专利汇可以提供高密度光盘及其记录用的化合物专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且一种具有如下式(2)的高 密度 光盘记录用化合物:其中A3、A4为C5至C20的芳香族基(aryl)或杂环基(heteroaryl),该芳香族基或杂环基的环上可选择性地具有一个或多个取代基;R1与R2为氢 原子 、卤素、或C1至C10的烷基或芳香族基;B为Ar或n为1至4,n′为0至4。以本 发明 的高密度光盘记录用化合物制作的高密度光盘及其制作方法亦一并提供。,下面是高密度光盘及其记录用的化合物专利的具体信息内容。
1.一种具有如下式(2)的高密度光盘记录用化合物:式(2)其中A3、A4为C5至C20的芳香族基(aryl)或杂环基(heteroaryl),该芳香族基或杂环基的环上可选择性地具有一个或多个取代基;R1与R2为氢原子、卤素、或C1至C10的烷基或芳香族基;B为Ar或n为1至4,n′为0至4。
2.如权利要求1所述的高密度光盘记录用化合物,其特征在于,其中A3与A4选自由具有一个或多个取代基的苯基、苯甲酰基、茀基、萘基、吲哚基、苯吲哚基、噻茆基、和酚基所组成的群组,且该取代基选自由C1-C10烷基,C1-C10烷氧基,硝基、卤基、二乙氧基甲基、二烷基胺基、环烷基、和氰基所组成的群组。
3.如权利要求1所述的高密度光盘记录用化合物,其特征在于,其中n为1至2的整数。
4.如权利要求1所述的高密度光盘记录用化合物,其特征在于,其中n′为0至2的整数。
5.一种高密度光盘的制作方法,主要包括以下步骤:(A)提供一含有至少一沟槽的基板;(B)提供一具有如下式(2)的化合物:式(2)其中A3、A4为C5至C20的芳香族基(aryl)或杂环基(heteroaryl),该芳香族基或杂环基的环上可选择性地具有一个或多个取代基;R1与R2为氢原子、卤素、或C1至C10的烷基或芳香族基;B为Ar或n为1至4,n′为0至4;(C)将该化合物溶于有机溶剂或高分子溶液中,形成一溶液;(D)将该溶液涂布于该基板上并烘干,以形成一记录层;以及(E)于该记录层上涂布一保护层。
6.如权利要求5所述的制作方法,其特征在于,其中A3与A4选自由具有一个或多个取代基的苯基、苯甲酰基、茀基、萘基、吲哚基、苯吲哚基、噻茆基、和酚基所组成的群组,且该取代基选自由C1-C10烷基,C1-C10烷氧基,硝基、卤基、二乙氧基甲基、二烷基胺基、环烷基、和氰基所组成的群组。
7.如权利要求5所述的制作方法,其特征在于,其中n为1至2。
8.如权利要求5所述的制作方法,其特征在于,其中n′为0至2。
9.如权利要求5所述的制作方法,其特征在于,其中该有机溶剂为醇类或酮类。
10.如权利要求5所述的制作方法,其特征在于,其中于步骤(D)之前或之后还包含一步骤(D′)于该基板上形成一反射层。
11.如权利要求10所述的制作方法,其特征在于,其中步骤(D′)为以溅镀的方式形成该反射层。
12.一种高密度光盘,主要包含:一含有至少一沟槽的基板;一记录层,位于该基板的一侧,该记录层含有如下式(2)的化合物:式(2)其中A3、A4为C5至C20的芳香族基(aryl)或杂环基(heteroaryl),该芳香族基或杂环基的环上可选择性地具有一个或多个取代基;R1与R2为氢原子、卤素、或C1至C10的烷基或芳香族基;B为Ar或n为1至4,n′为0至4;以及一保护层,位于该记录层的一侧;其中该记录层位于该基板与该保护层之间。
13.如权利要求12所述的光盘,其特征在于,其中A3与A4选自由具有一个或多个取代基的苯基、苯甲酰基、茀基、萘基、吲哚基、苯吲哚基、噻茆基、和酚基所组成的群组,且该取代基选自由C1-C10烷基,C1-C10烷氧基,硝基、卤基、二乙氧基甲基、二烷基胺基、环烷基、和氰基所组成的群组。
14.如权利要求12所述的光盘,其特征在于,其中n为1至2。
15.如权利要求12所述的光盘,其特征在于,其中n′为0至2。
16.如权利要求12所述的光盘,其特征在于,其中该基板与该记录层间形成有一反射层。
17.如权利要求12所述的光盘,其特征在于,其中该记录层与该保护层间形成有一反射层。
18.如权利要求17所述的光盘,其特征在于,其中形成该反射层的方法为溅镀。
本申请是申请号03103513.2的分案申请。
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