纳米非晶低钕复相钕铁硼的制作方法
专利汇可以提供纳米非晶低钕复相钕铁硼的制作方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 公开的了一种纳米非晶低钕复相钕 铁 硼 的制作方法，将低钕 磁性 相和纳米富钕相分开来制作，制得的低钕磁性相 合金 粉末为晶体态，浸在矿物油中进行 氧 化保护；制得的纳米富钕相合金粉末为非晶体态，不易被氧化；通过这种方式能够有效地对低钕磁性相和纳米富钕相进行氧化保护，因此在配料的时候无需多增加稀土的含量；另外，方便实现操纵控制微观组织结构的目的。从而能够实现纳米低钕复相钕铁硼的制作，大大降低了钕铁硼的材料成本，也提高了钕铁硼的剩磁和能积，磁体 矫顽 力 也相对较高。而且本发明的制作方法，还可以通过低钕磁性相粉体和纳米富钕相粉体的混料比例来调整产品的性能，生产出不同规格的产品，使不同产品生产更加方便。，下面是纳米非晶低钕复相钕铁硼的制作方法专利的具体信息内容。
1.一种纳米非晶低钕复相钕铁硼的制作方法，它包括以下步骤：
a、制作低钕磁性相，它包括以下步骤：
①、配料；按重量百分比为PrNd 20~30%，B 0.93~1.32%，Cu 0.05~0.3%，Ga 0.1~0.9%， Tb 0.05~2.0%，Co 0.5~8%，Ti 0.1~1.5%， Nb0.2~1.6%，余量为Fe的比例配料；
②、将步骤①配好的原材料进行甩片加工，形成铸片；
③、将步骤②所得铸片进行氢碎制粉，得到粒度为0.5mm以下的颗粒；
④、将步骤③氢碎好的粉料进行气流磨制粉，粉料粒度磨到1.5~2um；并将制好的粉料浸在矿物油中备用；
b、制作纳米富钕相，它包括以下步骤：
、配料；按重量百分比为：PrNd 25~35%，B 0.5~1%，Cu 0.01~1.0%，Dy 20~40%， Co
30~40%，Ti 0.1~1.5%， Nb0.2~1.6%，余量为Fe的比例配料；
、将步骤（1）配好的原材料进行甩片加工，得到非晶薄片；
、将步骤（2）所得非晶薄片进行氢碎制粉，得到粒度为0.5mm以下的颗粒；
、将步骤（3）氢碎好的粉料进行气流磨制粉，粉料粒度磨到0.5~2.0um；
c、混料；将低钕磁性相粉料和纳米富钕相粉料按比例进行混料；低钕磁性粉料:纳米富钕相粉料=85~98:15~2；
d、将步骤c混合后的粉料进行成型压制，得到成型产品；
e、将步骤d所得的成型产品进行脱油、脱气、真空烧结；最终得到纳米非晶低钕复相钕铁硼。
2.根据权利要求1所述的纳米非晶低钕复相钕铁硼的制作方法，其特征在于：所述的步骤a的步骤②中，将所述的配好的原材料装入真空感应熔炼炉，抽真空至0.05~0.1Pa，在氩气保护下加热到1700~1800℃，精炼4~6分钟；然后浇注到旋转的铜轮上进行冷却浇注成铸片，控制好冷却水的温度在20~30℃，铸片厚度在0.3~0.5mm之间。
3.根据权利要求1所述的纳米非晶低钕复相钕铁硼的制作方法，其特征在于：所述的步骤a的步骤③中，将所述的铸片装入氢碎炉内，抽真空0.05~0.1Pa，加热到100~300℃，充入氢气至氢碎炉内，气压0.8~1.2atm，开始氢碎1.5~2.5小时；然后抽真空脱氢，脱氢温度
500~600℃，时间2~10小时，得到粒度为0.5mm以下的颗粒。
4.根据权利要求1所述的纳米非晶低钕复相钕铁硼的制作方法，其特征在于：所述的步骤a的步骤④中，气流磨制粉时，磨粉压力5~7atm，分级轮转速：3000~4500rpm，进粉量
30~40kg/h，氧含量10~40ppm，粒度磨到3~5um；再用球磨机粉碎到1.5~2um。
5.根据权利要求1所述的纳米非晶低钕复相钕铁硼的制作方法，其特征在于：所述的步骤b的步骤（2）中，将所述的原材料装入真空感应非晶甩带炉，抽真空至0.05~0.1Pa，在氩气的保护下加热到1700~1800℃，精炼4~6分钟；然后浇注到高速旋转的铜轮上，得到非晶薄片，控制好冷却水的温度在20~30℃，铸片厚度在0.15~0.25毫米之间。
6.根据权利要求1所述的纳米非晶低钕复相钕铁硼的制作方法，其特征在于：所述的步骤b的步骤（3）中，将所述的铸片装入氢碎炉内，抽真空0.05~0.1Pa，加热到100~300℃，充入氢气至氢碎炉内，气压0.8~1.2atm，开始氢碎1.5~2.5小时；然后抽真空脱氢，脱氢温度500~600℃、时间2~10小时。
7.根据权利要求1所述的纳米非晶低钕复相钕铁硼的制作方法，其特征在于：所述的步骤b的步骤（4）中，气流磨制粉时，磨粉压力4~7atm，分级轮转速：3000~4500rpm，进粉量
30~40kg/h，氧含量10~40ppm。
8.根据权利要求1所述的纳米非晶低钕复相钕铁硼的制作方法，其特征在于：在步骤d中，将所述的粉料在磁场中开放成型，磁场强度17000~25000奥斯特，充磁三到五次取向；
将成型后的产品再经等静压200~260MPa提高密度。
9.根据权利要求1所述的纳米非晶低钕复相钕铁硼的制作方法，其特征在于：在步骤e中，真空烧结时，真空度：0.01~0.04Pa、温度：1020~1120℃，时间：280~320分钟；再进行时效处理：一级时效：800~930℃x120-240分钟；二级时效：460~600℃x120-360分钟。
纳米非晶低钕复相钕铁硼的制作方法
技术领域
背景技术
料，具有高剩磁、高能积（理论磁能积：1090Kj/m）的优点。纳米低钕复相钕铁硼中稀土元素含量低，微观组织结构中除存在钕铁硼硬磁相外，还有纳米金属富钕相，故可明显降低原材料成本，大大节约了稀土资源。但是纳米低钕复相钕铁硼中稀土元素降低了，剩磁含量就增高了，原本钕铁硼就具有易氧化、不能抗高温的弱点，纳米低钕复相钕铁硼就更加容易氧化了。因此，用传统制备钕铁硼粉末的工艺无法用来制备纳米低钕复相钕铁硼。
发明内容
①、配料；按重量百分比为PrNd 20~30%，B 0.93~1.32%，Cu 0.05~0.3%，Ga 0.1~0.9%， Tb 0.05~2.0%，Co 0.5~8%，Ti 0.1~1.5%， Nb0.2~1.6%，余量为Fe的比例配料；
②、将步骤①配好的原材料进行甩片加工，形成铸片；
③、将步骤②所得铸片进行氢碎制粉，得到粒度为0.5mm以下的颗粒；
④、将步骤③氢碎好的粉料进行气流磨制粉，粉料粒度磨到1.5~2um；并将制好的粉料浸在矿物油中备用；
b、制作纳米富钕相，它包括以下步骤：
（1）、配料；按重量百分比为：PrNd 25~35%，B 0.5~1%，Cu 0.01~1.0%，Dy 20~40%， Co
30~40%，Ti 0.1~1.5%， Nb0.2~1.6%，余量为Fe的比例配料；
（2）、将步骤（1）配好的原材料进行甩片加工，得到非晶薄片；
（3）、将步骤（2）所得非晶薄片进行氢碎制粉，得到粒度为0.5mm以下的颗粒；
（4）、将步骤（3）氢碎好的粉料进行气流磨制粉，粉料粒度磨到0.5~2.0um；
c、混料；将低钕磁性相粉料和纳米富钕相粉料按比例进行混料；低钕磁性粉料:纳米富钕相粉料=85~98:15~2；
d、将步骤c混合后的粉料进行成型压制，得到成型产品；
e、将步骤d所得的成型产品进行脱油、脱气、真空烧结；最终得到纳米非晶低钕复相钕铁硼。
1.5~2um。
460~600℃x120-360分钟。
具体实施方式
①、配料。按重量百分比为PrNd 20~30%，B 0.93~1.32%，Cu 0.05~0.3%，Ga 0.1~0.9%， Tb 0.05~2.0%，Co 0.5~8%，Ti 0.1~1.5%， Nb0.2~1.6%，余量为Fe的比例配料。
30~40%，Ti 0.1~1.5%， Nb0.2~1.6%，余量为Fe的比例配料。
0.15~0.25毫米之间。
①、配料。按重量百分比为PrNd 27.2%，B 1.05%，Cu 0.05%，Ga 0.11%， Tb 0.3%，Co
1.2%，Ti 1.5%， Nb 0.3%，Fe 68.29%的比例配料。
Hcj：995kA/m
3
(HB)Max：444.16kJ/m
Hk：960.2 kA/m
| 标题 | 发布/更新时间 | 阅读量 |
|---|---|---|
| 一种碳化硼生产用降温装置 | 2020-05-13 | 609 |
| 一种碳化硼原料的混合方法 | 2020-05-13 | 486 |
| 一种纤维增强型碳化硼喷嘴 | 2020-05-12 | 970 |
| 一种碳化硼喷头及其制备方法 | 2020-05-12 | 881 |
| 用钠硼解石制造硼酸钙的方法 | 2020-05-11 | 887 |
| 硼酸镁晶须的制备方法 | 2020-05-11 | 508 |
| 一种用硼酸母液制备速溶硼的工艺 | 2020-05-11 | 70 |
| 一种碳化硼-氟化钙复合的陶瓷喷嘴 | 2020-05-13 | 918 |
| 一种低品位含镁硼精矿制备轻质碳酸镁联产硼砂或硼酸的方法 | 2020-05-11 | 40 |
| 一种碳化硼-碳化钨复合的陶瓷喷嘴 | 2020-05-13 | 501 |
高效检索全球专利专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台，是提供专利分析，专利查询，专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。
我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据，免费查、免费专利分析。
专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析，涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度，系统通过AI智能系统对图表进行解读，只需1分钟，一键生成行业专利分析报告。
