
[0028] 以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
