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肺结核医用口罩

阅读：640发布：2020-05-11

专利汇可以提供肺结核医用口罩专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本实用新型公开了一种肺结核医用口罩，其特征在于：包括用于与人鼻梁以下贴合的支撑面、用于过滤空气的过滤片、外盖板以及固定带，所述的外盖板与支撑面的弧面贴合，所述的支撑面的边沿设置用于与脸部进步贴合的硅胶条，所述的过滤片包括左腮片、右腮片、上片体以及下片体，所述的支撑面分别设置用于容纳左腮片、右腮片、上片体以及下片体的左腮凹槽、右腮凹槽、上凹槽以及下凹槽，本实用新型本实用新型结构设计合理，在使用过程中，过滤片为一次性使用，用于过滤空气中的细小病菌，同时所述的支撑面以及外盖板构成的主体可多次使用，采用聚丙烯塑料耐高温，在使用中可进行紫外线以及高温消毒，解决了传统的一次性口罩的用量大，造成医院的费用支出大的问题。，下面是肺结核医用口罩专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种肺结核医用口罩，其特征在于：包括用于与人鼻梁以下贴合的支撑面、用于过滤空气的过滤片、外盖板以及固定带，所述的外盖板与支撑面的弧面贴合，所述的支撑面的边沿设置用于与脸部进步贴合的硅胶条，所述的过滤片包括左腮片、右腮片、上片体以及下片体，所述的支撑面分别设置用于容纳左腮片、右腮片、上片体以及下片体的左腮凹槽、右腮凹槽、上凹槽以及下凹槽，所述的左腮凹槽、右腮凹槽分别设置在支撑面的两侧，所述的上凹槽设置在支撑板与人鼻孔对应的位置，所述的下凹槽设置在支撑板与人口部对应的位置，所述的左腮凹槽、右腮凹槽、上凹槽以及下凹槽分别设置有支撑网，所述的左腮片、右腮片、上片体以及下片体分别对应设置在左腮凹槽、右腮凹槽、上凹槽以及下凹槽内，所述的外盖板设置有与左腮凹槽、右腮凹槽、上凹槽以及下凹槽配合的左腮盖、右腮盖、上盖体以及下盖体，所述的左腮盖、右腮盖、上盖体以及下盖体分别设置有通气网，所述的左腮盖、右腮盖、上盖体以及下盖体分别套设在对应的左腮凹槽、右腮凹槽、上凹槽以及下凹槽上，使得外盖板贴合在支撑面上，所述的固定带的两端分别与支撑面的两侧固定。
2.根据权利要求1所述的肺结核医用口罩，其特征在于：所述的左腮凹槽、右腮凹槽内还设置有排气扇。
3.根据权利要求1所述的肺结核医用口罩，其特征在于：所述的固定带包括用于套设头上部一圈的上带体以及用于套设在颈部一圈的下带体。
4.根据权利要求1所述的肺结核医用口罩，其特征在于：所述的过滤片包括用于拒水无纺布层、静电吸附棉、活性炭纤维层以及亲水无纺布层，所述的拒水无纺布层、静电吸附棉、活性炭纤维层以及亲水无纺布层由外向内依次设置。
5.根据权利要求1所述的肺结核医用口罩，其特征在于：所述的支撑面以及外盖板采用聚丙烯塑料制成。

说明书全文

肺结核医用口罩

技术领域

[0001] 本实用新型涉及一种肺结核医用口罩。

背景技术

[0002] 肺结核是由结核分枝杆菌引发的肺部感染性疾病。是严重威胁人类健康的疾病。结核分枝杆菌(简称结核菌，下同)的传染源主要是排菌的肺结核患者，通过呼吸道传播。健康人感染结核菌并不一定发病，只有在机体免疫力下降时才发病。世界卫生组织(WHO)统计表明，全世界每年发生结核病800～1000万，每年约有300万人死于结核病，是造成死亡人数最多的单一传染病。1993年WHO宣布“全球结核病紧急状态”，认为结核病已成为全世界重要的公共卫生问题。我国是世界上结核疫情最严重的国家之一。

[0003] 在医院内的肺结核科室内，传统的都会使用一次性的口对病原体进行隔离防止传播扩散，医务人员一天会进行多次会诊和手术，使用的口罩量大，医院器具成本较大，且病患在使用口罩过程中存在随意丢弃一次性口罩的情况，造成病原体的传播，使用的口罩量大，设计一种具有防止肺结核医用口罩，同时有效的解决一次性口罩用量大，随意丢弃造成病原体传播的防止肺结核医用口罩的口罩成为本行业技术人员所要解决的问题。实用新型内容

[0004] 本实用新型的目的在于克服现有技术中存在的上述不足，而提供一种结构设计合理，可重复使用的肺结核医用口罩。

[0005] 本实用新型解决上述问题所采用的技术方案是：一种肺结核医用口罩，其特征在于：包括用于与人鼻梁以下贴合的支撑面、用于过滤空气的过滤片、外盖板以及固定带，所述的外盖板与支撑面的弧面贴合，所述的支撑面的边沿设置用于与脸部进步贴合的硅胶条，所述的过滤片包括左腮片、右腮片、上片体以及下片体，所述的支撑面分别设置用于容纳左腮片、右腮片、上片体以及下片体的的左腮凹槽、右腮凹槽、上凹槽以及下凹槽，所述的左腮凹槽、右腮凹槽分别设置在支撑面的两侧，所述的上凹槽设置在支撑板与人鼻孔对应的位置，所述的下凹槽设置在支撑板与人口部对应的位置，所述的左腮凹槽、右腮凹槽、上凹槽以及下凹槽分别设置有支撑网，所述的左腮片、右腮片、上片体以及下片体分别对应设置在左腮凹槽、右腮凹槽、上凹槽以及下凹槽内，所述的外盖板设置有与左腮凹槽、右腮凹槽、上凹槽以及下凹槽配合的左腮盖、右腮盖、上盖体以及下盖体，所述的左腮盖、右腮盖、上盖体以及下盖体分别设置有通气网，所述的左腮盖、右腮盖、上盖体以及下盖体分别套设在对应的左腮凹槽、右腮凹槽、上凹槽以及下凹槽上，使得外盖板贴合在支撑面上，所述的固定带的两端分别与支撑面的两侧固定。

[0006] 进一步的：所述的左腮凹槽、右腮凹槽内还设置有排气扇。

[0007] 进一步的：所述的固定带包括用于套设头上部一圈的上带体以及用于套设在颈部一圈的下带体。

[0008] 进一步的：所述的过滤片包括用于拒水无纺布层、静电吸附棉、活性炭纤维层以及亲水无纺布层，所述的拒水无纺布层、静电吸附棉、活性炭纤维层以及亲水无纺布层由外向内依次设置。

[0009] 进一步的：所述的支撑面以及外盖板采用聚丙烯塑料制成。

[0010] 本实用新型与现有技术相比，具有以下优点和效果：结构设计合理，在使用过程中，过滤片为一次性使用，用于过滤空气中的细小病菌，同时所述的支撑面以及外盖板构成的主体可多次使用，采用聚丙烯塑料耐高温，在使用中可进行紫外线以及高温消毒，解决了传统的一次性口罩的用量大，造成医院的费用支出大的问题。附图说明

[0011] 图1是本实用新型实施例肺结核医用口罩的结构示意图。

[0012] 图2是本实用新型实施例肺结核医用口罩的结构分解图。

[0013] 图3是本实用新型实施例肺结核医用口罩的佩戴示意图。

[0014] 图4是本实用新型实施例的过滤层结构示意图。

具体实施方式

[0015] 下面结合附图并通过实施例对本实用新型作进一步的详细说明，以下实施例是对本实用新型的解释而本实用新型并不局限于以下实施例。

[0016] 参见图1-图4，本实施例一种肺结核医用口罩，其特征在于：包括用于与人鼻梁以下贴合的支撑面1、用于过滤空气的过滤片、外盖板3以及固定带，所述的外盖板3与支撑面1的弧面贴合，所述的支撑面1的边沿设置用于与脸部进步贴合的硅胶条，所述的过滤片包括左腮片51、右腮片52、上片体53以及下片体54，所述的支撑面1分别设置用于容纳左腮片51、右腮片52、上片体53以及下片体54的的左腮凹槽、右腮凹槽12、上凹槽13以及下凹槽14，所述的左腮凹槽、右腮凹槽12分别设置在支撑面1的两侧，所述的上凹槽13设置在支撑板与人鼻孔对应的位置，所述的下凹槽14设置在支撑板与人口部对应的位置，所述的左腮凹槽、右腮凹槽12、上凹槽13以及下凹槽14分别设置有支撑网15，所述的左腮片51、右腮片52、上片体53以及下片体54分别对应设置在左腮凹槽、右腮凹槽12、上凹槽13以及下凹槽14内，所述的外盖板3设置有与左腮凹槽、右腮凹槽12、上凹槽13以及下凹槽14配合的左腮盖31、右腮盖32、上盖体33以及下盖体34，所述的左腮盖31、右腮盖32、上盖体33以及下盖体34分别设置有通气网35，所述的左腮盖31、右腮盖32、上盖体33以及下盖体34分别套设在对应的左腮凹槽、右腮凹槽12、上凹槽13以及下凹槽14上，使得外盖板3贴合在支撑面1上，所述的固定带的两端分别与支撑面1的两侧固定，所述的左腮凹槽、右腮凹槽12内还设置有排气扇36，所述的固定带包括用于套设头上部一圈的上带体41以及用于套设在颈部一圈的下带体42，所述的过滤片包括用于拒水无纺布层21、静电吸附棉22、活性炭纤维层23以及亲水无纺布层24，所述的拒水无纺布层21、静电吸附棉22、活性炭纤维层23以及亲水无纺布层24由外向内依次设置，所述的支撑面1以及外盖板3采用聚丙烯塑料制成。

[0017] 本实用新型一种肺结核医用口罩的结构特点：所述的左腮凹槽、右腮凹槽12、上凹槽13以及下凹槽14上分别设置拒水无纺布层21、静电吸附棉22、活性炭纤维层23以及亲水无纺布层24，拒水无纺布层21有效隔离空气中的水分，静电吸附棉22对空气中的微小微生物颗粒进行吸附，活性炭活性炭纤维层23对空气中的颗粒进行进一步吸附，同时亲水无纺布层24对呼出的空气水汽进行吸附并吸附在活性炭纤维层23上，所述的左腮片51、右腮片52、上片体53以及下片体54分别设置在左腮凹槽、右腮凹槽12、上凹槽13以及下凹槽14内，对外部空气进行吸附隔离，在使用结束后，对过滤片进行收集并统一进行医用无公害处理，同时对支撑面1以及外盖体进行紫外线以及高温消毒的处理，用于重复使用，本实用新型结构设计合理，在使用过程中，过滤片为一次性使用，用于过滤空气中的细小病菌，同时所述的支撑面1以及外盖板3构成的主体可多次使用，采用聚丙烯塑料耐高温，在使用中可进行紫外线以及高温消毒，解决了传统的一次性口罩的用量大，造成医院的费用支出大的问题。

[0018] 本说明书中所描述的以上内容仅仅是对本实用新型所作的举例说明。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，只左腮片、右腮片、上片体以及下片体要不偏离本实用新型说明书的内容或者超越本权利要求书所定义的范围，均应属于本实用新型的保护范围。

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